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EXPOSERを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 29



例文

CHEMICAL SUBSTANCE EVALUATION METHOD AND EXPOSER例文帳に追加

化学物質評価方法及び暴露装置 - 特許庁

LINEAR MOTOR, STAGE DEVICE AND EXPOSER例文帳に追加

リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置 - 特許庁

POSITIONING APPARATUS, EXPOSER, AND METHOD OF MANUFACTURING THAT APPARATUS例文帳に追加

位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

COIL MODULE, COIL UNIT, LINEAR MOTOR, STAGE DEVICE, AND EXPOSER例文帳に追加

コイルモジュール、コイルユニット、リニアモータ、ステージ装置及び露光装置 - 特許庁

例文

APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF EXPOSURE DRUM IN PRINTING PLATE EXPOSER例文帳に追加

版板露光器内で感光ドラムを温度調節するための装置 - 特許庁


例文

ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM, EXPOSER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

反射防止膜、光学素子、光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR HANDLING PRINTING PLATE, AND PRINTING PLATE EXPOSER HAVING THE APPARATUS例文帳に追加

刷版を取り扱うための方法及び装置及び該装置を備えた版露光機 - 特許庁

ELECTROSTATIC CHUCK, STAGE, BOARD PROCESSOR, AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

静電チャック、ステージ、基板処理装置、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

The resist film is exposed in the desired pattern shape with a KrF excimer laser exposer (step S2).例文帳に追加

次いで、KrFエキシマレーザ露光機にて所望のパターン形状にレジスト膜を露光する(ステップS2)。 - 特許庁

例文

POSITION DETECTION METHOD, EXPOSURE METHOD, EXPOSER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, PROGRAM, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

位置検出方法、露光方法及び露光装置、デバイス製造方法、並びにプログラム及び情報記録媒体 - 特許庁

例文

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING LENGTH CHANGE OF FEED SPINDLE IN EXPOSER FOR RECORDING PRINT ORIGINAL例文帳に追加

印刷原稿を記録するための露光器において送りスピンドルの長さ変化を測定するための装置及び方法 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck which can exchange a wafer quickly and can enhance the throughput, a charged particle beam exposer, and others.例文帳に追加

素早くウェハの交換を行うことができ、スループットの向上を実現できる静電チャック、荷電粒子線露光装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical substance evaluation method for precisely evaluating the effect of a chemical substance on a living thing and an exposer used in this.例文帳に追加

化学物質による生物への影響を的確に評価できる化学物質評価方法及びそれに用いる暴露装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a small-sized laser exposer wherein the life of a semicon ductor laser is improved and the exchanging frequency of a semiconductor laser is reduced.例文帳に追加

小型で、半導体レーザの寿命が延び、半導体レーザの交換頻度が減少するレーザ露光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

A film, which is transparent to the light emitted from the light source of a projecting exposer, is stuck on the topside of a projecting lens, and a barrier against generated organic gas is provided.例文帳に追加

投影レンズの上面に、投影露光装置の光源から発する光に対して透明な薄膜を貼り付け、発生有機ガスに対する障壁を設けた。 - 特許庁

The electronic paper sheets 31 and 31b are of a display medium built up of a photochromic material and visible light is made to irradiate the surface from the exposer 61 to form images.例文帳に追加

この電子ペーパ31,31bは、フォトクロミック材料から構成される表示媒体であり、この表面に露光器61から可視光を照射して画像を形成する。 - 特許庁

A vacuum pod load chamber capable of handling the mask placed in a vacuum pod is provided in a group including an exposer, an inspecting device and a cleaner.例文帳に追加

露光装置、検査装置、洗浄装置を含む装置群には、マスクを真空ポッドに入れた状態でマスクをハンドリングして各処理室へ送ることが可能な真空ポッドロード室が設置されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask pattern having a fine pattern equal to or below the optical limit of an exposer or the like and to provide a method for making thin film patterning fine with the mask pattern.例文帳に追加

露光器などの光学的限界以下の狭小なパターンを有するマスクパターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative lithographic printing plate precursor which enables image recording by laser exposer and on-machine development, and exhibits an excellent chemical resistance and a strong printing resistance, even in UV ink printing.例文帳に追加

レーザー露光による画像記録及び機上現像が可能であり、耐薬品性に優れ、UVインキ印刷においても耐刷力の大きいネガ型平版印刷版原版を提供することである。 - 特許庁

This display device 1 disposed above a game machine island 3 has display parts 30a and 30b making up a display screen, display support plates 21a and 21b for supporting the display parts 30a and 30b and an exposer 61.例文帳に追加

遊技機島3の上方に設置される表示装置1は、表示画面を構成する表示部30a,30bと、表示部30a,30bを支持する表示支持板21a,21bと、露光器61を備える。 - 特許庁

To optimally set a line width about a photopolymer recording material and a profile of a prescribed laser beam in an exposer and to prevent an area with a low exposure degree from occurring between adjacent image lines to each other.例文帳に追加

フォトポリマー記録材料および所定のレーザービームのプロフィルについて線幅を露光機内で最適に調整でき、隣接する画像線どうしのあいだに露光の度合の低い領域を生じないようにする。 - 特許庁

To provide a plate making method for a photopolymerizable planographic printing plate which eliminates reflected light fog liable to occur in an inner drum type exposer in direct plate making using short-wavelength laser light, can obtain a clear image and has high printing durability.例文帳に追加

短波レーザー光を用いたダイレクト製版においてインナードラム型露光機に生じ易い反射光カブリをなくし、鮮明な画像を得ることができ、かつ高い耐刷性を有する光重合性平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of exposure-processing a semiconductor using an updated correction in case the correction obsolesced, judging whether a specified time has passed (obsolesced) or not, after the correction of an exposer is computed the last time, at the point of time of exposure-processing it.例文帳に追加

露光処理する時点において、露光装置の補正値が前回算出された後、所定時間経過した(陳腐化した)かどうかを判定して、陳腐化した場合に、更新された補正値を用いて露光処理する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a call device and a cheat monitoring system in which the detection of a fraudulent act is made easy, the exposer as a crime is made easy by clearly photographing the fraudulent act and the face of a person committing, a fraudulence, moreover, its introducing cost can be sharply reduced.例文帳に追加

不正行為の発見を容易にすると共に、不正行為や不正行為者の顔を鮮明に撮影して犯罪としての摘発を容易にし、しかも、その導入コストを大幅に削減することができる呼び出し装置及び不正監視システムを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate material, with which the formation of an image is possible with no special development treatment, no pollution of an exposer by scattering matters at the exposure of which occurs, which is excellent in handling highly sensitive and shows a favorable printability over a wide exposing energy range.例文帳に追加

特別な現像処理を行うことなく画像形成が可能で、露光時の飛散物による露光機汚染がなく取り扱い性に優れ、かつ高感度で幅広い露光エネルギー範囲にわたって良好な印刷適性を示す感光性平版印刷版材料を提供することにある。 - 特許庁

An image forming apparatus 5 is obtained by arranging the photoreceptor 1, a corona charger 6, an exposer 7, a developing machine 9, a transfer unit 11, a cleaning means 12 and a charge eliminating means 13, and a liquid toner having ≤3 μm average particle diameter is used for forming a liquid toner image.例文帳に追加

そして、画像形成装置5によれば、感光体1と、コロナ帯電器6と、露光器7と、現像機9と、転写器11と、クリーニング手段12と、除電手段13とを配設し、液体トナ−像の形成に使用されるトナ−の平均粒径が3μm以下の液体トナ−としている。 - 特許庁

In the image recording method on a silver salt photothermographic dry imaging material, when an image is recorded by exposing the silver salt photothermographic dry imaging material to scanning laser light of a laser light scanning exposer, the material is simultaneously exposed to 2 to 10 beams of laser light overlapped with a shift corresponding to 5 to 95% of the diameter of the beams.例文帳に追加

銀塩光熱写真ドライイメージング材料にレーザー光走査露光機の走査レーザー光による露光により画像を記録する際に、2本以上10本以下のレーザー光ビームをビーム光径の5〜95%ずらして重ね合わせて同時に露光することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料への画像記録方法。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.例文帳に追加

カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、ペリレン、ナフト〔2,3−a〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔b,def〕クリセン、9,10−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも1種の化合物(D)を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁

例文

A photosensitive dry film resist which can be exposed with an ordinary exposer and can finely be patterned is provided by using a photosensitive resin composition comprising (A) a soluble polyimide, (B) a compound having a carbon-carbon double bond and (C) a photoreaction initiator as essential components, wherein the component (C) absorbs light of 400-450 nm wavelength and generates a radical.例文帳に追加

(A)可溶性ポリイミド、(B)炭素−炭素二重結合を有する化合物、(C)光反応開始剤を必須成分として含有し、(C)成分が400nm〜450nmの波長を吸収してラジカルを発生することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることにより、通常の露光機により、露光可能で、微細なパターンを描くことが出来る感光性ドライフィルムレジストを提供することができる。 - 特許庁




  
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