「Fresnel pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A pattern for the same purpose as the first means can be formed on the rear side of the Fresnel screen.例文帳に追加

また、前記フレネルスクリーンの背面に前記第１手段と同じ目的のパターンが形成されうる。 - 特許庁

The position on the substrate where the Fresnel zone plate pattern is transferred changes according with the defocus amount of the system.例文帳に追加

基板上におけるフレネルゾーンプレートパターンの転写位置は、露光装置のデフォーカス量によって変動する。 - 特許庁

The far field radiation pattern is found by subtracting error electric field pattern calculated theoretically from the measured result in the Fresnel region.例文帳に追加

フレネル領域における測定結果から、理論的に計算される誤差電界パターンを引き算することによって遠方界放射パターンを求める。 - 特許庁

An exposure mask comprises a mask pattern which is transferred to a substrate through a projection optical system of the exposure system and includes a Fresnel zone plate pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンはフレネルゾーンプレートパターンを含む。 - 特許庁

The first mask pattern 21 is a pattern having a light condensing function and such a property that the amount of exposing radiation on a transfer body changes depending on focus variation, wherein the first mask pattern is a two-dimensional Fresnel zone pattern.例文帳に追加

第１のマスクパターン２１は、集光作用を有し、被転写体に対する露光照射量が焦点変動に依存して変化する性質を有するパターンであり、ここでは２次元のフレネル輪帯パターンとされている。 - 特許庁

The first surface 221 is bonded together with the translucent substrate 21 and the second surface 222 has at least one Fresnel pattern region 2221.例文帳に追加

第１表面２２１は、透光基板２１と貼り合って、第２表面２２２は、少なくとも一つのフレネルパターン領域２２２１を有する。 - 特許庁

To provide glass for a fresnel lens having characteristics suitable for a fresnel lens utilized for an apparatus represented by a light-focusing solar cell and easily formable of a pattern for light-focusing by a direct press method or a reheat press method.例文帳に追加

集光式太陽電池に代表される装置に利用されるフレネルレンズに適した特性を持ち、かつ、ダイレクトプレス法又はリヒートプレス法による集光用パターンの形成を容易にできるフレネルレンズ用ガラスが求められている。 - 特許庁

The lights separated from the separate Fresnel lenses are interfered with each other resulting in an optical pattern whose spatial frequency is f1 at an incident face of a spatial filter group 26 and propagated through an optical pattern transmission medium 24.例文帳に追加

別々のフレネルレンズを透過した光は干渉し合い、空間フィルタ群２６の入射面において空間周波数がｆ１となる光パターンとなって、光パターン伝送媒体２４内を伝送する。 - 特許庁

An approximate expression acquired by approximating an amount-of-light distribution pattern by Fresnel diffraction is filtered through the use of the spatial filter to determine a filtered approximate expression.例文帳に追加

またフレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式を上記空間フィルタを用いてフィルタリングしてフィルタリング近似式を求める。 - 特許庁

Especially, the sum total of the absolute value of the difference of the light quantity between the normalized output from the line sensor and the approximate expression of the Fresnel diffraction pattern is calculated as the correlation value.例文帳に追加

特にラインセンサの正規化出力とフレネル回折パターンの近似式との光量の差の絶対値の総和を相関値として計算する。 - 特許庁

A concentric circular FZP pattern portion 101 is provided on a Ta film on an SiN film by an electron beam drawing technique or the like to form a Fresnel zone plate (FZP) 100.例文帳に追加

ＳｉＮ膜上のＴａ膜上に電子線描写などの手法により同心円状のＦＺＰパターン部分１０１を設けてフレネルゾーンプレート（ＦＺＰ）１００とする。 - 特許庁

By radiating an ultraviolet ray UV or an electron beam EB through a transparent body 1 having a mosaic pattern, a curing lowering part 5 whose curing degree is partially lowered correspondingly to the mosaic pattern is formed in the Fresnel lens part 11.例文帳に追加

モザイク模様を有する透明体１を介して紫外線ＵＶまたは電子線ＥＢを照射することによって、フレネルレンズ部１１に、前記モザイク模様に対応して部分的に硬化度の低下した硬化低下部５が形成されている。 - 特許庁

A Fresnel lens 8 for turning light for exposure 7a from a light source 6 into a parallel light 7b is arranged between a mask for exposure 4 and the light source 6, and a light sensing film at the inner plane of a substrate 3 is exposed in an intended pattern by making the Fresnel lens 8 rock in a direction of the inside of the plane by a rocking means 9.例文帳に追加

露光用マスク４と光源６との間に、該光源６からの露光光７ａを平行光７ｂにするためのフレネルレンズ８を配置し、フレネルレンズ８を揺動手段９により面内方向に揺動させて、平行光７ｂにより基板３の内面の感光性塗膜を所要パターンに露光する。 - 特許庁

A transmission node 12A allows a light source 16 to generate a temporally changing light on the basis of a desired signal and an optical pattern generating section 18 uses two Fresnel lenses to transmit this light.例文帳に追加

送信ノード１２Ａでは、光源１６において所望の信号に基づいて時間的に変化する光を生成し、光パターン生成部１８において、この光を２つのフレネルレンズに分けて透過する。 - 特許庁

A storage unit 21A included in the driving unit 21A stores a plurality of basic holograms corresponding to a plurality of basic processing patterns and a focusing hologram corresponding to a Fresnel lens pattern.例文帳に追加

駆動部２１に含まれる記憶部２１Ａは、複数の基本加工パターンそれぞれに対応する複数の基本ホログラムを記憶するとともに、フレネルレンズパターンに相当する集光用ホログラムを記憶する。 - 特許庁

The edge position determined from a light quantity distribution pattern of fresnel diffraction detected by a line sensor is corrected according to the thickness δ of the object in the optical axis direction of monochrome parallel light and detection distance (z).例文帳に追加

ラインセンサにて検出されたフレネル回折の光量分布パターンから求められるエッジ位置を、単色平行光の光軸方向における物体の厚みδ、およびその検出距離ｚに応じて補正する。 - 特許庁

By arranging prisms 2 in a Fresnel pattern, that is, in arcs, the screen does not reflect external light OL from above and can form an image with high contrast even when used in a bright room or the like.例文帳に追加

また、各プリズム２をフレネル状の配列即ち円弧状に並列した配列とすることで、上方からの外光ＯＬを反射させず、明るい部屋等での使用においても、コントラストの高い画像を形成することも可能となっている。 - 特許庁

Especially, the object is considered as two knife edges disposed separately by distance δ in the optical axis direction, multiple fresnel diffraction is considered to occur in these knife edges, the light quantity distribution pattern detected by the line sensor is analyzed.例文帳に追加

特に物体を光軸方向に距離δを隔てて設けられた２枚のナイフエッジと看做し、これらのナイフエッジにおいてフレネル回折が多重に生じたとしてラインセンサにて検出された光量分布パターンを解析する。 - 特許庁

To provide a transmission-type screen with which the deterioration of a video quality is prevented by preventing the occurrence of an irregular fingerprint-like defective pattern, because especially the Fresnel lens apex part of the peripheral part at a screen effective area is crushed and deformed by a lenticular lens sheet, in the transmission-type screen constituted by combining the lenticular lens sheet and a Fresnel lens sheet.例文帳に追加

本発明は、レンチキュラーレンズシートとフレネルレンズシートとを組み合わせ構成される透過型スクリーンにおいて、スクリーン有効領域における特に周辺部のフレネルレンズ頂部がレンチキュラーレンズシートに押し潰されて変形して生ずる不規則な指紋状の欠陥パターンの発生を防止し、映像画質の劣化を防止する透過型スクリーンを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for eliminating the need for measuring the electric field distribution of the total steric surface surrounding a measured antenna and directly, conveniently and accurately calculating the far-field radiation pattern, from a measured result in a short-distance Fresnel region of one required plane.例文帳に追加

被測定アンテナを取り囲む全立体面の電界分布の測定を必要とせず、また、必要な１つの平面内の近距離フレネル領域での測定結果から直接、遠方界放射パターンを簡便に精度よく計算できる方法を提供する。 - 特許庁

The condensing can be increased in comparison with the conventional device by forming a Fresnel lens pattern 18 for collimating the laser beam L3 from the light emitting parts of the semiconductor laser array 11 correspondingly to the laser emitting parts by etching.例文帳に追加

半導体レーザアレイ１１の各レーザ発光部から出射されたレーザ光Ｌ３をコリメートするためのフレネルレンズパターン１８を、エッチングを用いて各レーザ発光部に対応して形成させることにより、従来よりも集光性能を高めることが可能になる。 - 特許庁

The respective Fresnel lenses 3 use a plurality of radiation directions inclined from the optical axis of the light emitting diode 1 as their optical axis directions and form a light distribution pattern F of desired illuminance on the irradiation surface, and are so arranged as to surround the light emitting diode 1 on the front side of the light emitting diode 1.例文帳に追加

各フレネルレンズ３は、発光ダイオード１の光軸から傾いた複数の照射方向それぞれを光軸方向とし照射面へ所望の照度の配光パターンＦを形成するレンズであり、発光ダイオード１の前方側で発光ダイオード１を囲むように配置する。 - 特許庁

The thin photodetector module 1 is constituted by mounting an integrated circuit component 13 and a photoelectric converter 14 on an organic film 11, by connecting to a wiring pattern 12 and forming a focusing optical system having a Fresnel band 23 and a lens on a predetermined surface of the film 11.例文帳に追加

有機フィルム１１に配線パターン１２に接続して集積回路部品１３及び光電変換素子１４を取り付けると共に、有機フィルム１１の所定表面にフレネル帯体２３やレンズによる結像光学系を形成して薄型の受光モジュール１に構成する。 - 特許庁

Each correlation between a normalized light quantity distribution acquired by normalizing an output from the line sensor and an approximate expression acquired by approximating a light quantity distribution pattern by Fresnel diffraction is calculated, respectively, by differentiating a reference position in the approximate expression, and a position where a correlation value is peaked is detected as the edge position of a detection object.例文帳に追加

ラインセンサの出力を正規化処理した正規化光量分布と、前記フレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式との相関を該近似式における基準位置を異ならせてそれぞれ計算し、相関値がピークとなる位置を前記被検出体のエッジ位置として検出する。 - 特許庁