Geを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1096件
This negative electrode material consists of an amorphous phase of Si and/or Ge, or of this amorphous phase and a solid solution or a phase of intermetallic compound of Si and/or Ge.例文帳に追加
Siおよび/またはGeの非結晶質相、またはこれとSiおよび/またはGeの固溶体または金属間化合物の相とからなる負極材料。 - 特許庁
A specific operator for the version, this can be one of: 'has', 'not', 'lt', 'le','eq', 'ne', 'ge', or 'gt' 例文帳に追加
バージョンに対応する演算子で、'has'・'not'・'lt'・'le'・'eq'・'ne'・'ge' あるいは 'gt' のうちのひとつ。 - PEAR
AMORPHOUS Ge/Te DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
非晶質Ge/Te蒸着方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING Ge FILM-PROVIDED SOI SUBSTRATE, AND Ge FILM-PROVIDED SOI SUBSTRATE例文帳に追加
Ge膜付きSOI基板の製造方法及びGe膜付きSOI基板 - 特許庁
His rank was Jugoi-ge (Lower Junior Fifth Rank), Uhyoe no jo (officer of the Right Division of middle Palace Guards). 例文帳に追加
従五位下、右兵衛尉。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Sadamasa TOKI, Jugoi no ge (1593 (Bunroku 2) ~) 例文帳に追加
土岐定政従五位下(文禄2年(1593年)~) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To form an excellent Ge oxide film on a boundary surface of a Ge substrate and an insulating film.例文帳に追加
Ge基板と絶縁膜との界面に、良好なGe酸化膜を形成する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACUTURING SUBSTRATE WITH Ge FINE CRYSTAL NUCLEI AND SUBSTRATE WITH Ge FINE CRYSTAL NUCLEI例文帳に追加
Ge微結晶核付き基板の作製方法及びGe微結晶核付き基板 - 特許庁
This Article "Ge-shiki" was put here to specify documentary forms of official documents called "ge" that were submitted by lower-ranked governmental officials to their superiors. 例文帳に追加
解式(解(下級官司より所属の上級官司へ)の書式) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Masanobu TAKEKOSHI, Jugoi no ge (1611 (Keicho 16) ~) 例文帳に追加
竹腰正信従五位下(慶長16年(1611年)~) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
array( 'name' = package name 'type' = 'pkg' - anything else is an error 'rel' = 'has', 'ge', 'le', 'lt', 'le', 'not', 'ne' ['version' = specific version to retrieve,] ) 例文帳に追加
array('name' = パッケージ名,'type' = 'pkg' - これ以外はエラー,'rel' = 'has', 'ge', 'le', 'lt', 'le', 'not', 'ne'['version' = 取得したい特定のバージョン,]) - PEAR
Kitaro, a main character of "Ge Ge Ge no Kitaro (Kitaro in the Graveyard)" created by Shigeru MIZUKI, is set as a child of this ghost. 例文帳に追加
水木しげるの『ゲゲゲの鬼太郎(墓場の鬼太郎)』の主人公、鬼太郎はこの幽霊の子供という設定になっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In 862, he was created Ge-jugoinoge (Junior Fifth Rank, Lower Grade, given to persons outside Kyoto). 例文帳に追加
862年に外従五位下に叙された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Then, Ge ions are injected from the front surface side of the Ge epitaxial film 11.例文帳に追加
続いて、Geエピタキシャル膜11の表面側からGeをイオン注入をおこなう。 - 特許庁
The adhesion interfacial layer is formed from a Ge-N or Ge-O-N substance.例文帳に追加
前記粘着界面層は、Ge−NまたはGe−O−N物質から形成される。 - 特許庁
DEPOSITION OF GROUP III-NITRIDES ON GE例文帳に追加
III族−窒化物のGe上への形成 - 特許庁
He was appointed to Ge-jugoinoge (Jugoinoge [Junior Fifth Rank, Lower Grade] given to persons outside Kyoto) in 862. 例文帳に追加
862年に外従五位下に叙された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
GE NANOPARTICLE AND BIOSUBSTANCE LABELLING AGENT例文帳に追加
Geナノ粒子、及び生体物質標識剤 - 特許庁
Thus, a substitution of a Ge atom to a Ga atom position and a suppression of generation of an N vacancy are sufficiently executed, and hence an activity as a toner of an impurity Ge atom can be improved.例文帳に追加
これによりGe原子のGa原子位置への置換と、N原子の空孔発生の抑制を十分に行い、不純物Ge原子のドナーとしての活性を向上させることができる。 - 特許庁
To form a Ge oxide film on a surface of a Ge substrate without generating an in-film deficit.例文帳に追加
膜中欠損を生じさせることなくGe基板の表面にGe酸化膜を形成する。 - 特許庁
This lead-free solder alloy is composed of, by weight, 0.10% Ni, 0.08% Al, 0.06% Ge, 0.2% Bi, 0.2% Ag and the balance Sn.例文帳に追加
Ni:0.10wt%;Al:0.08wt%;Ge:0.06wt%;Bi:0.2wt%;Ag:0.2wt%;残部Snからなる鉛フリー半田合金である。 - 特許庁
Ge is selectively grown on Si while Si is selectively grown on Ge.例文帳に追加
SiをGe上で選択的に成長させる間に、GeをSi上で選択的に成長させる。 - 特許庁
The pulsed laser beam 16 is delivered to the Ge material after going through the second Si lump from the top of the drawing.例文帳に追加
パルスレーザ光16は、図の上方から第2のSi塊を透過してGe材に照射されている。 - 特許庁
METHOD OF DEPOSITING Ge-Sb-Te THIN FILM例文帳に追加
Ge−Sb−Te薄膜蒸着方法 - 特許庁
A Ge solar cell layer may be formed on the other surface of the Si solar cell layer to include a solar cell layer having an InGaP/(In)GaAs/Si/Ge 4-junction structure.例文帳に追加
前記Si太陽電池層の他面にGe太陽電池層を形成し、InGaP/(In)GaAs/Si/Ge4接合構造の太陽電池層を含む構成としてもよい。 - 特許庁
July 24, 1266: Given the rank of Ju shi-i no ge. 例文帳に追加
文永3年(1266年)7月24日、従四位下に叙位。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Then, the substrate is heated to form an (Ni_1-xPt_x)Ge thin film made of three elements, e.g. Ni, Pt and Ge on the Ge substrate.例文帳に追加
その後、熱処理を加えることによって、Ge基板上にNi、Pt、Geの三元素からなる(Ni_1-xPt_x)Ge薄膜が形成された。 - 特許庁
On August 11th, ranked Ju Goi-ge and appointed as Samanokami. 例文帳に追加
8月11日、従五位下に叙し、左馬頭に任官。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
He was given the court rank of Jyu Goi-ge on April 28, 1493. 例文帳に追加
1493年(明応2年)4月28日、従五位下に叙す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Gokan no ge is also called "gokanmon," "shokuji gokanmon" or "shokujikun" in Japanese. 例文帳に追加
五観文、食事五観文、食事訓とも。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In a bipolar transistor using an SiGe mixed crystal layer as a base, the Ge compsns. of an emitter-base junction region and base-collector junction region which is adjacent the base layer are made higher than the Ge compsn. of the base layer.例文帳に追加
SiGe混晶層をベースに用いたバイポーラトランジスタにおいて、ベース層に隣接するエミッタ-ベース接合領域とベース−コレクタ接合領域のGe組成を、ベース層のGe組成よりも高くした構造。 - 特許庁
To provide a Ge light receiving element having high photosensitivity and low dark current characteristics, and to provide a method for manufacturing the same by establishing a method for forming a Ge of a large area and low defect density on an Si substrate.例文帳に追加
Si基板上に大面積且つ低欠陥密度のGeを形成する手法を確立し、高い受光感度と低暗電流特性を有するGe受光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Hence the diffusion of B from the base layer can be suppressed by making higher the Ge compsns. of the emitter- base junction region and base-collector junction region, which sandwich the base layer than the Ge compsn. of the base layer.例文帳に追加
したがって、ベース層を挟むエミッタ-ベース接合領域とベース−コレクタ接合領域のGe組成を、ベース層のGe組成よりも高くすることにより、ベース層からのBの拡散を抑制できる。 - 特許庁
The Ge substrate 31 is oxidized over the insulating film 32, and a Ge oxide film 33 is formed on the boundary surface of the insulating film 32 and the Ge substrate 31.例文帳に追加
絶縁膜32越しにGe基板31を酸化させて、絶縁膜32とGe基板31との界面にGe酸化膜33を形成する。 - 特許庁
This metal complex dendrimer is expressed by the general formula (wherein, M is a metal selected from Al, Zn, Be, Ge and Mg; R_1, R_2 are each H or a 1-8C alkyl, and may be the same or different; and X is a halogen).例文帳に追加
一般式(Mは、Al,Zn,Be,Ge,Ge,Mgから選ばれる金属、R_1及びR_2はH又はC1〜8のアルキル基、R_1及びR_2は同じでも異なっても良く、Xはハロゲン。)で示される。 - 特許庁
The highly concentrated Ge layer 8 is formed on an upper surface of the SiGe layer 7, and has a Ge concentration that is higher than the Ge concentration in the SiGe layer 7.例文帳に追加
高濃度Ge層8は、SiGe層上面に形成され、SiGe層7内におけるGe濃度よりも高いGe濃度を有する。 - 特許庁
April 7, 1335 - Awarded Ju-Goi-ge (Junior 5th Class, Minor). 例文帳に追加
1335年(建武(日本)2年)4月7日、従五位下に叙す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Yoriyuki TOKI, Jugoi no ge (October 28, 1624 (Kanei 1) ~) 例文帳に追加
土岐頼行従五位下(寛永元年(1624年)10月28日~) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Ge CHANNEL ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
Geチャネル素子およびGeチャネル素子の製造方法 - 特許庁
Cr is preferable as M_1, and Ge is preferable as M_2.例文帳に追加
M1はCrが好ましく、M_2はGeが好ましい。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING Ge-Mn MAGNETIC SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加
Ge−Mn磁性半導体薄膜の製造方法 - 特許庁
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