Geを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1096件
Since Ge is used for the base layer 1, the bandgap in a room temperature can be as small as approximately 0.66 eV.例文帳に追加
ベース層1にGeを用いたので、室温でのバンドギャップが0.66eV程度と小さくすることができる。 - 特許庁
More specifically, a film constituted essentially of Ge and containing Al, Cr or the like is used as the super resolution layer.例文帳に追加
より具体的にはGeを主成分として、Al又はCr等を含む膜を超解像層として使用する。 - 特許庁
After that, a resistance element R2 serves as a leak route, and a gate voltage V(GE) is decreased, with time passage of time.例文帳に追加
その後は抵抗素子R2がリーク径路となりゲート電圧V(GE)は時間経過と共に減少する。 - 特許庁
An a-Ge film 2 with a film thickness of 80 to 240 nm is formed on a substrate 1 (refer to step (b)).例文帳に追加
80〜240nmの膜厚を有するa−Ge膜2が基板1上に形成される(工程(b)参照)。 - 特許庁
Element X represents one or two and more out of Ge, Ga, In, Si, Pb, Zn, Sn, Al and Sb.例文帳に追加
元素XはGe、Ga、In、Si、Pb、Zn、Sn、Al、Sbのうち1種または2種以上である。 - 特許庁
A first reflection surface pair 11 is used for diffracting X-rays by Ge {220} plane or {440} plane.例文帳に追加
第1の反射面ペア11はGe{220}面または{440}面でX線を回折させるためのものである。 - 特許庁
In the formula, A is selected from the group consisting of Si, Ge, Ti, Zr, Al, and Ga, and x denotes 1-6.例文帳に追加
式中のAはSi、Ge、Ti、Zr、Al及びGaからなる群から選択され、xは1〜6である。 - 特許庁
To provide the deposition method of a semiconductor film by which a high-quality and flat semiconductor film is formed on a Ge-based/SiGe-based substrate.例文帳に追加
Ge系・SiGe系基板に高品質で平坦な半導体膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
The Ag alloy film has a composition consisting of, by atom, 0.2 to 1.5% Ge as an additive element and the balance essentially Ag.例文帳に追加
添加元素として、Geを0.2〜1.5原子%含み残部実質的にAgからなるAg合金膜である。 - 特許庁
To provide a Gigabit Ethernet(R) passive optical network (GE-PON) system and a media access control method for the same.例文帳に追加
ギガビットイーサネット(登録商標)受動光ネットワークシステム及びその媒体接続制御方法を提供する。 - 特許庁
To obtain the aimed profile of various Ge composition ratios with high precision in the method for depositing an SiGe film.例文帳に追加
SiGe膜の形成方法において、意図する様々なGe組成比のプロファイルを高精度で得ること。 - 特許庁
In the plated member, a plating film of an alloy comprising Ge as an essential component is formed on the surface.例文帳に追加
表面に、Geを必須成分として含有する合金のめっき皮膜が成膜されているめっき部材。 - 特許庁
The revolt was suppressed, and thereafter, on the second day of the second month of 767, Mushimaro, who had been lacking any court rank since 764, was restored to his original rank of Ge-jugoinoge. 例文帳に追加
乱後の天平神護2年(766年)12月25日に、無位の虫麻呂がもとの外従五位下に復帰した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Katsuko (Ge-hong) in the Western Jìn Dynasty wrote "Hobokushi," in which he explained the ascetic practices involved in becoming a sennin (immortal mountain wizard). 例文帳に追加
西晋末の葛洪(かっこう)は、『抱朴子(ほうぼくし)』を著し、仙人となるための修行法を説いた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Either one or a plurality of germanium (Ge), titanium oxide (TiO_2) and silver (Ag) may be added, if necessary.例文帳に追加
必要に応じて、ゲルマニウム(Ge)や酸化チタン(TiO2),銀(Ag)のいずれか1つまたは複数を追加する。 - 特許庁
Either or both of germanium Ge and niobium Nb are added to Sn-Zn based lead-free solder.例文帳に追加
Sn−Zn系無鉛はんだに、ゲルマニウムGeまたはニオブNbの何れかの金属または双方を添加する。 - 特許庁
To provide a substrate for reducing the costs of a tandem-type photoelectric conversion element in an Si/Ge-based structure.例文帳に追加
Si/Ge系構造のタンデム型光電変換素子の低コスト化を可能とする基板を提供すること。 - 特許庁
The Al in the intermetallic compound may be replaced with one or two kinds or more of Si, Ge, Ti and Zn.例文帳に追加
金属間化合物は、Alに替えてSi、Ge、Ti又はZnの1種又は2種以上でもよい。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a high-k film/Ge gate stack structure with satisfactory electric properties.例文帳に追加
電気的性質が良好なhigh−k膜/Geゲートスタック構造を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁
As for the inorganic semiconductor material, a well-known inorganic semiconductor material such as Si, Ge and CdSe can be used.例文帳に追加
無機半導体材料にはSi、Ge、CdSeなど公知の無機半導体材料を挙げることができる。 - 特許庁
The first single crystal Si layer has an interface with an underlay barrier layer having resistance to Ge diffusion.例文帳に追加
第1の単結晶Si層は、Ge拡散に対する耐性がある下の障壁層との界面を有する。 - 特許庁
Consequently multilayer logic results ultra-high on-chip transistor density by using nanowire Si/Ge TFETs.例文帳に追加
これにより、多層ロジックは、ナノワイヤSi/GeTFETを用いることで、非常に高いオンチップトランジスタ密度となる。 - 特許庁
To provide an Au/Ge alloy solder ball having excellent oxidation resistance and satisfactory wettability compared with the conventional one.例文帳に追加
従来品より耐酸化性に優れ、かつ、濡れ性が良好なAu/Ge合金半田ボールを提供する。 - 特許庁
When there are two haiden halls, the one toward you is called ge-haiden, or outer haiden, and the one at the back nai-haiden, or inner haiden. 例文帳に追加
二つある場合は、手前を外拝殿(げはいでん)と呼び、奥のものを内拝殿(ないはいでん)と呼ぶ。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Since she was taken from the Emperor's love by Cho Hien, she composed a poem, "Yuan ge Xing," in which she likens herself to a fan in autumn. 例文帳に追加
趙飛燕にその座を奪われれ、捨てられた我が身を秋の扇になぞらえて詩『怨歌行』を作った。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Sn-0.1〜3 質量%Cuの鉛フリーはんだ合金に、 0.001〜0.1 質量%のPを単独で、または 0.001〜0.1 質量%のGeと一緒に添加する。 - 特許庁
In a channel layer 103 made of SiGe containing C, a Ge composition is linearly changed from 0 to 50% from the end section of a silicon buffer layer side 102 toward that of the side of a silicon cap layer 104, and C is selectively contained by 0.5% in a region with 40 to 50% Ge composition, namely, a region where the Ge composition exceeds 30%.例文帳に追加
Cを含むSiGeからなるチャネル層103において、Ge組成は、シリコンバッファ層側102の端部からシリコンキャップ層104側の端部に向かって0%から50%に直線的に変化し、CはGe組成が40%から50%の領域(つまり30%を越える領域)に選択的に0.5%含有されている。 - 特許庁
The fluorescent material has as the constitutional elements at least one element selected from Mg, Ca, Sr and Ba, at least one element selected from Si and Ge, at least one element selected from rare earth elements, and oxygen, and besides has as the crystal structure a pseudowollastonite structure.例文帳に追加
Mg,Ca,Sr,Baから選ばれる少なくとも一つの元素、Si,Geから選ばれる少なくとも一つの元素、希土類から選ばれる少なくとも一つの元素、及び酸素を構成元素とし、結晶構造が擬珪灰石構造である蛍光材料。 - 特許庁
The aluminum alloy for conduction has a composition comprising at least one kind of element selected from Ag, Mn, Sn, Zn, Cu, Ga, Ge, Li, Mg, Si, Th, Ti, V and Zr in the ratio of 0.3 to 10.0 wt.%, and the balance Al as the main component with inevitable impurities.例文帳に追加
本発明に係る導電用アルミニウム合金は、 Ag,Mn,Sn,Zn,Cu,Ga,Ge,Li,Mg,Si,Th,Ti,V,Zrから選択される少なくとも1種の元素を0.3〜10.0重量%の割合で含有し、 残部が主成分であるAlと不可避不純物、で構成されるものである。 - 特許庁
In the tandem solar cell including an InGaP/(In)GaAs/Si 3-junction structure solar cell, an (In)GaAs solar cell layer and an Si solar cell layer are bonded together across a Ge interposing layer formed at part of the (In)GaAs solar cell layer.例文帳に追加
InGaP/(In)GaAs/Si3接合構造太陽電池を含むタンデム太陽電池において、(In)GaAs太陽電池層とSi太陽電池層とが、前記(In)GaAs太陽電池層の一部に形成されたGe介在層を介して接着されている構成とした。 - 特許庁
The semiconductor structure has an Si substrate, an SiGe layer of a thickness equal to or smaller than the critical thickness which is formed on it and contains a Ge composition ≥20% and ≤80%, and a Ge epitaxial layer which is formed on the SiGe layer.例文帳に追加
この半導体構造は、Si基板と、その上に形成された臨界膜厚以下の厚さのGe組成が20%以上80%以下のSiGe層と、SiGe層上に形成されたGeエピタキシャル層とを有する。 - 特許庁
The nitride-based semiconductor device comprises a substrate made of an n-type nitride-based semiconductor doped with hydrogen, and an n-type nitride-based semiconductor layer doped with one of Si, Se, and Ge formed on the upper surface of the substrate.例文帳に追加
酸素がドープされたn型の窒化物系半導体からなる基板と、前記基板の上面上に形成された、Si、Se及びGeのいずれかがドープされたn型の窒化物系半導体層とを窒化物系半導体素子が備える。 - 特許庁
To provide a substrate treating apparatus which can form an excellent film by suppressing oxygen concentration increase of a substrate interface when performing a process of forming a film of Epi-SiGe or the like by supplying a Ge-containing gas.例文帳に追加
本発明は、Ge含有ガスを供給してEpi−SiGe等の成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成することができる基板処理装置を提供することを課題としている。 - 特許庁
In a thermoelectric material, a Ge 31 to which Au 32 is added and an Si 33 to which Au 34 is added are brought into contact with each other, and Au 35 and Au 36 which are made into one-dimensional are each brought into contact with the Ge 31 and the Si 33 respectively.例文帳に追加
Au32を添加したGe31と、Au34を添加したSi33とを互いに接触させ、該Ge31及びSi33に一次元化したAu35,36を夫々接触させたことを特徴とする熱電材料。 - 特許庁
The condenser is formed by curving work applied to a bulk wafer of semiconducting crystals of Si, Ge or SiGe through a high-temperature pressurizing work method in a temperature range which has a plastic deformation capacity enabling an arbitrary plastic deformation of the semiconducting crystals.例文帳に追加
Si、GeまたはSiGeの半導体結晶バルクウェハーに、その半導体結晶の任意の塑性変形を可能とする塑性変形能を有する温度範囲内で高温加圧加工法により湾曲加工を施して作成されている。 - 特許庁
An Si hydride or an Si chloride, a Ge hydride and an organometallic compound not containing Si are fed on a substrate in a crystal growth device as raw materials to chemically vapor-grow a ternary mixed crystal containing Si, Ge and C.例文帳に追加
原料としてSiの水素化物または塩化物及びGeの水素化物及びSiを含まない有機金属化合物を供給してSi及びGe及びCを含む三元混晶を化学気相成長させる。 - 特許庁
By examining the presence and magnitude of the localized oscillating peak of a dopant atom that is observed by Raman scattering spectrometry of a dopant atom dope Ge, the present state (combined state and present location) of a dopant atom in the Ge is determined.例文帳に追加
ドーパント原子ドープGeのラマン散乱分光測定で観測されるドーパント原子の局在振動ピークの有無及び大きさを調べることによって、そのGe中のドーパント原子の存在状態(結合状態や存在位置)を知る。 - 特許庁
Ge, ZnSe or chalcogenide glass having a refractive index of 2.4 to 4 in the IR region of 8 to 12 μm bands is used for the substrate.例文帳に追加
基板は、Ge、ZnSe、または8〜12μmの赤外域において屈折率2.4〜4のカルコゲナイドガラスを用いる。 - 特許庁
(1) The optical recording medium is characterized by containing Ge, Sb, Sn and S as principal components of a phase change recording layer.例文帳に追加
(1)相変化記録層の主成分として、Ge、Sb、Sn及びSを含むことを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁
Then, an SiO_2 film 3 with a film thickness of about 10 nm is formed on the a-Ge film 2 (refer to step (c)).例文帳に追加
そして、約10nmの膜厚を有するSiO_2膜3がa−Ge膜2上に形成される(工程(c)参照)。 - 特許庁
A part or the whole of the oxide layer contains any element of In, Ga, Zn, Sn, Sb, Ge or As.例文帳に追加
前記酸化物層の一部又は全部が、In、Ga、Zn、Sn、Sb、Ge、又はAsのいずれかの元素を含有する。 - 特許庁
A Ge layer 120 is used as a sacrificing layer, oxygenated water is used as an etching solution to make a cantilever beam structure (a, b).例文帳に追加
Ge層120を犠牲層として、過酸化水素水をエッチング液として用いて片持ち梁構造とする(a,b)。 - 特許庁
To provide a method of removing a contaminant on a semiconductor substrate, which can remove a Ge contaminant adherent to the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板に付着したGe汚染を除去できる半導体基板の汚染物除去方法を提供する。 - 特許庁
Within these temperature ranges, times that are sufficient to crystallize the Si are sufficient to activate the dopants in Ge.例文帳に追加
それらの温度範囲内で、Siの結晶化に十分な時間は、Ge中のドーパントの活性化にも十分である。 - 特許庁
In 763 he was promoted to Ge-jugoinoge (Jugoinoge [Junior Fifth Rank, Lower Grade] given to persons outside Kyoto) and named the governor of Noto Province, but was implicated in FUJIWARA no Nakamaro's Revolt and punitively dismissed from his post and rank. 例文帳に追加
763年に外従五位下に進み、能登守になったが藤原仲麻呂の乱に連座して処分された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
On June 5, 743, Inamaro who had been Jurokuinojo (Junior Sixth Rank, Upper Grade) was granted Ge-jugoinoge (Jugoinoge [Junior Fifth Rank, Lower Grade] given to persons outside Kyoto) by the Emperor Shomu. 例文帳に追加
743年(天平15年)5月5日(旧暦)-従六位上であった稻麻呂は、聖武天皇より外従五位下を下賜される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
However, as an exception, when Jingikan (officer of the institution for dedicating to religious ceremony) was to submit ge, they had to present it to Daijokan (Grand Council of State). 例文帳に追加
ただし、例外として神祇官と太政官の間では、神祇官が太政官側に解を出すことになる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
This Article "Soji-shiki" was put here to specify some documentary forms to seek imperial ratification of affairs described in a letter called "ge" (a type of official document) submitted by shoshi (various officials). 例文帳に追加
奏事式(諸司から出された解(公文書)の事項に対して、天皇に裁可を求める際の書式) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
A raw material containing at least Ge is set over the crystal piece in the crucible 11.例文帳に追加
次いで、キャスト成長用坩堝11内において、結晶片の上方に少なくともGeを含む原料を配置する。 - 特許庁
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