「H2O2」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The H2O2 solution 11 dripped in the preform 1 is vaporized together with the volatile solvent in the container during the transport and storage, and the vaporized H2O2 vapor 11a sterilizes inner and outer surfaces of the preform 1.例文帳に追加

プリフォーム1 に滴下したＨ_2Ｏ_2 溶液11は、輸送、保管中にコンテナ内で揮発性溶剤と共に気化し、気化したＨ_2Ｏ_2 蒸気11ａがプリフォーム1 内外面を殺菌する。 - 特許庁

Then, the upper chamber 5 is put in the heated H2O2, and it is let alone for a specified time.例文帳に追加

そして、加熱されたＨ_2Ｏ_2の中に上部チャンバー部５を入れ、所定時間放置しておく。 - 特許庁

Further, an oxidant (such as H2O2) is added to purified water by an oxidant adding means 6.例文帳に追加

さらに、酸化剤添加手段６によって浄化処理した水に酸化剤（Ｈ_2Ｏ_2等）を添加する。 - 特許庁

To manufacture high purity extra-pure water in which concentrations of oxidants such as DO, TOC and H2O2 are remarkably low.例文帳に追加

ＤＯ、ＴＯＣ、Ｈ_２Ｏ_２等の酸化性物質濃度が著しく低い高純度超純水を製造する。 - 特許庁

Sticking and growth of slime on a membrane surface is prevented with a sterilization work of H2O2, and high performance of a membrane flux can be maintained.例文帳に追加

Ｈ_２Ｏ_２の殺菌作用で膜面でのスライムの付着、成長が防止され、膜フラックスを高く維持できる。 - 特許庁

Then, by using a strong basic etching chemical containing base and H2O2 is used, thus removing barrier metal (18) of slug (22).例文帳に追加

次に、塩基とＨ_2Ｏ_2を含む強い塩基性エッチング薬品を使用して、スラグ(22)のバリヤー金属(18)を除去する。 - 特許庁

After a fuse is blown, copper and a copper complex can be selectively eliminated, for example, by nitric acid/H2O2 solution.例文帳に追加

ヒューズをとばした後、銅と銅複合体は、例えば硝酸／Ｈ_2Ｏ_2溶液で選択的に除去することが出来る。 - 特許庁

This nucleic acid aptamer 20 has peroxidase activity and acts as a catalyst of oxidation-reduction reaction to H2O2.例文帳に追加

この核酸アプタマー２０はペルオキシダーゼ活性をもっており、Ｈ_2Ｏ_2に対する酸化還元反応の触媒として作用する。 - 特許庁

HCl/H2O2 soln. is supplied into the pure water in a piping 6 and the soln. is caused to flow into the treating tank 4.例文帳に追加

すると、ＨＣｌ／Ｈ２ Ｏ２ 溶液が配管６内の純水中に供給され、処理槽４内に流れ込む。 - 特許庁

Deterioration of the membrane due to the suspended solids and H2O2 does not occur and also the organic component is adsorbed and removed with the activated carbon tower 3.例文帳に追加

ＳＳやＨ_２Ｏ_２による膜劣化の問題もなく、また活性炭塔３では有機成分も吸着除去できる。 - 特許庁

By using H2O2 or hydrazine N2H4 as the reduction agent, hexavalent chromium in the heavy metal waste liquid is reduced and treated.例文帳に追加

還元剤として、過酸化水素（Ｈ_2Ｏ_2）又はヒドラジン(Ｎ_2Ｈ_4）を用いて、重金属廃液中の６価クロムの還元処理する。 - 特許庁

The oxidizer is H2O2, the catalyst is Fe, the workpiece is SiC or GaN, and Fenton's reaction is utilized to perform machining.例文帳に追加

酸化剤がＨ_2Ｏ_2、触媒がＦｅ、被加工物がＳｉＣ又はＧａＮであり、フェントン反応を利用して加工するのである。 - 特許庁

After a trench 7 has been formed by dry etching, a wet etching treatment is performed using a mixed solution of H2O2 and HF as an etchant.例文帳に追加

ドライエッチングを用いてトレンチ７が形成された後に、H_2O_2とHFとを含む混合液をエッチャントとして用いて、ウェットエッチングが実行される。 - 特許庁

A histamine oxidase is reacted to a sample solution containing a histamine, and the generated H2O2 is detected by a peroxidase electrode.例文帳に追加

ヒスタミン含有試料液にヒスタミンオキシダーゼを反応させ、生成したＨ_2Ｏ_2をペルオキシダーゼ電極により検出して該ヒスタミン濃度を定量する。 - 特許庁

Heavy metal-containing waste water is added with NaOH and H2O2 in branched pipes 12, then is caused to flow in a floating separation tank 20.例文帳に追加

重金属含有排水は、分岐配管１２においてＮａＯＨ及びＨ_2Ｏ_2が添加された後、浮上分離槽２０内に流入する。 - 特許庁

Then, under a reduced pressure, a first silicon oxide film 42 is formed by causing SiH4 and H2O2 to react with each other by the CVD method by using a nitrogen gas as a carrier.例文帳に追加

第１のシリコン酸化膜４２の等方性エッチングの速度は、第２のシリコン酸化膜４４（キャップ層）とそれと同じ又はほぼ同じである。 - 特許庁

Continuously, the predetermined quantity of the reducing agent (H2O2) is dripped into the solution so as to reduce the higher- order nickel hydroxide as the main component (for example, to 2.2 valences of the mean valence).例文帳に追加

ついで、所定量の還元剤（Ｈ_2Ｏ_2）を滴下して、主成分の高次水酸化ニッケルを還元（例えば、平均価数は２．２価になる）した。 - 特許庁

This etching agent consists of an aqueous solution containing hydrofluoric acid (HF) and a hydrogen peroxide solution (H2O2), and materials reacted with a resist are not used, so that the resist is not eroded.例文帳に追加

エッチング剤の構成は、フッ酸（ＨＦ）及び過酸化水素水(Ｈ_2Ｏ_2)を含む水溶液からなり、レジストと反応する材料を用いていないため、レジストを侵食しない。 - 特許庁

The small size liquid process equipment can secure the process safety by supplying liquids for processing in accordance with the sequence of the less damage liquid processes to a wafer W, pure water, H2O2, and NH4OH when the wafer W is processed by supplying the liquid mixed with a plurality of liquids (NH4OH, H2O2, pure water).例文帳に追加

ウエハＷに複数の処理液（ＮＨ4ＯＨ，Ｈ2Ｏ2，純水）を混合した混合液を供給して処理するに当たって、混合液を供給する際、ウエハＷに与えるダメージの少ない処理液順、純水，Ｈ2Ｏ2，ＮＨ4ＯＨに供給することことにより、ウエハＷにダメージを与えることなく、処理の安全性を図ることができる。 - 特許庁

The method of treating waste water containing the hardly decomposable chemical substances comprises adding an oxidant such as H2O2 to the waste water containing the hardly decomposable chemical substances and then allowing the waste water to pass through a metal catalyst layer 10 of an iron powder or the like to react it.例文帳に追加

難分解性化学物質含有排水にＨ_2Ｏ_2等の酸化剤を添加した後、この排水を鉄粉等の金属触媒層１０に通水して反応させる。 - 特許庁

To provide a continuous manufacturing method of hydrogen peroxide, which is capable of performing under a highly safe condition and attaining high productivity and high molar selectivity to the formation of H2O2.例文帳に追加

安全性の高い条件下で行なうことができ、高い生産性およびＨ_２Ｏ_２の形成に対する高いモル選択性が得られる、過酸化水素の連続製造法の提供。 - 特許庁

By adding at least one kind of the acid out of acids, such as a hydrogen peroxide (H2O2) and a hydrochloric acid (HCl), into the ozone water Lo, the acid can be fed to the surface of the substrate S along with the ozone water Lo.例文帳に追加

オゾン水Ｌｏ中には、過酸化水素（Ｈ_2 Ｏ_2 ）や塩酸（ＨＣｌ）等の酸のうちの少なくとも１種類を添加することで、基板Ｓの表面にオゾン水Ｌｏと共に酸を供給しても良い。 - 特許庁

A specified voltage is then applied between the electrodes, and an oxidizing agent consisting of hydrogen peroxide (H2O2) is dripped into the solution to deposit a lithium cobalt oxide thin film on the anode.例文帳に追加

次いで、前記電極間に所定の電圧を印加するとともに、前記反応溶液に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）からなる酸化剤を滴下し、前記アノード電極上にリチウムコバルト酸化物薄膜を形成する。 - 特許庁

The heavy metallic ions become hydroxide flocks by an addition of the NaOH, and also the H2O2 is decomposed to generate gaseous O2 and the gaseous O2 is stuck to the hydroxide flocks and the flocks are floated.例文帳に追加

ＮａＯＨの添加により重金属イオンが水酸化物フロックになると共に、Ｈ_2Ｏ_2が分解してＯ_2ガスを生じさせ、このＯ_2ガスが水酸化物フロックに付着してフロックを浮上させる。 - 特許庁

A preform 1 is manufactured by a container manufacturer, H2O2 solution 11 that the aqueous solution of hydrogen peroxide is diluted with a volatile solvent is dripped on an inner surface of the preform 1, the preform is placed in a solution 3, sealed by a lid 4, and carried in a food manufacturer.例文帳に追加

容器メーカでプリフォーム1 を作製し、そのプリフォーム1 の内面に、過酸化水素水溶液を揮発性溶剤で希釈したＨ_2Ｏ_2 溶液11を滴下し、これをコンテナ3 に入れて蓋4 で密閉して食品メーカに搬入する。 - 特許庁

To provide a treating apparatus for chemical machining polish waste water for efficiently treating the chemical machining polish waste water containing suspended solids such as grinding particles and grinding scraps and H2O2 and also containing an organic component an which is capable of a contin uous operation for a long period.例文帳に追加

研磨粒子や研磨屑などのＳＳ及びＨ_２Ｏ_２と、更には有機成分をも含むＣＭＰ排水を効率的に処理することができ、長期連続運転が可能なＣＭＰ排水の処理装置を提供する。 - 特許庁

To realize a production method of electronic part in which contact bumps of geometric shape can be formed, decomposition of H2O2 can be reduced, temperature of etchant mixture liquid can be controlled and redeposition of Pb and undercut of entire metallization stack can be suppressed.例文帳に追加

幾何学的形状のコンタクト・バンプの形成、Ｈ_2Ｏ_2の分解低減、エッチャント混合液の温度制御、ならびにＰｂの再堆積およびメタライゼーション・スタック全体のアンダーカットの抑制を可能にする電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

H2O2 is added to a solution of chloroplatinic acid obtained by performing the back extraction by ≥170 times (1) in the case the reduction of the grade only of Te is attained, and by ≥150 times (2) in the case the reduction of the grades of both Te and Pd is attained.例文帳に追加

逆抽出して得られた塩化白金酸溶液にＨ_2Ｏ_2を、Ｔｅに対するモル比で、Ｔｅ品位のみの低減を図る場合（１）は１７０倍以上、ＴｅとＰｄの両者の品位の低減を図る場合（２）は１５０倍以上添加する。 - 特許庁

Although the etching rate of a tungsten is 4-5 times faster in a solution which is normally used, to raise the selective ratio of the titanium nitride, the mole ratio for H2O2/HCI is set at 1/100 or smaller with a solution temperature at 70°C or higher related to the mixed liquid of hydrochloric acid and hydrogen peroxide used for wet-etching.例文帳に追加

通常使用されている溶液ではタングステンのほうが４〜５倍速いエッチングレートを窒化チタンの選択比を高める方法としてウエットエッチングに用いる塩酸と過酸化水素の混合液においてＨ_２Ｏ_２／ＨＣｌのモル比を１／１００以下とし、且つ溶液温度を７０℃以上とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the capacitor comprises the steps of forming the lower electrode 20 made of an amorphous silicon on the contact electrode 17 made of a polycrystalline silicon and a sidewall film 15, then etching the electrode 20 through wet etching, by using an aqueous solution containing NH4OH and H2O2 as an etching liquid, and removing the surface layer.例文帳に追加

非晶質シリコンからなる下部電極２０を多結晶シリコンからなるコンタクト電極１７およびサイドウォール膜１６の上に形成した後、ＮＨ_4 ＯＨとＨ_2 Ｏ_2 とを含む水溶液をエッチング液に用いたウェットエッチングにより下部電極２０をエッチングし、その表面層を除去する。 - 特許庁

The manufacturing method of lithium-manganese compound oxide comprises a precipitated process in which a compound oxide precursor is precipitated by mixing salt solution as manganese source, H2O2 solution of lithium hydroxide as lithium source, and, as necessity arises, salt solution of other elements substitutable with Mn site, and a maturing process which matures the precipitated precursor by irradiating an electromagnetic wave.例文帳に追加

本発明のリチウムマンガン複合酸化物の製造方法は、マンガン源となる塩の水溶液と、リチウム源となる水酸化リチウムのＨ_2Ｏ_2水溶液、そして必要に応じて混合されるＭｎサイトを置換可能な他元素となる塩の水溶液とを混合し、複合酸化物前駆体を析出させる析出工程と、この析出した前駆体に電磁波を照射して熟成させる熟成工程から構成される。 - 特許庁