In Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 49986件
To provide a process for stably producing colored resin particles having a uniform particle diameter in a high yield.例文帳に追加
粒径が均一である着色樹脂粒子を安定的に高収率で製造する方法の提供。 - 特許庁
The content of the vessel is cooled to about 10°C by the cooling means 5, and is irradiated with the ultrasonic wave, in the decalcification process.例文帳に追加
脱灰工程では冷却手段5により槽内を約10℃にし、超音波を照射する。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a composite sheet giving, in addition to a high liquid permeability, a pleasant touch.例文帳に追加
高い液浸透性に加え、肌触りの良好な複合シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The through hole 32 passes the just upper side of the through hole 12 in a process of the reciprocal motion of the slider 30.例文帳に追加
スライダ30の往復運動の過程で貫通孔32が貫通孔12の真上を通過する。 - 特許庁
To realize reduction of a plurality of images and then outputting them collectively in a minimum process.例文帳に追加
複数の画像を縮小して、まとめて出力することを、必要最小限の処理で実現する。 - 特許庁
In a power failure generation NMI process, CPU confirms whether a power source failure flag is already set or not.例文帳に追加
停電発生NMI処理で、CPUは、電源断フラグが既にセットされているか否か確認する。 - 特許庁
To improve the trimming process in a book binding device by further advanced adhesive drying.例文帳に追加
接着剤の乾燥がいっそう進むことによって、本の製本装置における揃え裁ち工程を改善する。 - 特許庁
The connection information is converted to an address for a location in a direct table using a table access process.例文帳に追加
接続情報は、テーブル・アクセス・プロセスを使用して、ダイレクト・テーブル内の位置に関するアドレスに変換される。 - 特許庁
To provide a data processor which suppresses the time lag occurring in a parallel dispersion process.例文帳に追加
並列分散処理の際に発生するタイムタグを抑制することができるデータ処理装置を提供する。 - 特許庁
The support film 6 can also play a role of protecting conductive bumps 5 in an etching process.例文帳に追加
さらに、支持フィルム6はエッチング工程において導電性バンプ5を保護する役割を兼ねることができる。 - 特許庁
To provide a compact apparatus having simple structure for producing fine spherical copper powder in a rotating disc process.例文帳に追加
簡単な構成でコンパクトな回転ディスク法による球状微小銅粉製造装置を提供する。 - 特許庁
In the second process, the nonwoven fabric sheet 3 and the back sheet 6 are joined with an adhesive material 11 for oozing.例文帳に追加
第2工程では、不織布シート3とバックシート6を滲出用接着剤11にて接合する。 - 特許庁
By this process, the protein of a surface layer is hardened first in the foodstuff and then the temperature of the inside rises.例文帳に追加
これにより、食品では、まず、表面層のタンパク質を硬化されてから、内部の温度が上昇する。 - 特許庁
Terahertz waves are radiated to the external surface of the insulator type lightening arrester 100 in a radiation process.例文帳に追加
まず、碍子型避雷器100の外表面にテラヘルツ波を放射する放射工程を実施する。 - 特許庁
To reduce the effects that a prescribed process carried out in relation to a liquid container may have on a liquid jetting apparatus.例文帳に追加
液体容器に関連する所定の処理が、液体噴射装置に及ぼす影響を抑制する。 - 特許庁
A new dental compound containing two or more layers of inorganic filler in an organic polymer matrix can be produced by this process.例文帳に追加
有機ポリマーマトリックス中の2層以上の無機充填剤を含有する新規歯科化合物が得られる。 - 特許庁
A polishing head, a wafer surface or the like used in the polishing process are cleaned using the liquid.例文帳に追加
研磨工程において用いる研磨ヘッドおよびウェハ表面などを、この液体を用いて洗浄する。 - 特許庁
To open a pair of holding members 42, 43 holding a container 2 in the process of conveying a container carrier 4.例文帳に追加
容器キャリア4の搬送中に、容器2を把持する一対の把持部材42、43を開放する。 - 特許庁
To provide a fuel cell system starting up again in short time when a restarting request is made while performing shutdown process.例文帳に追加
停止処理を実行している間に再起動要求がなされた際に短時間で再起動する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MANAGING PRODUCTION IN COMPOUND MANUFACTURING PROCESS SYSTEM, AND METHOD OF MONITORING PRODUCTION PROGRESSING CONDITION例文帳に追加
複合製造プロセスシステムにおける生産管理方法およびその装置、生産進捗状態モニター方法 - 特許庁
In a trial manufacture process, a mold for molding each resin component is selected on the basis of apparatus setting.例文帳に追加
試作工程では、装置設定に基づいて各樹脂部品の成型に用いる金型を選択する。 - 特許庁
Thus, the complicated and wide-ranging schedules in the die manufacturing process are easily drawn up.例文帳に追加
このため、金型製造工程における複雑多岐にわたるスケジュールを容易に立案することができる。 - 特許庁
In a sprinkling process S10, a decorative powder 3 is sprinkled over the bottom surface of the cavity 1a of a mold 1.例文帳に追加
散布工程S10において、成形型1のキャビティ1aの底面に加飾粉末3を散布する。 - 特許庁
By such a process, the semiconductor crystal having a cross-sectional structure shown in Fig. 2 (b) is obtained.例文帳に追加
以上の製造工程により、図2(b)に示す断面構造を有する半導体結晶が得られる。 - 特許庁
For example, in the first process, the thin film 102 may be formed by a spatter method for introducing H_2O gas.例文帳に追加
例えば、第1工程では、H_2Oガスを導入するスパッタ法で、薄膜102を形成すればよい。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a micro structure object where grease required in a processing process is prevented from scattering.例文帳に追加
加工過程で要するグリスを飛散させないようにしたマイクロ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a scribing device which can completely remove cullets generated in the process of performing scribing.例文帳に追加
スクライブを実施する工程にて発生する欠片(カレット)を完全に除去し得るスクライブ装置を提供する。 - 特許庁
In this method, a block reading access process is firstly used for requesting desired information.例文帳に追加
本方法によると、所望の情報を要求するため、まずブロック読み出しアクセス処理が利用される。 - 特許庁
To reduce various kinds of, and a large number of pieces of abnormality in a processing process for an object with high efficiency.例文帳に追加
被対象物の処理工程において多種類かつ多数の異常を高効率で低減する。 - 特許庁
At least one hologram recording spot HSP is recorded in the respective tracks and the process is made continuous.例文帳に追加
各トラックには少なくとも1つのホログラム記録スポットHSPが形成され、連続的な処理となる。 - 特許庁
To reduce a process time required to prevent irregular color caused by colors of ink being superposed in different order.例文帳に追加
インクの重なり順序の相違に起因する色むらを防止するための処理時間を短くする。 - 特許庁
To provide a plasma etching method in which process control is facilitated and etching rate is highly uniform over the surface to be etched.例文帳に追加
プロセス制御が容易で、エッチングレートの面内均一性の優れたプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁
The binder matrix in the end of the ceramic pin may be removed by mechanical or chemical process.例文帳に追加
セラミックピンの端の結合剤マトリックスは、機械的または化学的処理によって除去されてもよい。 - 特許庁
Furthermore, the temperature of the substrate is preferably 250-300°C in the process for heating the substrate.例文帳に追加
また、前記基板を加熱する工程では、基板の温度を250℃以上300℃以下とすることが望ましい。 - 特許庁
To realize a sacrificial layer of silicon oxide film having a large etching rate in a manufacturing process of microstructures.例文帳に追加
マイクロ構造体の製造工程において、エッチングレートの大きなシリコン酸化膜の犠牲層を実現する。 - 特許庁
A virtual circle E of which diameter is secured as the inner diameter of the main metal fitting in another process is drawn on this image.例文帳に追加
この画像に他の工程で主体金具の内径として保証した径の仮想円Eを描画する。 - 特許庁
To provide an image forming device in which printing speed is made higher by shortening color slurring correction process time.例文帳に追加
色ずれ補正プロセス時間の短縮により、印刷スピードを上げる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
In the first water cleaning process 11, an insulating film and a metal wiring formed thereon are washed using the pure water.例文帳に追加
第1の水洗処理11では、絶縁膜及びこの上のメタル配線を純水により水洗いする。 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR PREDICTING QUALITY IN MANUFACTURING PROCESS, PROGRAM AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加
製造プロセスにおける品質予測装置、予測方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁
This silicide formation is incorporated in a BiCMOS process flow after forming a raised and extrinsic base.例文帳に追加
このシリサイド形成は、盛上った外因性ベースを形成した後で、BiCMOSプロセス・フローに組み込まれる。 - 特許庁
To provide a spinning apparatus which prevents breaking of an optical fiber in an outer diameter adjusting process.例文帳に追加
外径調整工程において、光ファイバの破断を防止することが可能な紡糸装置を提供する。 - 特許庁
It is desirable that the projecting part 14 of the cap 10 has a height h allowed to be formed in one squeezing process.例文帳に追加
口金10の凸部14は、1回の絞り工程で成形可能な高さhとすることが望ましい。 - 特許庁
To provide a drying furnace capable of improving the efficiency in a drying process to improve the production efficiency.例文帳に追加
乾燥工程の効率がアップし、生産効率の向上を図ることのできる乾燥炉を提供する。 - 特許庁
In the first process, fine earth and sand particles are granulated into sand-like state.例文帳に追加
第1工程で高分子系の土砂改良材により土砂の微細土粒子は砂状に団粒化する。 - 特許庁
The cooling speed for ten seconds after the start of cooling in the cooling process is at least 13°C/s.例文帳に追加
冷却工程における冷却開始から10秒間の冷却速度は、13℃/秒以上である。 - 特許庁
To calculate margin ranges of a process condition for a plurality of patterns to be processed in a lump.例文帳に追加
一括して処理される複数のパターンに対するプロセス条件の余裕範囲を算出できるようにする。 - 特許庁
Additionally, in a positioning groove formation process for forming a positioning groove, the probe protection projection 5 is removed.例文帳に追加
そして、位置決め溝を形成する位置決め溝形成工程において、プローブ防護突起物5を除去する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RECESSED PART IN SURFACE OF METAL COMPONENT, AND PROCESS AND ARTICLE RELATED TO THE SAME例文帳に追加
金属構成部品の表面内に陥凹部を形成する方法、及びこれに関連したプロセス及び物品 - 特許庁
A change of the RAM value of the ECU 10 occurring in a simulation process is recorded to analyze the change.例文帳に追加
シミュレーションの過程でECU10のRAM値に生ずる変化を記録し、その変化を解析する。 - 特許庁
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