「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a driving power supply circuit for operating a magnetron with high efficiency and high output without causing moding destruction.例文帳に追加

マグネトロンを、モーディング破壊を起こさず高効率高出力で作動させる駆動電源回路を実現する。 - 特許庁

A coaxial magnetron cathode 34 which is a kind of cold cathode is employed as a means for generating a plasma.例文帳に追加

プラズマを発生させるための手段として、一種の冷陰極である同軸マグネトロンカソード３４を採用する。 - 特許庁

A magnetron 10 supplies a microwave into the heating chamber 4 through a waveguide tube 11 and the excitation port 8.例文帳に追加

マグネトロン１０はマイクロ波を導波管１１及び励振口８を介して加熱室４内に供給する。 - 特許庁

The temperature of the electronic components is lowered without additionally installing a cooling fan by applying a part of the cooling air used exclusively for the magnetron as the cooling air for the electronic components, by operating the cooling fan 20 for cooling the magnetron even in operating the oven without using the magnetron 29, when the microwave oven is operated as the oven.例文帳に追加

各部の電子部品の温度は電子レンジをオーブンとして動作させたとき、マグネトロンを冷却する冷却ファンを、マグネトロンを使用しないオーブンの時にも動かし、マグネトロン専用で使用していた冷却風の一部を電子部品の冷却風にすることにより冷却ファンを増設することなく電子部品の温度を低減した。 - 特許庁

It is also provided with an inverter 40 for driving a magnetron 31, an anode current detecting means for detecting an anode current of the magnetron 31, and a reference value setting means for setting a reference value in correspondence with changes of power supply voltage, of which, the inverter is so structured to drive the magnetron 31 in order for the anode current to follow the reference value.例文帳に追加

また、マグネトロン３１を駆動するインバータ４０と、マグネトロン３１のアノード電流を検知するアノード電流検知手段と、電源電圧の変化に対応した基準値を設定する基準値設定手段とを備え、インバータは前記アノード電流が、前記基準値に追随するように、前記マグネトロン３１を駆動する構成とする。 - 特許庁

In this microwave oven to heat and cook an object put in a cavity by radiating microwaves generated from a magnetron into the cavity, an antenna 30 that coverts the microwaves generated from the magnetron 20 into circularly polarized waves and radiating them into the cavity 60 is installed between the magnetron 30 and the cavity 60.例文帳に追加

マグネトロンから生成されたマイクロ波をキャビティ内部に放射して、当該キャビティ内部に載置された調理物を加熱調理する電子レンジにおいて、前記マグネトロン２０とキャビティ６０との間に、当該マグネトロン２０から生成されたマイクロ波を円偏波に変換して当該キャビティ６０内部に放射するアンテナ３０を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of depositing a transparent conductive film by the magnetron sputtering without any wasteful consumption of a sputtering target material, and easily controlling the resistivity and the transmittance of the transparent conductive film in a target for the magnetron sputter which has a mask on a substrate to perform the pattern-forming of the transparent conductive film on the substrate by the magnetron sputtering method.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、マグネトロンスパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成するためのマグネトロンスパッタ用ターゲットにおいて、マグネトロンスパッタリングにより、スパッタリングターゲット材の消費に無駄が無く透明導電膜を形成でき、また透明導電膜の抵抗率や透過率の制御が容易にできるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

Moreover, in the manufacturing method, magnetron plasmas having ≥400 G magnetic field intensity and each having a closed loop are generated on the surface of the target located on the surface of the cathode by using the two magnetron magnetic circuits arranged on the back side of the cathode of equipotential, and sputtering voltage at the magnetron-plasma generation is made to ≤350 V.例文帳に追加

また、本発明の製造方法においては、同電位のカソード背面に配置した２つのマグネトロン磁気回路を用いて、カソード表面に設置されたターゲット表面に４００Ｇ以上の磁場強度をもつそれぞれ閉じたループを有するマグネトロンプラズマを発生させ、マグネトロンプラズマを発生させた時のスパッタ電圧が３５０Ｖ以下となるように構成される。 - 特許庁

To prevent an increase of voltage/current duty of a first and second semiconductor switching elements by an impedance change of a magnetron, in a power converting device for driving the magnetron used for a high frequency heating apparatus.例文帳に追加

本発明は高周波加熱装置に用いるマグネトロン駆動用の電力変換装置に関するものであり、マグネトロンのインピーダンス変化によって第１及び第２の半導体スイッチング素子の電圧電流責務の増大を防止する。 - 特許庁

A magnetron cathode 3 with a target T mounted thereon and an electrode 4 with the substrate 2 mounted thereon are provided in a same chamber 1 to selectively achieve the sputter etching of the surface of the substrate 2 and the magnetron sputtering film deposition on the substrate.例文帳に追加

ターゲットＴが装着されるマグネトロンカソード３と、基板２が装着される電極４とを同一チャンバ１内に設け、基板２の表面のスパッタエッチングおよび基板２上へのマグネトロンスパッタ成膜を選択的に行う。 - 特許庁

To solve the problem of a power supply fir driving a magnetron of the existing structure where the parts having higher ratings must be used because the voltage of about 500 V is applied to a semiconductor switching element and the voltage of about 20 kV is applied to the magnetron.例文帳に追加

従来の構成のマグネトロン駆動用電源は、半導体スイッチング素子には約５００Ｖの電圧が、マグネトロンには約２０ｋＶの電圧がかかるもので、定格の高い部品を使用する必要があるという課題を有している。 - 特許庁

A water tank 8 storing water is integrally formed in the other side wall 4b of the chamber 4 opposite to the magnetron 6 in a state where the internal surface of the tank 8 is almost flushed with the internal surface of the wall 4b, and the water in the tank 8 is heated with the microwave generated from the magnetron 6.例文帳に追加

このマグネトロン６側と相対向する他方の側壁４ｂに、水が貯水される貯水槽８を略面一に一体形成し、この貯水槽８内の水をマグネトロン６から発生するマイクロ波にて加熱する。 - 特許庁

In the sputtering system having at least one or more magnetron electrodes for film-depositing a thin film layer on a base material, the anode electrodes 5, 6 in the magnetron electrode are rotary type electrodes.例文帳に追加

基材上に薄膜層を成膜するために、少なくとも１つ以上のマグネトロン電極を有することを特徴とするスパッタリング装置において、前記マグネトロン電極におけるアノード電極５，６が回転式電極であるスパッタリング装置。 - 特許庁

Preferably, the magnetron 14 includes annular magnets of opposed polarities disposed behind the two vault sidewalls and a small closed unbalanced magnetron of nested magnets of opposed polarities scanned along the vault roof.例文帳に追加

好ましくは、マグネトロン１４は、２つのボールトの側壁の後ろに設けられた反対極性の環状磁石及びボールトのルーフに沿って走査される反対極性の嵌め込まれた磁石の小さな閉じた不平衡なマグネトロンを有する。 - 特許庁

A paper dryer 20 includes a paper drying means which is arranged in a paper conveying path in the vicinity of a fixing device 16 and upstream from the fixing device 16 and includes a magnetron 22 and a paper drying pipe 24 connected to the magnetron 22.例文帳に追加

用紙乾燥装置２０は、定着装置１６より上流で定着装置１６の近傍の用紙搬送路に配設され、マグネトロン２２と、マグネトロン２２に連結した用紙乾燥管２４とを有する用紙乾燥手段を含む。 - 特許庁

This magnetron is provided with the noise-preventive choke coils 4 connected to the both negative electrode terminals of a magnetron main body 1, and radio-wave absorbing bodies 8 attached to surround negative electrode terminal side conductor parts of the both choke coils 4.例文帳に追加

マグネトロン本体１の両陰極端子２、３に接続された雑音防止用チョークコイル４と、両チョークコイル４の陰極端子側導線部を囲繞するように取り付けられた電波吸収体８とを備えたものとする。 - 特許庁

To provide a magnetron-driving power source excellent in stability against power source environment changes such as noise or instantaneous power failure.例文帳に追加

ノイズや瞬時停電などの電源環境変化に対し安定性に優れたマグネトロン駆動用電源を提供する。 - 特許庁

As to a target 3 for magnetron sputtering, a magnetic substance 4 is burried to the inside of a target 1 or the inside of a backing plate 2.例文帳に追加

ターゲット１の内部、もしくはバッキングプレート２の内部に、磁性体４を埋め込んだマグネトロンスパッタ用ターゲット３である。 - 特許庁

To improve the film quality in a magnetron sputtering method in which film formation is executed under the pressure lower than that capable of starting discharge.例文帳に追加

放電開始可能圧力より低い圧力で成膜するマグネトロンスパッタ方法において、膜質の向上を図る。 - 特許庁

The controlling part 27 determines completion of preheating of the magnetron 25 based on an amount of change in electrical current value of the heater electrical current.例文帳に追加

制御部２７は、ヒータ電流の電流値の変化量に基づいて、マグネトロン２５の予熱の完了を判断する。 - 特許庁

By the main rotation mechanism, a magnet mechanism 5 for forming sputtering electric discharge into magnetron discharge can be rotated integrally with the targets 30.例文帳に追加

主回転機構は、スパッタ放電をマグネトロン放電にする磁石機構５をターゲット３０とともに一体に回転させる。 - 特許庁

A control device controls the electric power supplied to the magnetron 24 on the basis of the monitored electric power and frequency of the reflected wave.例文帳に追加

モニタした反射波の電力と周波数とに基づいてマグネトロン２４に供給する電力を制御する。 - 特許庁

The inverter power source relay is turned on, a predetermined period is passed and then the magnetron starts.例文帳に追加

なお、マグネトロンは、インバータ電源用リレーがＯＮされてから所定時間経過した後に電力が供給され始める。 - 特許庁

MAGNETRON REACTOR MADE OF METAL AND FEEDING HIGH DENSITY INDUCTION COUPLING HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE SPUTTERING DIELECTRIC FILM例文帳に追加

金属製及び誘電体膜をスパッタリングする高密度誘導結合高周波プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタ - 特許庁

To provide a power source for driving a magnetron excellent in stability against source environment change such as noise and instantaneous power failure.例文帳に追加

ノイズや瞬時停電などの電源環境変化に対し安定性優れたマグネトロン駆動用電源を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device for use in the deposition of a film having a predictive thickness distribution with low defect levels.例文帳に追加

欠陥レベルの低い、予想される厚さ分布を有する膜形成に用いるマグネトロン・スパッタリング・デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron which can stabilize the location accuracy of an anode vane while enhancing the quality, and to provide a microwave utilization apparatus.例文帳に追加

アノードベインの位置精度を安定にでき、品質を向上できるマグネトロンおよびマイクロ波利用機器を提供する。 - 特許庁

Therefore, the oscillation of the magnetron 8 can be discriminated surely, even if the voltage of the commercial power supply 1 fluctuates.例文帳に追加

これによって、商用電源１の電圧が変動してもマグネトロン８の発振を確実に判別することができる。 - 特許庁

An incidence monitor 36 and a frequency monitor 48 monitor the frequency of the microwave generated by a magnetron 24.例文帳に追加

また、マグネトロン２４により発生したマイクロ波の周波数を入射モニタ３６と周波数モニタ４８とによりモニタする。 - 特許庁

To provide a liquid flow checking method for easily checking the liquid flow, and a magnetron unit evaluation device.例文帳に追加

液体の流れ方を簡単に知ることができる液体の流れ確認方法およびマグネトロンユニット評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inverter circuit of a microwave oven, capable of reducing the cost of the microwave oven and accurately controlling an output of a magnetron.例文帳に追加

電子レンジのコストを低減し、マグネトロンの出力を正確に制御できる電子レンジのインバーター回路を提供する。 - 特許庁

DUAL MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, THIN FILM BODY OF HIGHLY FUNCTIONAL MATERIAL PRODUCED USING THE SYSTEM, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

デュアルマグネトロンスパッタリング装置とこの装置を用いて作製された高機能性材料薄膜体およびその製造方法 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system by which the thickness distribution of a thin film to be deposited on the substrate to be treated can be uniformized.例文帳に追加

被処理基板に形成される薄膜の膜厚分布を均一化することができるマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

A magnetron 18 driven by DC electric current is positioned in the reactor and supports a target 20 of sputtering.例文帳に追加

直流電流で駆動されるマグネトロンは、リアクタ室内に位置しスパッタリングのターゲットを支持するように構成されている。 - 特許庁

This snow removing apparatus has a container body 2, a magnetron 21, a microwave supply section 5, a hose 3, a pump 4 and a connection part 41.例文帳に追加

容器本体２と、マグネトロン２１と、マイクロ波供給部５と、ホース３と、ポンプ４と、接続部４１とを有する。 - 特許庁

To provide a power source for driving a magnetron capable of mounting a printed circuit board on a mounting plate without fracturing patterns.例文帳に追加

パターンが断裂することなくプリント基板を取り付け板に取り付けることができる、マグネトロン駆動電源を提供する。 - 特許庁

In the step S10, a rotational plate is controlled to be stopped at a '60 degrees' position and the drive of a magnetron is started.例文帳に追加

ステップＳ１０では、回転板を「６０°」位置に停止するための制御を行なうと共に、マグネトロンの駆動を開始する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stem for a magnetron having a lead part, a metalized layer and a plated layer with a high yield.例文帳に追加

リード部、メタライズ層、メッキ層を有するマグネトロン用ステムを歩留まり良く製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus for forming a thin film having high quality, high reproducibility and an intermediate refractive index.例文帳に追加

高品質で再現性が高い、中間屈折率を有する薄膜を形成できるマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

This modified magnetron type plasma treatment apparatus is constituted so as to ground a susceptor for placing the substrate via variable impedance.例文帳に追加

この変形マグネトロン型プラズマ処理装置は、基板を載置するサセプタを可変インピーダンスを介して接地するように構成する。 - 特許庁

A differential IF signal (fLO-f0) between a local oscillation frequency and an oscillation frequency of a magnetron is made into a digital signal.例文帳に追加

局部発振周波数とマグネトロンの発振周波数との差のＩＦ信号（ｆＬＯ−ｆ０）をデジタル信号化する。 - 特許庁

To provide a target for magnetron sputtering in which the progress of ununiform erosion is suppressed, and whose utilization efficiency is improved.例文帳に追加

不均一なエロージョン進行を抑制し、ターゲットの利用効率を向上させるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus capable of improving the uniformity of a film thickness and target utilization by a relatively simple constitution.例文帳に追加

比較的簡素な構成で、膜厚の均一性とターゲットの利用率を向上させたマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnet array in a magnetron sputtering device, which achieves a higher target utilization than that of a conventional apparatus.例文帳に追加

従来の装置よりも高いターゲット利用率を与える、マグネトロンスパッタリング装置における磁石配列体を提供する。 - 特許庁

To provide a planar magnetron sputtering system capable of improving efficiency of target utilization and preventing deterioration in film quality.例文帳に追加

ターゲットの利用効率を向上させると同時に膜質の劣化を防止できるプレーナーマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁