MAGNETRONを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1445件
The atomic gas source 15 turns molecular nitrogen or oxygen into atomic nitrogen or oxygen with a magnetron head 37 and a microwave applicator 41 acting on a molecular gas source 33.例文帳に追加
原子ガスソース15は、マクネトロンヘッド37、マイクロ波アプリケータ41により分子ガスソース33に作用して窒素又は酸素を原子化する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FLUORIDE OPTICAL THIN FILM CORRESPONDING TO HIGH PERFORMANCE ULTRAVIOLET WAVELENGTH AREA ON QUARTZ SUBSTRATE BY REACTIVE DC MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加
反応性DCマグネトロンスパッタ法による高性能紫外波長領域対応フッ化物光学薄膜の石英基板への成膜方法 - 特許庁
To easily make adjustable a profile of the tunnel-type magnetic flux generated between the magnets in a magnet assembly, in a magnetron sputter electrode.例文帳に追加
マグネトロンスパッタ電極のおいて、磁石組立体の磁石相互間で発生するトンネル状の磁束のプロファイルを容易に調節できるようにする。 - 特許庁
Since the microwave M passes only through one circulator 62, output power of the magnetron 2 can be supplied efficiently to the load.例文帳に追加
この場合、マイクロ波Mは1つのサーキュレータ62しか通過しないので、マグネトロン2の出力電力を効率よく負荷に供給することができる。 - 特許庁
To provide a power supply circuit for driving magnetron which prevents the occurrence of moding and enables oscillation of high-quality microwave with little noise.例文帳に追加
モーディングの発生を防止でき、かつ、ノイズが少ない高品質のマイクロ波発振を可能にするマグネトロン駆動電源回路を提供すること。 - 特許庁
When the magnetron 9 is in nonactuation, the port A1 of the control part 1 is fed with a signal at Hi level, unless the terminal of the port A1 is shortcircuited to other terminal.例文帳に追加
ヒータ駆動部5、マグネトロン駆動部6、庫内灯駆動部7は、それぞれ、制御部1の、ポートA0、ポートA1、ポートA2に接続される。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering system and a thin film production method where, when an LaB_6 thin film is deposited by sputtering, the single crystal properties in the wide region domain direction of the obtained LaB_6 thin film is improved.例文帳に追加
LaB_6薄膜をスパッタリングで成膜するに際し、得られるLaB_6薄膜の広域ドメイン方向の単結晶性を改善する。 - 特許庁
To provide a power control device for high-frequency dielectric heating without being influenced by the type of a magnetron, dispersion of characteristics or power voltage fluctuation.例文帳に追加
マグネトロンの種類、特性のバラツキや電源電圧変動等の影響を受けない高周波誘電加熱用電力制御装置を提供する。 - 特許庁
To provide a magnetron capable of restraining spurious oscillation of a π-1 mode or the like and restraining spurious radiation even without insertion of a filter.例文帳に追加
π−1モードなどのスプリアスの発振を抑制し、フィルタを挿入しなくても、スプリアスの放射を抑制することができるマグネトロンを提供する。 - 特許庁
An electromagnetic energy (approximate 500 W) is cast to the peripheral areas of an AIDS cell tissue or an articular rheumatism legion by using a magnetron electromagnetic wave generator.例文帳に追加
マグネトロン電磁波発生器でエーズ細胞性組織周辺部や関節リューマチ患部に向け電磁エネルギー(500W前後)を放射する。 - 特許庁
To develop a small high magnetic field magnetron giving a coverage sufficient for promoting deep positive hole filling and the continuous self- sputtering of copper.例文帳に追加
深い正孔充填及び銅の持続自己スパッタリングを促進させるのに十分なカバレージを与える小さな高磁場マグネトロンを開発する。 - 特許庁
The superheated steam can be easily generated by controlling water supply amount to a water supply pump and power supply to a magnetron.例文帳に追加
給水ポンプの給水量制御およびマグネトロンへの給電を制御することにより、過熱蒸気を簡便に発生させることができる。 - 特許庁
A magnetron particularly advantageous for low pressure plasma sputtering or continuous self-sputtering in which a target coverage is sufficient though the area is small is provided.例文帳に追加
面積は小さいがターゲットカバレージが十分である低圧プラズマスパッタリング又は持続自己スパッタリングに特に有利なマグネトロンを提供する。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus which inhibits a substrate from receiving a damage due to γ electrons, recoil Ar ions and the like, while improving the efficiency of use of a target.例文帳に追加
ターゲットの使用効率を高めながら、γ電子、反跳Arイオンなどによる基板へのダメージを抑えたマグネトロンスパッタリング装置の提供。 - 特許庁
A conductive body 7 enables to measure the resistance of a film thus deposited, and gives indices on the thickness of the film and life of the magnetron.例文帳に追加
導電体7は、そのように堆積した膜の抵抗を測定することを可能にし、膜の厚み及びマグネトロンの寿命の指標を与える。 - 特許庁
To provide a magnetron not required to use a costly, high melting point metal not only in its cathode but also in the peripheral components.例文帳に追加
陰極自身はもちろんのこと周辺部品にも高価な高融点金属を用いる必要のないマグネトロンを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a microwave oven compact in size in which a magnetron being not coaxial with a cooling fan can be efficiently and intensively cooled.例文帳に追加
冷却ファンと同一軸上にないマグネトロンを、効率良くかつ集中的に冷却することができる、コンパクトな電子レンジを提供する。 - 特許庁
TARGET ASSEMBLY FOR ROTARY CYLINDER TYPE MAGNETRON SPUTTERING CATHODE, SPUTTERING CATHODE ASSEMBLY, AND SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加
回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体及びスパッタリング装置並びに薄膜作成方法 - 特許庁
The first waveguide tube 21 has a power feeding part 32 to which the electromagnetic wave is supplied from the magnetron 40 at the center part of that longitudinal direction.例文帳に追加
第1の導波管21は、その長手方向の中央部にマグネトロン40から電磁波が供給される給電部32を有している。 - 特許庁
To provide a new means capable of efficiently introducing microwaves by a magnetron to a load with a narrow introduceable microwave frequency band.例文帳に追加
導入できるマイクロ波の周波数帯域が狭い負荷に対しマグネトロンで効率よくマイクロ波を導入できる新しい手段を提供する。 - 特許庁
The controller 31 automatically regulates the microwave power of the magnetron 12 based on the information of the flowmeter, and controls the plasma temperature in the duct 25.例文帳に追加
制御器31は流量計の情報に基づきマグネトロン12のマイクロ波パワーを自動調整し、ダクト25内のプラズマ温度を制御する。 - 特許庁
In pasta cooking, the magnetron repeats ON-OFF at the period TA in the first stage and at a period TB in the second stage as shown in (B).例文帳に追加
パスタ調理では、(B)に示すように、マグネトロンは、第1ステージでは周期TAで、第2ステージでは周期TBで、ON−OFFを繰返している。 - 特許庁
To provide a magnetron wherein lowering of oscillation by efficiency magnet temperature increase is prevented and a nearly constant oscillation efficiency can be obtained.例文帳に追加
マグネトロンの磁石温度の上昇による発振効率の低下が抑制され、ほぼ一定の発振効率が得られるマグネトロンを提供する。 - 特許庁
To provide a magnetron that suppresses noise level by the movement of undesired electrons and can prevent degradation of oscillation efficiency.例文帳に追加
不要な電子の動きによるノイズのレベルを抑制し、かつ発振効率の低下を防ぐことが可能なマグネトロンを提供することを目的とする。 - 特許庁
A storing chamber 11 stored with a supply roll 15, guide rolls 16 to 21 and a take-up roll 22 is provided with a magnetron sputtering electrode 25.例文帳に追加
繰り出しロール15、案内ロール16〜21および巻き取りロール22が収納されている収納室11にマグネトロンスパッタ電極25を設ける。 - 特許庁
To provide a magnetron device offering simple construction greatly improving the strength of an abutting portion of a strap ring.例文帳に追加
簡単な構成でストラップリングの突き合わせ部分の強度を飛躍的に向上させることができるマグネトロン装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To form an adequate film without formation of non-eroded part and generation of particles therefrom, even with the use of a thick target, in magnetron sputtering equipment.例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置において、厚いターゲットを用いても非エロージョン部の発生とそれに伴うパーティクルの生成がない、良好な成膜を行う。 - 特許庁
Because a moding oscillation detecting part 13 detects that the magnetron 11 is making the moding oscillation, and that the magnetron 11 continues the moding oscillation is prevented by means of the moding oscillation detecting part 13 by stopping or restarting an inverter circuit based on this information, the high-frequency heating device which has a direct-current power supply such as a battery can be realized without damaging the life-time of the magnetron 11.例文帳に追加
モーディング発振検知部13はマグネトロン11がモーディング発振していることを検出し、この情報に基づいてインバータ回路を停止または再起動させることにより、モーディング発振検知部13によってマグネトロン11がモーディング発振を継続することを防止できるので、マグネトロン11の寿命を損ねることなくバッテリーなどの直流電源を電力源とする高周波加熱装置を実現することができる。 - 特許庁
The substrate cleaning step, the carbon particle sputtering step and the diamond-like carbon layer depositing step can be carried out continuously in one and the same magnetron sputtering apparatus.例文帳に追加
基板洗浄工程、炭素粒子スパッタ工程及びダイヤモンドライクカーボン層形成工程は、同一のマグネトロンスパッタ装置において連続して実行できる。 - 特許庁
Furthermore, it is so constructed that direction of current flowing in the negative electrode 9b is to be toward direction voltage of a positive electrode 9c of the magnetron 9 is heightened.例文帳に追加
また、前記陰極9bに流れる電流の向きを、マグネトロン9の陽極電圧9cが高くなる方向となるように構成している。 - 特許庁
A surface protection layer 18 made of an inorganic compound is laminated on the anode 16 by a sputtering process with a plasma-supporting magnetron sputter of an inductive coupling type.例文帳に追加
陽極16の上に無機化合物からなる表面保護層18を誘導結合型RFプラズマ支援マグネトロンスパッタでスパッタ処理により積層する。 - 特許庁
To provide a high frequency heating device wherein a magnetron mounting method preventing rationalization and speedup is rationalized in a manufacturing process of a conventional high frequency heating device.例文帳に追加
従来の高周波加熱装置の製造工程で、合理化や高速化の妨げになっていたマグネトロン取り付け方法を合理化した高周波加熱装置。 - 特許庁
To provide a film deposition method where the generation of nodules can be suppressed upon film deposition by a magnetron sputtering process, and to provide a sputtering system.例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング法による成膜時において、ノジュールの発生を抑制することができる成膜方法及びスパッタ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a magnetron enabled to prevent a noise at broadband, and to eliminate the damage of burning of the insulation film of coil winding forming an inductor.例文帳に追加
広帯域において雑音防止を可能とするとともに、前記インダクタを形成するコイル巻線の絶縁被膜焼損の問題を解決可能とすること。 - 特許庁
To obtain a magnetron capable of being easily miniaturized by shortening an inner diameter of a positive electrode cylinder body and a length in a radius direction of a plate-like vane.例文帳に追加
陽極筒体の内径寸法や板状ベインの半径方向の長さを短縮することで、簡単に小型化を図ることのできるマグネトロンを得る。 - 特許庁
The deflection part is mounted between the magnets, one end thereof is disposed to an outer side of the magnetron, and the other end is disposed to the inner portion of the rotatory part.例文帳に追加
偏向部材は磁石の間に取付けられ、1端部はマグネトロンの外辺部の方に配置され、他端部は回転部材の内側部分の方に配置される。 - 特許庁
A chassis 43 to be electrically connected to a metal shield case of the magnetron tube is installed integrally on the circumference of the earthing hollow conductor 42.例文帳に追加
前記接地用中空導体42の周囲には、前記マグネトロン管の金属シールドケースに電気接続されるシャーシ43が一体に設けられている。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering system using an inexpensive magnetic field forming part with a simple structure, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加
安価でかつ簡易な構造の磁界形成部を用いたマグネトロンスパッタリング装置及びそれを用いた成膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The inverter power supply circuit 16 is used for driving a magnetron 11, and high-frequency output is varied by on-off control of a switching element 30.例文帳に追加
インバータ電源回路16はマグネトロン11を駆動するためのものであり、スイッチング素子30のオンオフ制御により高周波出力が可変される。 - 特許庁
A square magnetron is placed at the back of a square target to intensify a plasma in a sputter reactor for sputtering the target material onto a square panel.例文帳に追加
四角形パネル上にターゲット物質をスパッタリングするためのスパッタリアクタ内で、プラズマを増強するための四角形ターゲットの背面に四角形のマグネトロンを載置する。 - 特許庁
To provide an inverter microwave oven and its control method for improving the heating efficiency and operation reliability of the oven by extending a magnetron driving time.例文帳に追加
マグネトロン駆動時間を延長させて電子レンジの加熱効率および動作信頼性を向上させるインバータ電子レンジおよびその制御方法を提供する。 - 特許庁
According to the magnetron sputtering system in this invention, since a magnetic field forming part 30 is composed of one magnet, the cost of the material can be reduced.例文帳に追加
本発明に係るマグネトロンスパッタリング装置によれば、磁界形成部30が1つの磁石によって構成されるため、材料コストの削減を図ることができる。 - 特許庁
To provide a magnetron capable of stable oscillation by restraining unnecessary radiation generated around a basic frequency with simple constitution.例文帳に追加
簡単な構成で基本周波数周辺に発生する不要輻射を抑制し、安定発振を可能としたマグネトロンを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a magnetron which can improve an efficiency by reducing a heating power for a cathode and reducing a proportion of an input power to the same output power.例文帳に追加
カソードの加熱電力を低減して同一出力に対する入力を減らすことにより効率を高めることのできるマグネトロンを提供する。 - 特許庁
A first probe 22 and a second probe 23 are arranged in a position separate by a 1/4 wave length of the microwave in a waveguide 29 continuously connected with the magnetron 100.例文帳に追加
マグネトロン100が連接された導波管29には、マイクロ波の1/4波長離れた位置に第1のプローブ22と第2のプローブ23とが配設される。 - 特許庁
In a compositor 12. the first output is combined with the second output obtained by reversing a phase by a phase shifter 11 to form an output signal of the magnetron 1.例文帳に追加
そして、合成器12において、第一出力と、移相器11で位相を反転した第二出力と、を合成して、マグネトロン1の出力信号とする。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus in which a magnetic field shape and a magnetic field strength on a target surface side can be easily changed and which allows the manufacturing cost thereof to be reduced as a result.例文帳に追加
容易にターゲット表面側の磁場形状や磁場強度を変更でき、装置の製造コストを低減できるマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus and sputtering method capable of enhancing the uniformity of the film thickness and the film quality within a plane of a substrate of a thin film to be formed on a large substrate with a compact magnetron sputtering cathode.例文帳に追加
小型マグネトロンスパッタリングカソードで、大型基板に形成される薄膜の基板面内における膜厚および膜質の均一性を向上させる。 - 特許庁
To prevent discharge generated at the outside of a space vacuum sealed at a brazed part and a metallized part which are formed by a part of a magnetron structure.例文帳に追加
マグネトロンの構成の一部で形成されるロウ付け部及びメタライズ部において、真空封止された空間外部で発生する放電を防止すること。 - 特許庁
The sliding mechanism is manufactured by the non-balancing type magnetron sputtering method, and a sliding material consisting of hard carbon with the hydrogen content of 20-25 at% is used.例文帳に追加
非平衡型マグネトロンスパッタリング法により製造され、水素含有量20〜25at%である硬質炭素からなる摺動材料を用いる。 - 特許庁
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