「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

When the magnetron 12 oscillates microwave, the rotating antenna 15 rotates to the rotating position where the food is heated most efficiently, and stops at the pre-determined location where the food is located.例文帳に追加

そして、マグネトロン１２がマイクロ波を発振する際、回転アンテナ１５は、決定された食品の載置位置で、食品が最も効率良く加熱される回転位置まで回転され、停止される。 - 特許庁

When the detection temperature tc in the cooking chamber is higher than the decision temperature t01 and there is no possibility of the magnetron 4 being abnormally raised, it estimates beforehand operation of a temperature fuse 10, etc.例文帳に追加

また、調理室内の検出温度ｔｃが判定温度ｔo1より大きく、マグネトロン４が異常昇温する虞れがある場合には温度ヒューズ１０等の作動を事前に推察する。 - 特許庁

To reduce a required mounting space accompanying the use of a high-frequency generation device, when the high-frequency generation device such as a magnetron is used in a vehicle having a mounted engine.例文帳に追加

エンジンが搭載された乗物でマグネトロンなど高周波発生装置を使用する場合において、高周波発生装置の使用に伴って必要となる搭載スペースを小さくする。 - 特許庁

The fan motor 22 rotating a cooling fan 21 for cooling a magnetron 15 and a high voltage transformer 17 is fixed to a back plate 12 of a body 1 by a screw 32.例文帳に追加

マグネトロン１５及び高圧トランス１７を冷却するための冷却用ファン２１を回転駆動するファンモータ２２は、本体１の後板１２にねじ３２により取付固定している。 - 特許庁

A frequency detection section 7 detects the frequency of a micro wave output from a magnetron 2 and its "deviation" from a predetermined desired oscillation frequency desired by a user, and generates a deviation signal.例文帳に追加

周波数検出部７は、マグネトロン２から出力されたマイクロ波の周波数と、ユーザが所定の所望する発信周波数からの「ずれ」を検出してずれ信号を生成する。 - 特許庁

A ZnO target 28 which is the raw material of the thin film is sputtered using a magnetron sputtering device to form the flow of the raw material (raw material flow) from a cathode 23 to an anode 24 in a plasma.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置を用いて、薄膜の原料であるZnOターゲット２８をスパッタし、プラズマ中に陰極２３から陽極２４に向かう原料の流れ（原料流）を形成する。 - 特許庁

To provide a dual magnetron sputtering apparatus of an opposed target type in which a low-temperature film formation can be performed with low damage by improving the confinement of plasma between the targets, therby preventing electric discharge near a substrate.例文帳に追加

ターゲット間でのプラズマの閉じ込めを向上し、基板の近くでの放電を防止して、低ダメージで低温成膜が可能な対向ターゲット式のデュアルマグネトロンスパッタ装置を提供すること。 - 特許庁

A temperature detection element 21 is mounted to a temperature detection element mounting plate 22 excelling in thermal conductivity, and the temperature detection element mounting plate 22 is brought into contact with and mounted to an anode of a magnetron 9.例文帳に追加

温度検知素子２１を熱伝導性の良い温度検知素子取付板２２に取付け、その温度検知素子取付板２２をマグネトロン９のアノードに接触させて取付けた。 - 特許庁

To solve the problem that it is liable to cause an abnormal discharge since a magnet assembly is continuously moved during film deposition to swing plasm in front of a target in the conventional magnetron sputtering system.例文帳に追加

従来のマグネトロンスパッタリング装置では、成膜する間、磁石組立体を連続して移動させていたので、ターゲット前方のプラズマが揺らぎ、異常放電が発生し易くなる。 - 特許庁

To provide a magnetron electrode for plasma processing which causes less abnormal discharge and can stably discharge for a long time, and to provide a film deposition method in which dust generation accompanied by abnormal discharge is suppressed.例文帳に追加

異常放電が少なく、長時間安定的に放電可能なプラズマ処理用マグネトロン電極、及び異常放電に伴うダスト発生を抑制した成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device for a ferromagnetic substance capable of obtaining discharge in a state in which the surface of a target is made into erosion in the whole face, free from the generation of particles and having a long target life.例文帳に追加

ターゲット表面が全面エロージョンとなる状態で放電が得られ、パーティクルの発生がなくターゲットライフの長い強磁性体のマグネトロンスパッタ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide the uniform heating structure of a microwave oven to effect uniform cooking by uniformly irradiating an object to be cooked in a cooking chamber with microwaves generated from a magnetron.例文帳に追加

マグネトロンから発生されるマイクロウェーブを調理室内の調理対象物に均一に照射して調理を均一に行い得る電子レンジの均一加熱構造を提供する。 - 特許庁

A backing plate 6 is arranged at the upper part of a chamber 2 forming a treatment chamber 3, a target plate 8 is fitted to the lower face side thereof, and a magnetron magnet 9 is arranged at the upper side.例文帳に追加

処理室３を形成するチャンバー２の上部にバッキングプレート６が配置されその下面側にターゲットプレート８が取り付けられ、上部側にマグネトロン磁石９が配設される。 - 特許庁

To provide a magnetron restrained from generation of wasteful higher harmonics by uniformizing the electric field distribution at vanes by improving the structure of an outside end part of the vanes contacting with a positive electrode body.例文帳に追加

陽極ボディに接触するベーンの外側端部の構造を改善してベーンの電界分布を均一にすることで無駄な高調波の発生を抑制するマグネトロンを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target material of an Fe-Co-Ni-based alloy having low magnetic permeability, which can improve the efficiency of use in the magnetron sputtering, and can increase the plate thickness of the target.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリングにおける使用効率改善やターゲット板厚を厚くすることが可能である透磁率の低いＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

The weight of the food 14 is indirectly recognized by detecting the temperature change of an anode 22 of a magnetron 2 with a temperature detection element 7 and according to the detecting power.例文帳に追加

また、加熱対象１４の重量は、マグネトロン２のアノード２２の温度変化を温度検出素子７により検出するとともに、この検出出力に基づいて間接的に認識する。 - 特許庁

The method for producing the nanometal-glass particle aggregate comprises intermittently turning on and off an RF power source while plasma is in an unstable state immediately after RF voltage application in a vacuumed, gas-replaced RF magnetron sputtering apparatus.例文帳に追加

真空引き、ガス置換が終了したＲＦマグネトロンスパッタ装置において、ＲＦ電圧印加直後のプラズマが不安定な状態で、ＲＦ電源を間欠的にＯＮ−ＯＦＦする。 - 特許庁

To provide a magnetron of a structure with frequency bandwidth it occupies suppressed to a minimum, by restraining fluctuation of oscillating frequencies even if environment temperature in use is fluctuated.例文帳に追加

使用する環境温度などが変動しても、発振周波数の変動を小さく抑制し、占有する周波数帯域幅を最小限に抑えることができる構造のマグネトロンを提供する。 - 特許庁

These can be obtained by the RF magnetron sputtering method in which titanium oxide having a diameter of 100 mm is used as a target, and boron (B) chips each having a 5 mm square are uniformly arranged on the target.例文帳に追加

これらは、ターゲットを直径１００ｍｍの酸化チタンとし、この上に５ｍｍ角のホウ素（Ｂ）チップを均一に配置し、ＲＦマグネトロンスパッタ法により得ることができる。 - 特許庁

Electric power supplied to the magnetron 9 is gradually increased so that it takes a longer time to reach a lighting state than what is required when the light-emitting medium which absorbs micro-waves and is vaporized sufficiently.例文帳に追加

マグネトロン９へ供給する電力を徐々に増加させて、発光媒体がマイクロ波を吸収して充分に気化する時間よりも長い時間かけて点灯状態にする。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus capable of uniformly executing the sputtering over the entire area from a center portion to a peripheral portion of a workpiece, and reducing occurrence of erosion.例文帳に追加

被加工体の中央部から周辺部までの全域に渡って均一にスパッタリングを行うことができ、エロージョンの発生を減少することができるマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heating cooker capable of efficiently cooling electric components such as a magnetron, an invertor baseboard and a motor unit dispersively mounted in a machine chamber located at a lower part of a heating chamber.例文帳に追加

加熱室の下方に配置される機械室に分散して配置されるマグネトロンやインバータ基板及びモータユニット等の電子部品を効率よく冷却できる加熱調理器を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron capable of restraining inner-tube discharge due to surplus wax materials produced on the way of brazing of a center lead, side lead, stem, lead-relay plate, and leads outside a stem tube.例文帳に追加

センターリード、サイドリード、ステム、リード中継板及びステム管外用のリードをろう付けする際に生ずる余剰ろう材を原因とする管内放電を抑えることができるマグネトロンを得る。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device for forming a multilayer film simultaneously capable of improving production efficiency and the quality of the film, miniaturizing the device, reducing cost and improving maintainability.例文帳に追加

生産効率の向上、膜の高品質化、装置の小型化・低価格化、およびメンテナンス性の向上を同時に可能とする多層膜成膜用のマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

That is to say, the microwaves generated by the magnetron 12 is supplied to the article of food in the heating chamber 10 not only from the lower side but also from the upper side by installing the waveguide 50.例文帳に追加

つまり、導波管５０が備えられることにより、加熱室１０内の食品は、下方からだけでなく、上方からも、マグネトロン１２の発振したマイクロ波を供給される。 - 特許庁

The control circuit 25 has a ROM storing a control index for controlling the input power to the magnetron 9 at a predetermined value, and controls the driving circuit 12 on the basis of the control index.例文帳に追加

この制御回路２５は、マグネトロン９の入力電力を所定に制御するための制御指数を記憶したＲＯＭを有し、その制御指数に従って駆動回路１２制御する。 - 特許庁

A DC magnetron sputtering system 22 for depositing an intermediate layer on an Si film on a substrate S is provided with a gaseous oxygen supplying section 27 for supplying gaseous oxygen into a chamber 10.例文帳に追加

基板Ｓ上にＳｉ膜の中間層を成膜するＤＣマグネトロンスパッタ装置２２には、チャンバ１０内に酸素ガスを供給する酸素ガス供給部２７が設けられている。 - 特許庁

After the high output heating for the heating time H:TM, low output heating (heating control with the magnetron oscillating the microwaves at a low output) is carried out for a heating time L:TM.例文帳に追加

そして、加熱時間Ｈ：ＴＭの高出力加熱の後は、加熱時間Ｌ：ＴＭの、低出力加熱（マグネトロンが低出力でマイクロ波を発振することによる加熱制御）が行なわれる。 - 特許庁

To provide a magnetron of such a structure that fluctuations of an oscillation frequency can be suppressed small, and in which occupying frequency range can be suppressed minimum even if environmental temperatures or the like are fluctuated.例文帳に追加

環境温度などが変動しても、発振周波数の変動を小さく抑制し、占有する周波数帯域幅を最小限に抑えることができる構造のマグネトロンを提供する。 - 特許庁

The magnetron has a metallic cylindrical body 13 installed along the axial direction covering the surroundings of a negative electrode end part continuing from the lower end hat 12 located on the input side of the negative electrode 3.例文帳に追加

マグネトロンは、陰極３の入力側に位置する下エンドハット１２に連続して陰極端部周囲を軸線方向に沿って覆う金属製の円筒体１３が設けられている。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which enables a via hole with a high aspect ratio to be filled up, and has a function of restraining peeling of dust from a deposition shield, and provide a method therefor.例文帳に追加

高いアスぺクト比のビアホールの孔埋めを可能とするとともに、防着板からの剥離ダストを抑制する機能を備えたマグネトロンスパッタ装置とその方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system for depositing a thin film on a base material of an optical storage medium which is capable of preventing electrons escaping from plasma from being incident on the base material.例文帳に追加

光記憶媒体の母材に薄膜をつけるマグネトロンスパッタ装置において、プラズマから逃げ出した電子が母材に入射することを防止可能なスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

A temperature inside the container for sterilization is monitored, and the output of a magnetron, a movable base on which the sterile container is placed, and a movable reflector are controlled by a computer of a control unit, based on the monitored temperature.例文帳に追加

殺菌用容器の内部温度をモニタし、それに基づきマグネトロンの出力、無菌容器を置く可動式台及び可動式反射装置を、制御ユニットのコンピュータにより制御する。 - 特許庁

To realize the downsizing of a power supply while realizing the reduction of leak noises from a high voltage lead wire 4 between a magnetron 1 and a switching power supply 11, and realizing cooling improvement of a high voltage rectifier 3.例文帳に追加

マグネトロン１とスイッチング電源１１の間の高圧リード線４からの漏洩ノイズの低減と高圧整流器３の冷却改善を図りながら電源の小型化を図ること。 - 特許庁

The microwave oven 1 is provided with a magnetron 10 and a waveguide 70, with an oven impedance for standing wave ratio set within the range of 1.5 to 4, and a standing wave phase within the range of 0.2 to 0.35 λg.例文帳に追加

電子レンジ１は、マグネトロン１０および導波管７０を具備し、定在波比が１．５〜４、かつ、定在波位相が０．２〜０．３５λｇの範囲内にオーブンインピーダンスが設定されている。 - 特許庁

A driving voltage application circuit 40 applies a prescribed high voltage induced in a secondary coil N2 of a transformer 41 between a positive electrode 51 and a negative electrode 52 of a magnetron 50 as a driving voltage.例文帳に追加

駆動電圧印加回路４０は、トランス４１の２次コイルＮ２に誘起される所定の高電圧をマグネトロン５０の陽極５１と陰極５２との間に駆動電圧として印加する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetron, which can prevent the displacement of an output conductor and improve productivity, and additionally, can reduce the cost for production equipment and its maintenance.例文帳に追加

出力導線の位置ズレを防止し、かつ生産性を向上させるとともに生産設備やその保守管理面での費用を低減できるマグネトロンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a shield for a DC magnetron sputtering reactor which is particularly favorable in reliably igniting plasma used for sputtering a ferromagnetic material such as cobalt and nickel.例文帳に追加

コバルトまたはニッケルのような強磁性材料をスパッタリングするのに使用されるプラズマを確実に点弧させるのに特に有利な直流マグネトロンスパッタリング反応器のためのシールドを提供する。 - 特許庁

The solid urea storage part 8 is connected with a magnetron 13 which is a microwave generating device via a hole 12 partially formed at a side wall of the solid urea storage part 8.例文帳に追加

固体尿素収容部８には、固体尿素収容部８の側壁に部分的に設けられた孔１２を介して、マイクロ波発生装置であるマグネトロン１３が接続されている。 - 特許庁

The design of magnetron sputtering where magnetic fields are formed on the surface side of a target by rotating magnets 68 arranged at the back face side of a target 70 to enclose plasma 73, is supported.例文帳に追加

ターゲット７０の裏面側に配置された回転する磁石６８によりターゲットの表面側に磁場を形成してプラズマ７３を閉じ込めたマグネトロンスパッタの設計を支援する。 - 特許庁

A lamp house 11, in which the electrodeless lamp 13 is integrated with a magnetron 12 for supplying microwave energy, and a housing part 17 for housing the water to be treated are constituted in separated spaces.例文帳に追加

無電極ランプ１３とマイクロ波エネルギーを供給するマグネトロン１２が一体構造となったランプハウス１１と被処理水が収容される収容部１７は別空間で構成する。 - 特許庁

To provide a capacitor for a magnetron which can decrease the production time of a product by improving capacitance and withstand voltage performance and by reducing the size of a capacitor and loading weight of epoxy.例文帳に追加

静電容量および耐電圧性能を向上し、コンデンサの大きさおよびエポキシの充填量を減少し、製品の生産時間を減少できるマグネトロンのコンデンサを提供する。 - 特許庁

A magnetron 28 sends an electromagnetic wave of linearly polarized light into a waveguide 32 through an antenna 30 passing through an inlet opening 34 formed on a sidewall of the waveguide 32.例文帳に追加

マグネトロン２８は、導波管３２の側壁に設けた入口開口３４を通って突入するアンテナ３０を介して直線偏光の電磁波を導波管３２内に導入する。 - 特許庁

In this cathode for a magnetron, a surface of a cylindrical base substance metal 11A is formed with recessed grooves 111 and projecting streaks 112, while a thermoelectron emissive material 12 is filled in the recessed grooves 111.例文帳に追加

円筒状の基体金属１１Ａの表面に凹溝１１１と凸条１１２を設け、その凹溝１１１内に熱電子放出物質１２を充填してマグネトロン用陰極を構成する。 - 特許庁

A nitrogen-substituted titanium oxide thin film is produced by RF magnetron sputtering process with a target as titanium oxide under the conditions in a nitrogen-containing inert gas atmosphere and at a substrate temperature of 400°C or higher.例文帳に追加

窒素含有不活性ガス雰囲気および基板温度４００℃以上の条件下、ターゲットを酸化チタンとするＲＦマグネトロンスパッタ法により窒素置換型酸化チタン薄膜を製造する。 - 特許庁