「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cooker which simultaneously performs both a high frequency heating and a heater heating without lowering the cooling efficiency of a magnetron and the heating efficiency of a heater.例文帳に追加

マグネトロンの冷却効率低下やヒータ加熱の加熱効率低下を伴わずに、高周波加熱とヒータ加熱を両方同時に行うことができる加熱調理器を提供する。 - 特許庁

A problem with such a magnetron is that there is capacitive coupling between a cathode and the output coupler 51, which can lead to the coaxial TEM mode propagating along the cathode.例文帳に追加

こうしたマグネトロンに関連する問題は、カソードと出力カプラ５１との間に容量結合があることであり、そのことが、カソードに沿って伝播する同軸のＴＥＭモードをもたらし得る。 - 特許庁

To provide a method for producing an oxide thin film by which a film having high biaxial orientation can be formed when producing the oxide thin film by a magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタ法により酸化物薄膜を製造する場合であって、高い２軸配向性を有する膜を形成することができる酸化物薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The magnetron unit of the sputtering apparatus 1 has a frame 12 installed on the top face of the target 3, and has a magnet assembly 14 in the inner region of the frame 12.例文帳に追加

スパッタリング装置１のマグネトロンユニット１１は、ターゲット３の上面に取り付けられたフレーム１２を有し、このフレーム１２の内側領域には、マグネットアセンブリ１４が配置されている。 - 特許庁

The magnetron unit 30 comprises a circular base plate 32 and an outer magnet 34o and an inner magnet 34i fixed on a lower side 32a of the base plate 32 in a predetermined array.例文帳に追加

マグネトロンユニット３０は、円形のベースプレート３２と、ベースプレート３２の下面３２ａ上に所定の配列で固定されたアウターマグネット３４ｏ及びインナーマグネット３４ｉとを備える。 - 特許庁

To provide a removal device for safely incinerating particulates in exhaust gas from an automobile, etc., especially in diesel exhaust gas in a short time, by means of high-frequency waves generated by a magnetron.例文帳に追加

自動車等の排気ガスで特にディーゼルの排気ガス中の微粒子をマグネトロンにより発生する高周波電波により安全に短時間で焼却処理する除去装置である。 - 特許庁

The magnetic substance 4 is buried to the inside of the target 1 or the backing plate 2, e.g. so as to be located in the upper direction of a magnet 8 of a magnetron sputtering device or at a position more outward than that.例文帳に追加

磁性体４は、例えばマグネトロンスパッタ装置の磁石８の上方もしくはそれより外側に位置するように、ターゲット１もしくはバッキングプレート２の内部に埋め込む。 - 特許庁

Microwave 11 is generated by a magnetron 1 in a metal box 4, and an article 9 accommodated in a heat-resistant basket 6 so as to be sterilized is irradiated with the microwave 11 and sterilized thereby.例文帳に追加

金属製ボックス４内のマグネトロン１によってマイクロ波１１を発生させて、耐熱バスケット６に入れた殺菌処理する物品９にマイクロ波１１を照射して殺菌処理をする。 - 特許庁

In this high frequency heating device comprising the heating chamber 2 receiving a heated object, a magnetron 13 heating the heated object by electromagnetic wave, a rotary antenna 7 stirring electromagnetic wave radiated from the magnetron 13, a rotating means rotating the rotary antenna 7, and a setting stand 3 for setting the heated object, a driving means is disposed to move the rotary antenna 7 right and left.例文帳に追加

被加熱物を収納する加熱室２と、前記被加熱物を電磁波で加熱するマグネトロン１３と、該マグネトロン１３から放射された電磁波を攪拌する回転アンテナ７と、該回転アンテナ７を回転させる回転手段と、前記被加熱物を載置する載置台３を備えた高周波加熱装置において、前記回転アンテナ７を左右に移動させる駆動手段を設けた。 - 特許庁

The microwave oven comprises a cavity in which a food is contained, a magnetron which generates microwave, a waveguide in which at least two slots for guiding the microwave from the magnetron into the cavity are formed, and a stirring blower which is installed rotatably inside the cavity in order to change periodically the interference state of the microwave.例文帳に追加

本発明による電子レンジは、その内部に食物が収容されるキャビティと、マイクロ波を発生させるマグネトロンと、マイクロ波を前記マグネトロンから前記キャビティの内部へ案内する少なくとも二つのスロットが形成された導波管と、前記マイクロ波の干渉状態を周期的に変化させるために、前記キャビティの内部に回転可能に設置される撹拌送風機とを含む。 - 特許庁

The treatment device is provided with a magnetron 40 to generate the electromagnetic wave, a first waveguide 21 to propagate the electromagnetic wave generated by the magnetron 40, a plurality of second waveguide tubes 22 having a plurality of slots 24 arranged and installed so as to become parallel with each other in longitudinal direction, and a vacuum container 10 in which the electromagnetic wave radiated from the slot 24 is made incident inside.例文帳に追加

電磁波を発生させるマグネトロン４０と、マグネトロン４０によって発生された電磁波を伝播させる第１の導波管２１と、複数のスロット２４を有し、長手方向が互いに平行となるように並べて設けられた複数の第２の導波管２２と、内部にスロット２４から放射された電磁波が入射される真空容器１０とを備える。 - 特許庁

This device that can efficiently and stably introduce a magnetron output to the load is obtained by injecting an output of an injection wave oscillator of low power excellent in a frequency characteristic to improve the output characteristic of the magnetron about an oscillation frequency and a spectrum and additionally preventing reflection from the load from being introduced to the injection wave oscillator.例文帳に追加

周波数特性が優れた低電力の注入波発振装置の出力をマグネトロンに注入してマグネトロンの出力特性を発振周波数とスペクトラムについて大きく改善するとともに、合わせて負荷からの反射をこの注入波発振装置に導入されないようにして、マグネトロン出力を負荷に効率よく安定に導入できる装置を実現した。 - 特許庁

The microwave heating device 1 comprises a heating chamber 12, a magnetron 13 for generating microwaves 7, a waveguide 14 for connecting the heating chamber 12 to the magnetron 13, an infrared thermography (a temperature distribution measuring means) 15 for intermittently measuring temperature distribution in the heating chamber 12, and a heating condition control device 16 for controlling heating conditions in the heating chamber 12.例文帳に追加

マイクロ波加熱装置１は、加熱室１２と、マイクロ波７を発生させるマグネトロン１３と、加熱室１２とマグネトロン１３との間を連結する導波管１４と、加熱室１２内の温度分布を断続的に測定する赤外線サーモグラフィ（温度分布測定手段）１５と、加熱室１２内の加熱条件を制御する加熱条件制御装置１６とを有する。 - 特許庁

A conventional sputtering cathode 3c having an auxiliary material targets 1p, 1n each formed from an auxiliary material containing a component serving as an addition material is arranged between a plurality of magnetron sputtering cathodes 3m having a main material target 1i for a thin film to be deposited, and a sputtering power to be applied to the magnetron sputtering cathodes 3m and the conventional sputtering cathode 3c is independently controlled.例文帳に追加

形成する薄膜の主材料ターゲット１ｉを有する複数のマグネトロンスパッタリングカソード３ｍの間に、添加材料となる成分を含む副材料からなる副材料ターゲット１ｐ，１ｎを有するコンベンショナルスパッタリングカソード３ｃを配置し、マグネトロンスパッタリングカソード３ｍおよびコンベンショナルスパッタリングカソード３ｃに投入するスパッタリング電力を独立に制御することを特徴とする。 - 特許庁

A microwave oven comprises a power supply section for supplying an AC power source, a high-voltage transformer for generating a high voltage, based on the AC power source from the power source supply section, the magnetron for generating microwave using the high voltage generated by the high-voltage transformer, and a control signal generating section for applying a control signal to the magnetron.例文帳に追加

交流電源を供給する電源供給部と、前記電源供給部からの交流電源に基づいて高電圧を発生させる高圧変圧器と、前記高圧変圧器で発生される前記高電圧によってマイクロ波を発生させるマグネトロンと、前記マグネトロンに制御信号を印加する制御信号発生部と、を有する電子レンジの制御方法に関する。 - 特許庁

A substrate is placed direct below a magnetron type discharge electrode where a high frequency electric field applied from the outside intersects a stationary magnetic field at a right angle, a metallic catalyst supported on a support is fixed on the substrate, magnetron plasma is produced under the coexistence of a hydrocarbon gas while heating the substrate by a heater and the single-wall carbon nanotube is formed on the metallic catalyst under the DC bias control of the substrate.例文帳に追加

外部印加の高周波電場と定常磁場とが直交するマグネトロン型放電電極の直下に基板を設置すると共に、該基板上に担体に担持された金属触媒を固定し、該基板をヒーターで加熱しながら炭化水素ガスの共存下にマグネトロンプラズマを発生し、該基板の直流バイアス制御のもとに前記金属触媒上に単層カーボンナノチューブを生成する。 - 特許庁

The magnetron sputtering source comprises a backing plate 3 to function as a cathode electrode, a target 2, and a magnet 4 to generate the magnetron magnetic field, and further comprises a heating mechanism to heat the target 2 on the target 2 side of the backing plate 3, and a cooling mechanism to cool the magnet 4 on the side opposite to the target 2 side of the backing plate 3.例文帳に追加

カソード電極として機能するバッキングプレート３と、ターゲット２と、マグネトロン磁場を発生する磁石４とを具えるマグネトロンスパッタ源であって、前記バッキングプレート３の前記ターゲット２の側に前記ターゲット２を加熱する為の加熱機構と、前記バッキングプレート３の前記ターゲット２のある側と反対側に前記磁石４を冷却する為の冷却機構とを具える。 - 特許庁

The high-dielectric thin-film capacitor is manufactured by forming an alloy electrode 2 of AlNi containing 30 at.% of Ni on a glass substrate by an RF magnetron sputtering method, then forming SrTiO 3 on the electrode 2 by the RF magnetron sputtering method and forming again an alloy electrode 2 of AlNi containing 30 at.% of Ni on the high-dielectric thin- film.例文帳に追加

ガラス基体上にＲＦマグネトロンスパッタ法によりＮｉが３０ａｔ％含有されたＡｌＮｉの合金電極を形成後、前記電極上にＲＦマグネトロンスパッタ法によりＳｒＴｉＯ3を形成し、再び前記高誘電体薄膜上にＮｉが３０ａｔ％含有されたＡｌＮｉの合金電極を形成することにより高誘電体薄膜コンデンサとする。 - 特許庁

Moreover, even when the magnetron 10 is breaking down accidentally, reliability of the conveyer type high-frequency heating equipment as a production facility can be extremely raised by enabling continuous operation by compensating the high frequency supply power for the other magnetron in a corresponding heating chamber 1 or the heating chamber other than the corresponding heating chamber 1, and by informing these states.例文帳に追加

また、偶発的にマグネトロン１０が故障となった場合でも、該当する加熱庫１内の他のマグネトロンで、あるいは該当する加熱庫１以外の加熱庫で、高周波供給電力を補償することにより、稼働を続けることができ、また、この状態を報知することにより、生産設備としてのコンベア式高周波加熱装置の信頼性を極めて向上させることができる。 - 特許庁

A magnetron 13, an electric power source 14 and a cooling fan 15 for cooling these are provided to be aligned approximately on a straight line at a lower part of a machine chamber 11 in a back part in an inner box which forms a heating chamber.例文帳に追加

加熱室を形成する内箱３後方の機械室１１内の下部に、マグネトロン１３、電源装置１４、これらを冷却する冷却用ファン１５を、ほぼ直線状に並ぶように配設する。 - 特許庁

This system is provided with a target 2 arranged oppositely to the substrate 1 to be treated and a magnetic field forming means 3 arranged on the back side of the target 2 and forming the magnetic field for magnetron discharge in front of the target 2.例文帳に追加

被処理基板１に対向して配置されるターゲット２と、ターゲット２の背面側に配置され、マグネトロン放電用の磁場をターゲット２の前方に形成するための磁場形成手段３と、を備える。 - 特許庁

To provide a magnetron in which magnetic flux leakage to the outer circumferential side of an annular magnet can be reduced, and magnetic flux can be efficiently concentrated on an action space between magnetic pole pieces, and additionally, of which assemblability can be improved.例文帳に追加

環状磁石外周側に漏洩する磁束を低減でき、効率的に磁極片間の作用空間に磁束を集中させることができると共に、マグネトロンの組立性を向上する。 - 特許庁

To constitute a drive circuit for interrupting high voltage by a high-pressure FET without using a pulse transformer and to grasp the relationship between a high-voltage pulse shape to be applied to a magnetron and a spectrum of a high-frequency pulse to be generated.例文帳に追加

パルストランスを用いず、高電圧を高圧ＦＥＴなどで断続する駆動回路を構成し、マグネトロンに印加する高電圧パルス波形と発生する高周波パルスのスペクトラムの関係を把握する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system where the outer circumferential edge part of a target can be uniformly eroded, the utilizing efficiency of the target is high, further, abnormal discharge is hard to be generated, and satisfactory thin film deposition can be performed.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置において、ターゲットの外周縁部を均等に侵食できてターゲットの利用効率が高く、その上、異常放電が発生し難く、良好な薄膜形成ができるようにする。 - 特許庁

An application current when the transistor Q31 is switched on has an approximately proportional relation to a positive electrode current of the magnetron 50, and the positive electrode current is controlled corresponding to a resistance value of a temperature-sensitive resistive element RT.例文帳に追加

トランジスタＱ３１のオン時の通電電流とマグネトロン５０の陽極電流とはほぼ比例関係にあり、感温抵抗素子ＲＴの抵抗値に応じて陽極電流が制御される。 - 特許庁

Thereby, the magnetron gets vibrations shifted to a higher frequency band wherein it hardly gets excited vibration, when moved rapidly as in the case of a linear acceleration system to be used for the purpose of a radiation therapy.例文帳に追加

これによって、マグネトロンは、放射線治療目的のために使用される線形加速システムにおけるように、急速に移動する場合に、励振されにくい、より高い周波数のバンドに振動がシフトする。 - 特許庁

To provide a magnetron plasma magnetic field generation apparatus capable of controlling the direction of a magnetic field with respect to a wafer surface (the direction of a magnetic field in the vicinity of an etching surface of a wafer) in order to obtain uniformity of etching.例文帳に追加

エッチングの均一性を得るためにウエハ面に対する磁界の方向（ウエハのエッチング面近傍での磁界の方向）を制御できるマグネトロンプラズマ磁場発生装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a choke coil which efficiently suppresses noise and suppresses a temperature increase of a ferrite core, provide an LC filter device using the choke coil, and provide a magnetron using the LC filter device.例文帳に追加

ノイズを効率的に抑制し、かつ、フェライトコアの温度上昇を抑制できるチョークコイル、このチョークコイルを用いたＬＣフィルタ装置、および、このＬＣフィルタ装置を用いたマグネトロンを提供する。 - 特許庁

An Mo/Si multilayered film (a surface side multilayered film) 102 is film-deposited on the surface of the deep layer side multilayered film 101 by a low voltage discharge rotary magnet cathode sputtering method which is a kind of a magnetron sputtering method.例文帳に追加

深層側多層膜１０１の表面には、マグネトロンスパッタ法の１種である低圧放電ロータリーマグネットカソードスパッタ法により、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜（表層側多層膜）１０２が成膜されている。 - 特許庁

To enable stable system operation even if transmission timing is heavily upset when power is turned on because of the properties of a modulator, in the case of a weather Doppler radar device using a magnetron as a transmitting tube.例文帳に追加

送信管にマグネトロンを使用した気象ドップラレーダ装置において、変調器の特性により電源投入時の送信タイミングが大きくずれた場合でも、安定したシステムの運用を可能にする。 - 特許庁

To reduce temporary surge action and the occurrence of noise in hot state, under which the filament of a magnetron is heated to a temperature surpassing a fixed temperature, and to improve the stability of a circuit.例文帳に追加

マグネトロンのフィラメントが一定の温度以上に加熱されている状態、即ち、ホット状態での一時的なサージ動作及びノイズ発生を減らすこと、および、回路の安定性を向上させること。 - 特許庁

To provide a magnetron plasma processing device which is capable of locally producing a strong magnetic field at a required site in the processing space of a work so as to enhance a processing space in plasma density.例文帳に追加

被処理体の処理空間の所望の位置に局部的に強磁場強度部分を形成して、処理空間のプラズマ密度を高くすることができるマグネトロンプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

Grape strained lees are dissociated and separated by a vibration sieve, heated to a temperature not more than 80°C by a magnetron, blanched, dried by low temperature heating, and ground into fine powder having a particle diameter of not less than 60 meshes.例文帳に追加

ぶどう絞り粕を振動篩で解離分別したうえ、マグネトロンで８０℃以下に加熱しブランチングを施し、且低温加熱乾燥のうえその粉径が６０メッシュ以上の微細粉体に粉砕させる。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can adequately cool a target while increasing the strength of a magnetic field generated on the surface of the target, and also, can cope with the tendency of reducing the size of the target.例文帳に追加

ターゲットの表面上に発生する磁場の強度を高めながら、ターゲットを適切に冷却することができ、なお且つ、ターゲットの小径化に対応可能なマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

The heating cooker includes two antennas 16, 17 comprising a conductive material and guiding microwaves supplied from a magnetron to inside of a waveguide 10 to inside of a heating chamber 3 via a conduction hole 12.例文帳に追加

加熱調理器は、導電性材料で構成され、マグネトロンから導波管１０内に供給されたマイクロ波を、導通孔１２を介して加熱庫３内に導く２つのアンテナ１６，１７を備える。 - 特許庁

The number of poles is reduced to twelve pieces by changing the directions of the magnet segments 22 of the magnetic field generator 21 for the magnetron plasma and removing (thinning out) the magnet segments 22 at an intermediate part.例文帳に追加

マグネトロンプラズマ用磁場発生装置２１の各磁石セグメント２２の向きを変更するとともに、中間部分の磁石セグメント２２を取り外す（間引く）ことによって、磁極の数を１２個に減少させる。 - 特許庁

In the planar ferromagnetic sputter target to be used as a cathode in the magnetron sputtering of a magnetic thin film, the ferromagnetic material has a localized reasion different in permeability.例文帳に追加

磁性薄膜のマグネトロンスパッターリングにおけるカソードして使用するための平面状強磁性スパッターターゲットであって、その強磁性材料が異なる透磁率の局在化した領域を有するものを提供する。 - 特許庁

The method in this invention comprises: a deposition step for the film by arc evaporation; and a deposition step for the film by dual magnetron sputtering, and the deposition is performed in succession or simultaneously.例文帳に追加

本発明の方法は、アーク蒸発による前記被膜の堆積工程、およびデュアルマグネトロンスパッタリングによる前記被膜の堆積工程を含んでなり、前記堆積が順次または同時に実施される。 - 特許庁

This plasma treatment equipment has a cathode 2, a high-frequency power source 5 connected thereto, a magnetron magnetic field generating means (magnet 20) near the cathode 2 and means (coil 21) of decreasing a cathode sheath voltage VS.例文帳に追加

陰極２と、これに接続された高周波電源５と、陰極２近傍にマグネトロン磁場発生手段（磁石２０）と、陰極シース電圧Ｖ_Sを減少させる手段（コイル２１）とを有するプラズマ処理装置。 - 特許庁

The magnetron sputtering system has a substrate holder 3 for holding a substrate 4 where a thin film is to be deposited on the surface and a target 12 disposed to be opposed to the substrate 4 in a vacuum vessel 1.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置は、表面に薄膜が形成される基板４を保持する基板ホルダー３と、基板４に対向配置されたターゲット１２とを真空容器１内に収容している。 - 特許庁

Upon finishing preheating of the range baking dish and heating using the magnetron, a heating time H:TM with a heater is determined in accordance with the temperature in the heating chamber 10 at this time (S318).例文帳に追加

そして、レンジ焼き皿の予熱およびマグネトロンを用いた加熱が終了すると、その時点での加熱室１０内の温度に基づいて、ヒータによる加熱時間Ｈ：ＴＭが決定される（Ｓ３１８）。 - 特許庁

With that, distortion of the input current can be alleviated in either case of supplying current to a magnetron 6 as a load with non-linearity or to an induction heating coil 5 as a load with linearity.例文帳に追加

それにより、非線形性を有する負荷であるマグネトロン６と線形性を有する負荷である誘導加熱コイル５のいずれに電流を供給する場合にも、入力電流の歪みを軽減できる。 - 特許庁

To provide a microwave oven in which the flow of the air is made smooth and the fan efficiency is improved, and which is greatly improved in the cooling effect of the transformer and the magnetron or the like.例文帳に追加

風の流れがスムーズになって送風効率が向上し、トランスやマグネトロン等の冷却効果が大幅に向上するように改良された電子レンジを提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

With this, microwaves oscillated by a magnetron are prevented from centering on the protection cover 9, and so, the resin making up the protection cover 9 is prevented from getting dissolved due to temperature rise.例文帳に追加

これによりマグネトロンによって発振されたマイクロ波が保護カバー９に集中することを防ぎ、温度が上昇して保護カバー９を構成する樹脂を溶かしてしまうことを防ぐことができる。 - 特許庁

When the weight detecting result Wo exceeds 350 g, a first heating course wherein after a heating process by magnetron is executed, a heating process by a heater is executed is executed at S5 and S6.例文帳に追加

重量検出結果Ｗｏが「３５０ｇ」以上であると、マグネトロンによる加熱行程を実行した後前記ヒータによる加熱行程を実行する第１の加熱コースを実行する（ステップＳ５、Ｓ６）。 - 特許庁