「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, in failure correction in which exchange of the magnetron 1 is necessary, a working hour shortening becomes possible, and service improvement to customers can be aimed at.例文帳に追加

また、マグネトロン１の交換が必要な故障修理の際の作業時間短縮も可能になり、顧客へのサービス性向上を図ることもできる。 - 特許庁

To provide a magnetron improved in performance of a brazed part for forming a 1/4 wavelength type choke in a high-frequency output part and having high quality.例文帳に追加

高周波出力部に４分の１波長型チョークを形成するろう付け部の性能を向上させた品質の良いマグネトロンを提供する。 - 特許庁

Then, because a transformer of a large capacity is not needed since this uses a switching method, the small-sized and inexpensive magnetron filament power supply device can be provided.例文帳に追加

そして、スイッチング方式であることから大容量のトランスを必要としないので、小型で安価なマグネトロンフィラメント電源装置を提供することができる。 - 特許庁

To suppress generation of a whisker in a magnetron tube end hat 1 of which on the surface a getter layer containing a gas adsorption metal is formed.例文帳に追加

表面にガス吸着金属を含むゲッター層が形成されたマグネトロン管用エンドハット１においてウィスカーの発生を抑制することができる。 - 特許庁

This soft starter means is that which is to prevent the break due to the self-heating of the magnetron by the reflected wave, and used at the start of the light- emission of the electrodeless lamp 5.例文帳に追加

このソフトスタート手段は、反射波によるマグネトロンの自己加熱によって破損を防止するためのもので、無電極ランプ５の発光開始時に使用する。 - 特許庁

The magnetron includes lead-relay plates 28 each equipped with a relay-plate circular groove 28c along a peripheral direction at each plane part of a display side and a rear-face side.例文帳に追加

表示側と裏面側のそれぞれの平面部に円周方向に沿う中継板環状溝部２８ｃを有するリード中継板２８を備える。 - 特許庁

To provide a high frequency heating device with a power unit having good cooling efficiency, to be used for equipment such as a microwave oven with a magnetron.例文帳に追加

電子レンジ等のマグネトロンを備えた機器に用いられる高周波加熱装置において、冷却効率の良い電源ユニットを備えた高周波加熱装置を得る。 - 特許庁

To provide a magnetic circuit for a magnetron sputtering device in which the height of the magnetic field on the surface of a target is remarkably improved by improving a conventional magnetic circuit.例文帳に追加

従来の磁気回路を改良して、ターゲット表面における磁場の高さを飛躍的に向上させたマグネトロンスパッタ装置用磁気回路を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition system by magnetron sputtering in which a thin film with a uniform film thickness can be deposited even in the case that the distance between a target and a substrate is short.例文帳に追加

ターゲットと基板の間の距離が短い場合でも、均一な膜厚の薄膜を形成できるマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron which effectively conducts heat generated in the main body part to the frame body via a cooling fin and in which the cooling efficiency is improved.例文帳に追加

本体部で発生する熱を冷却フィンを介して効率よく枠体に伝導させ、冷却効率を向上させることができることを課題とする。 - 特許庁

To provide a microwave oven capable of improving operability of recycling and alleviating maintenance after recycling by accurately grasping a residual life of a magnetron.例文帳に追加

マグネトロンの残り寿命を正確に把握してリサイクルの作業性向上及びリサイクル後の保守軽減を図ることのできる電子レンジを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method of controlling a microwave oven comprising a magnetron for generating a high frequency signal and a sensor for detecting the condition of air in a cooking chamber.例文帳に追加

高周波信号を発するマグネトロンと調理室空気の状態を検出するセンサを含む電子レンジ制御装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a destruction of a magnetron by the control using a microcomputer wherein the destruction is generated because output actions have been made for a long time in a high output of a high frequency oscillation.例文帳に追加

高出力の高周波発振における長時間出力動作することで発生するマグネトロン破壊を、マイクロコンピュータの制御により防止すること。 - 特許庁

In this magnetron, any one of an antenna lead 18 and a vane 12 is formed with a projecting part, and the other is formed with an insertion part, in which the projecting part is to be inserted.例文帳に追加

アンテナリード１８とベイン１２の接合部のいずれか一方に凸部を形成し、他方に前記凸部が挿入される挿入部を形成した。 - 特許庁

To enable a power supply for driving magnetron to be mounted on sets with various cooling performance, by making it common to the various sets and providing an extrusion molded radiating fin as a block.例文帳に追加

マグネトロン駆動用電源を共通にして、押し出し成形の放熱フィンのブロック化で様々な冷却性能のセットに搭載可能とすること。 - 特許庁

The measurement result ΔP of the pressure variation is compared with a test value ΔPo, and a magnetron 9 is driven and controlled based on the comparison result between both of them.例文帳に追加

この圧力変化量の実測結果ΔＰが試験値ΔＰｏと比較され、両者の比較結果に基いてマグネトロン９が駆動制御される。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering source, a sputtering-coating system and a method for the treatment of a substrate by means of which the efficiency of coating process can be increased by increasing power density.例文帳に追加

出力密度を上げることでコーティング処理の効率を向上したマグネトロンスパッタリング源、スパッタコーティング装置及び基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electric power control device for high frequency induction heating which is not affected by variations in a kind of magnetron, its characteristics, and power supply voltage fluctuations or the like.例文帳に追加

マグネトロンの種類、特性のバラツキや電源電圧変動等の影響を受けない高周波誘電加熱用電力制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering method using a magnetic substance having thickness suitable for mass production as a target, good in productive efficiency, low in the cost and excellent in cost effectiveness.例文帳に追加

量産に適した厚みをもつ磁性体をターゲットとして用い、生産効率がよく、低コストで経済性に優れたマグネトロンスパッタ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can improve the plasma density in a relatively easy manner without using any high frequency power source circuit which is expensive and requires a space for a matcher.例文帳に追加

高価でマッチャなどのスペースを要する高周波電源回路を用いなくても、比較的容易にプラズマ密度向上を図り得るようにする。 - 特許庁

A chamber 10 contains a target holder 13 for holding a target 12, a substrate holder 16 for holding the substrate 14, a scanning magnetron 18, and heaters 20 and 22.例文帳に追加

チャンバ１０は、ターゲット１２を保持するターゲットホルダ１３、基板１４を保持する基板ホルダ１６、走査マグネトロン１８および加熱ヒーター２０，２１を含む。 - 特許庁

The anodes may be disposed across the process space perpendicular to the long side of a magnetron that may scan in two dimensions across the back of the sputtering target.例文帳に追加

アノードは処理空間全体にわたって、スパッタリングターゲットの背面全体を二次元方向に走査するマグネトロンの長辺に直角に配置してもよい。 - 特許庁

Electric energy supplied from a power supply 1 is converted into microwave energy by a magnetron 2, and transmitted to the cavity resonator 4 through an wave guide 3.例文帳に追加

電源１から供給される電気エネルギがマグネトロン２によってマイクロ波エネルギに変換され、導波管３を通して空洞共振器４に伝搬される。 - 特許庁

Deposition of the coating on a support can be achieved by two successive physical vapor deposition steps, and more particularly by magnetron cathode sputtering.例文帳に追加

支持体上への被覆の堆積は、２つの連続した物理的蒸着工程により、より詳しくは、マグネトロン陰極スパッタリングにより、達成することができる。 - 特許庁

A magnet for a hearth for introducing a plasma beam emitted from a pressure-gradient type plasma gun to a vapor deposition material placed on a hearth has a magnetron structure.例文帳に追加

圧力勾配型プラズマガンから出射されたプラズマビームをハースに載置された蒸着材料に導くためのハース用マグネットが、マグネトロン構造である。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device capable of uniformly forming film on an article to be treated and also capable of effectively utilizing a target.例文帳に追加

被処理物に均一に膜を形成することができるとともに、ターゲットを有効に利用することができるマグネトロンスパッタ装置を提供することにある。 - 特許庁

When the magnetron 9 is in nonatuation, the control part 1 checks the input signal to the port A1 for checking whether.例文帳に追加

制御部１では、ポートＡ１の端子が他の端子とショートしていなければ、マグネトロン９の非駆動時には、ポートＡ１にＨｉレベルの信号が入力される。 - 特許庁

To enhance the stability of a circuit, by preventing the applying of a voltage lower than an allowable lower limit voltage so that the efficiency deterioration of a magnetron is prevented.例文帳に追加

許容下限電圧より低い電圧が印加されることを防いで、マグネトロンの効率低下を防止し、回路の安定性を高めることができる。 - 特許庁

To provide a target holder for magnetron sputtering having simple structure, with which the utilization efficiency of a target can be enhanced by uniformizing erosion of the target.例文帳に追加

簡単な構造で、ターゲットのエロージョンを均一化して、ターゲットの利用効率を高めることのできるマグネトロンスパッタリング用のターゲットホルダーを提供する。 - 特許庁

Thus, always constant power is supplied to cathode of the magnetron 3, and the moding is prevented from occurring, since the temperature of the cathode is made stable.例文帳に追加

したがって、マグネトロン３の陰極には常に一定の電力が供給されて、その陰極の温度が安定して、モーディングの発生が抑えられる。 - 特許庁

In the array antenna, one magnetron corresponds to each of the straight arrays 20 or each of the triangle arrays 30 with respect to the second and thrid antenna groups.例文帳に追加

このようなアレイアンテナにおいて、第２及び第３のアンテナグループに関しては、ストレートアレイ２０又はトライアングルアレイ３０毎に一つのマグネトロンを対応させる。 - 特許庁

Also, permanent magnets 36, 36, etc., are built as magnetic field generating means into the coaxial magnetron cathode 36, and thereby the higher density of the plasma is attained.例文帳に追加

また、同軸マグネトロンカソード３６には、磁界発生手段としての永久磁石３６，３６，…が内蔵されており、これによってプラズマの高密度化が図られる。 - 特許庁

To suppress effectively conduction of an electromagnetic disturbance noise of a fundamental harmonic, a side band or a higher harmonic of a magnetron tube through a filament current supply line.例文帳に追加

マグネトロン管の基本波、サイドバンド、高調波の電磁妨害雑音がフィラメント電流供給用ラインを介し伝導するのを効果的に抑圧する。 - 特許庁

The magnetron sputtering apparatus 1 is provided with a cathode electrode 5, a magnetic field forming part 7 for forming the magnetic field above a workpiece 10, and an anode electrode 13.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置１において、カソード電極５と、被加工体１０上に磁界を形成する磁界形成部７と、アノード電極１３とを備える。 - 特許庁

The magnetron 32 generates plasma waves in the vicinity of 22 MHz, and the plasma waves interact with the electrons of plasma of 1 to 20 eV to improve plasma density.例文帳に追加

マグネトロン３２は２２ＭＨｚ付近のプラズマ波を発生させ、プラズマ波は１ｅＶから２０ｅＶのプラズマの電子と相互作用して、プラズマ密度を向上する。 - 特許庁

To provide a high frequency magnetron sputtering apparatus in which consistent film deposition is performed with high productivity and high yield.例文帳に追加

基板上での膜形成で、高い生産性を有し、安定した膜形成を行うことができ、歩留まりが高い高周波マグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

As a treatment apparatus, a modified magnetron type plasma treatment apparatus capable of controlling the energy of ions incident to a substrate independently from plasma generation is used.例文帳に追加

処理装置として、プラズマ生成とは独立に基板に入射するイオンのエネルギーを制御することができる変形マグネトロン型プラズマ処理装置を用いる。 - 特許庁

The SCR catalyst 5 is connected with a magnetron 16 which is a microwave generation device via a hole 15 partially formed at the converter case 11.例文帳に追加

ＳＣＲ触媒５には、コンバータケース１１に部分的に設けられた孔１５を介して、マイクロ波発生装置であるマグネトロン１６が接続されている。 - 特許庁

To obtain a magnetron plasma processing apparatus and a processing method, where plasma can be uniformly formed in a processing space, even if a work substrate is large.例文帳に追加

被処理基板が大型の場合にも処理空間に均一なプラズマを形成することができるマグネトロンプラズマ処理装置および処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a microwave power control device finely adjusting a power value of a microwave outputted from a microwave oscillator provided with a magnetron.例文帳に追加

マグネトロンを備えるマイクロ波発振器が出力するマイクロ波の電力値を微細に調整可能なマイクロ波電力制御装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron with an improved oscillation efficiency, sufficiently lowering an unnecessary radiation and preventing the deterioration of the oscillation efficiency.例文帳に追加

不要輻射を十分に低減させることができ、しかも、発振効率の低下を防止して、発振効率の向上を図ることができるマグネトロンを提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron for inhibiting the third harmonic and a side band of the third harmonic with a simple and rational constitution.例文帳に追加

簡単且つ合理的な構成で第３高調波および第３高調波のサイドバンドを抑制することができるマグネトロンを提供することを目的とする。 - 特許庁

Further, the magnetron sputtering cathode includes a first magnet 5 and a second magnet 6 having a polarity different from that of the first magnet 5 on the side of the non-sputtering surface 10b.例文帳に追加

また、上記マグネトロンスパッタカソードは、非スパッタ面１０ｂ側に、第１磁石５、及び第１磁石５と極性の異なる第２磁石６を備える。 - 特許庁

This magnetron 32 perfectly covers a target 14 though its area is made small but particularly advantageous for low pressure plasma sputtering or persistent self-sputtering.例文帳に追加

低圧プラズマ・スパッタリングまたは持続型セルフスパッタリングに対して特に有利な、面積が小さくされているがターゲット１４を完全にカバーするマグネトロン３２。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus suitable for forming a film consisting of a magnetic material on a substrate.例文帳に追加

本発明は、マグネトロンスパッタ装置に関し、詳しくは、基板に磁性体からなる膜を成膜するのに適したマグネトロンスパッタ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁