「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

This magnetron sputtering deposition device has a susceptor 14 and a target holder 16 confronted in an airtight treating chamber 10.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング成膜装置は、気密な処理室１０内で対向するサセプタ１４とターゲットホルダ１６とを有する。 - 特許庁

To achieve a suitable light-emitting spectrum upon dimming without damaging life of a magnetron for discharging an electrodeless lamp.例文帳に追加

無電極ランプを放電させるマグネトロンの寿命を損なわずに、調光時における良好な発光スペクトルを実現する。 - 特許庁

To provide a magnetron suppressing unnecessary radiation, reducing the number of subassemblies, and simplifying a manufacturing method.例文帳に追加

マグネトロンの不要輻射を抑制し、組立部品の削減、製造方法の簡略化を図ったマグネトロンを提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device that reduces plasma concentration near the center of a target and that helps prevent cracks from generating.例文帳に追加

ターゲット中心付近へのプラズマ集中を低減し、クラック発生防止に寄与するマグネトロンスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering method with the use of a rectangular target, which has enhanced sputtering treatment efficiency and production efficiency.例文帳に追加

短冊形ターゲットを用いるマグネトロンスパッタ法においてスパッタ処理効率ないし生産効率の向上を実現する。 - 特許庁

This oscillator is provided with a magnetron 2, a launcher 4 for taking the output power of the magnetron 2 out, an impedance generator 5 whose one end is connected to the output end of the launcher 4, and a reference signal supply unit 6 connected to the other end of the impedance generator 5.例文帳に追加

マグネトロン２と、マグネトロン２の出力電力を取り出すランチャー４と、ランチャー４の出力端に一端が接続されたインピーダンス発生器５と、インピーダンス発生器５の他端に接続された基準信号供給部６とを備える。 - 特許庁

To provide an equipment for magnetron plasma treatment and a method of magnetron plasma treatment that make deposition of a film with uniform film quality by restraining deposition of film with low quality which is deposited at low density plasma region and by utilizing only high density plasma region.例文帳に追加

低密度プラズマの領域で堆積する低い膜質の膜堆積を抑制し、高密度プラズマ領域のみを利用して成膜を行うことにより膜質が一定な成膜を形成するマグネトロンプラズマ処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

At least one of the ferromagnetic layers is formed of amorphous ferromagnetic material deposited in a film through magnetron DC sputtering, and the intermediate layer is of magnesium oxide deposited in a film through magnetron RF sputtering to have a single crystal structure in a direction of film thickness.例文帳に追加

少なくとも一方の強磁性層は、マグネトロンＤＣスパッタにより成膜したアモルファス状態の強磁性体とし、前記中間層は、マグネトロンＲＦスパッタにより成膜した、膜厚方向において単結晶構造を有する酸化マグネシウムとする。 - 特許庁

For the magnetron having a magnetron body to which, inductors for forming a noise prevention filter are connected, the inductors directly connected to cathode electrodes are formed by using sparsely wound coils which are not covered by insulation film.例文帳に追加

マグネトロン本体の陰極端子に、雑音防止用フィルタを構成するインダクタが接続されてなるマグネトロンであって、前記陰極端子に直接接続されるインダクタは、絶縁被膜を施さない疎巻コイル巻線を用いて形成されている。 - 特許庁

To realize a magnetron of a high output as well as a low output by improving strap for the magnetron to prevent deformation and breakage for thermal stress as well as structural deviation from surrounding members in advance.例文帳に追加

本発明は、マグネトロン用のストラップを改善して熱応力に対する変形及び破断を未然に防ぐとともに周囲部材との構造的なずれを未然に防止することにより、低出力だけでなく高出力のマグネトロンを実現することにある。 - 特許庁

In the case that a moving part for moving a cooking part provided in the cooking chamber from the initial position to the cooking position and the magnetron are operated, the moving part is operated to move the cooling part to the cooking position and then the magnetron is operated.例文帳に追加

前記調理室内に設けられた調理部を初期位置から調理位置に移動させるための移動部と前記マグネトロンが作動する場合、前記移動部を作動させて前記調理部を調理位置に移動させた後に前記マグネトロンを作動させる。 - 特許庁

The magnetron 8, a magnetron driving power source device (separated into a high voltage part 22 and a low voltage part 23), and the cooling system 19 for cooling these two heating elements are maximally adjacently integrated, and are constituted in a cylindrical shape by a covering case 24.例文帳に追加

マグネトロン８とマグネトロン駆動用電源装置（高圧部２２と低圧部２３に分離）と、これら２つの発熱体を冷却する冷却装置１９とをできるだけ近接させて一体化し、外装ケース２４にて筒状の構成とした。 - 特許庁

A second control loop coupled to the first control loop is configured to regulate the input current setting used by the first control loop to regulate the input current to the magnetron based on the input power to the magnetron.例文帳に追加

第二の制御ループは第一の制御ループと接続し、マグネトロンへの入力電力に基づいて、マグネトロンへの入力電流を調整するために、第一の制御ループが用いる入力電流設定を調節するよう構成されている。 - 特許庁

The parallel flat plate type magnetron sputtering device having a specific sticking prevention plate is provided to perform the manufacturing method for a solid electrolyte thin film, and the thin film solid lithium ion secondary battery having the solid electrolyte thin film obtained by the magnetron sputtering device is manufactured.例文帳に追加

この固体電解質薄膜の製造方法を実施するための、特定の防着板を備えた平行平板型マグネトロンスパッタ装置、及びこの装置を用いて得られた固体電解質薄膜を備えた薄膜固体リチウムイオン２次電池を製造する。 - 特許庁

In this method in which a magnet 6 is moved, and magnetron sputtering is executed, in the process of the movement of the magnet, it is moved to the direction vertical to the surface in accordance with the increase and decrease of the voltage of magnetron discharge, and the voltage of the discharge is retained to the approximately certain one.例文帳に追加

マグネット６を移動させてマグネトロンスパッタリングする方法に於いて、該マグネットをその移動中にマグネトロン放電の電圧の増減に応じて該表面と垂直方向へ移動させてその放電の電圧をほぼ一定に維持する。 - 特許庁

The component arrangements of a power supply for driving a magnetron in a rated voltage range of 100-120 V and a power supply for driving a magnetron in a rated voltage range of 200-240 V, particularly, earth connection positions 41 and filament output positions 42 are shared, whereby the optimum power supply for driving a magnetron having excellent development efficiency and corresponding to a power voltage is provided.例文帳に追加

また、１００Ｖ〜１２０Ｖの定格電圧範囲のマグネトロン駆動用電源と、２００Ｖ〜２４０Ｖの定格電圧範囲のマグネトロン駆動用電源の部品配置、とりわけ、アース接続位置４１、フィラメント出力位置４２を共通化し、シャーシの統一化などによる開発効率のよい、かつ、電源電圧に応じた最適なマグネトロン駆動用電源を提供することができる。 - 特許庁

The high frequency heating device high frequency-heats a cooking object with a high frequency oscillation means 2 containing a magnetron 24 for oscillating high frequency, and a high voltage transformer 21 for applying high voltage to the magnetron 24, and has means-coping-with-abnormality 3, 4 for stopping the operation of the magnetron 24 when corona discharge is generated in a secondary coil Ts of the high voltage transformer 21.例文帳に追加

高周波を発振するマグネトロン２４と、マグネトロン２４に高電圧を印加する高圧トランス２１とを含む高周波発振手段２でもって、調理対象を高周波加熱する高周波加熱装置であって、高圧トランス２１の２次コイルＴｓでコロナ放電が発生したときに、マグネトロン２４の動作を停止させる異常対処手段３，４を備えている。 - 特許庁

As a result, a single magnetron can be used for generating steam as well as cooking food accommodated in the heating chamber 50.例文帳に追加

これにより、１つのマグネトロンで蒸気発生と加熱室５０内に収容された食品の加熱調理とを兼ねることができる。 - 特許庁

To provide a magnetron oscillator which has satisfactory frequency stability, and does not vary in frequency even if its output power is changed.例文帳に追加

周波数安定度がよく、出力電力を変化させても周波数が変動しないマグネトロン発振装置を実現する。 - 特許庁

The timing of oscillation of a magnetron 20 can be precisely known according to the specifications of a high-voltage transformer 31 used.例文帳に追加

使用している高圧トランス３１の仕様に応じて、マグネトロン２０の発振タイミングを正確に認識できるようにしている。 - 特許庁

The drive high-voltage pulse voltage is applied to a magnetron and the radio-frequency pulse to be outputted is observed by a spectrum measuring instrument.例文帳に追加

マグネトロンに駆動用の高電圧パルス電圧を印加し、出力される高周波パルスをスペクトル測定器で観測する。 - 特許庁

To provide a magnetron-driving power source capable of certainly protecting overheat of a protection target element when cooling is abnormal.例文帳に追加

冷却異常時には確実に保護対象素子の過熱保護ができるマグネトロン駆動用電源を提供することを目的する。 - 特許庁

when the thin film is formed using a magnetron sputtering device, a prescribed magnetic field is kept applied, while sputtering is being carried out.例文帳に追加

薄膜がマグネトロンスパッタ装置を用いて成膜される場合、スパッタが行われる間、所定の磁場が常に保持され続ける。 - 特許庁

By a conductance valve 13 and a gas introduction system 24, a prescribed gaseous nitrogen atmosphere is formed around the magnetron sputtering electrode 25.例文帳に追加

コンダクタンスバルブ１３およびガス導入系２４によりマグネトロンスパッタ電極２５の周囲に所定の窒素ガス雰囲気を形成する。 - 特許庁

This magnetron contains an external magnetic pole face 68 surrounding an internal magnetic pole face 62 together with a gap 70 therebetween.例文帳に追加

該マグネトロンは、内部磁極面６２を取り囲んでいる外部磁極面６８をそれらの間のギャップ７０と共に含んでいる。 - 特許庁

To provide a microwave oven having superior output efficiency, capable of restraining discharges between an output part of a magnetron and a waveguide.例文帳に追加

電子レンジの出力効率が良好で、かつ、マグネトロンの出力部と導波管との間に生じる放電を抑制する。 - 特許庁

This ultraviolet ray sterilizer is so constituted that gas sealed in an electrodeless lamp 34 is excited using a magnetron 31 to generate the ultraviolet rays.例文帳に追加

マグネトロン３１を利用して、無電極ランプ３４に封入されるガスを励起して、紫外線を発生する構成とする。 - 特許庁

In a non-equilibrium magnetron sputtering device 1, sputtered particles discharged from a target T are stuck onto a substrate S to form a film.例文帳に追加

非平衡マグネトロンスパッタ装置１は、ターゲットＴから放出させたスパッタ粒子を基板Ｓ上に付着させて膜を形成する。 - 特許庁

To provide a microwave oven which can suppress a rush current in a high voltage transformer to supply a high voltage to a magnetron.例文帳に追加

マグネトロンに高電圧を供給する高圧トランスにおける、突入電流を抑えることのできる電子レンジを提供する。 - 特許庁

To aim at longer life of a magnetron by improving its cooling efficiency for generating ultraviolet rays by exciting an electrodeless lamp.例文帳に追加

無電極ランプを励起して紫外線を生成させるマグネトロンの冷却効率を向上させてマグネトロンの長寿命化を図る。 - 特許庁

To provide a ferromagnetic sputtering target for magnetron sputtering whose exchanging frequency can be reduced by elongating its service life.例文帳に追加

寿命を長くして交換頻度を少なくすることができる、マグネトロンスパッタリング用の強磁性体スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

By this constitution, a π type low path filter circuit is constituted not to attenuate an oscillation requency of a fundamental wave of a magnetron.例文帳に追加

この構成によりマグネトロンの基本波の発振周波数を減衰させないように、π形ローパスフィルタ回路が構成される。 - 特許庁

To prevent a confused high voltage fault contact from a high voltage secondary winding to a primary winding in a step-up transformer for driving a magnetron.例文帳に追加

マグネトロン駆動用昇圧トランス装置において、高電位を有する二次巻線から一次巻線への高圧混触を防止する。 - 特許庁

Actual output of the magnetron is same as set value by extending duty-on time by the initiation time.例文帳に追加

立ち上がり時間だけデューティーのオン期間を延長することにより、マグネトロンの実際の出力は設定された通りになる。 - 特許庁

To achieve a magnetron oscillation device exhibiting high frequency stability in which the frequency is invariant even if the output power is varied.例文帳に追加

周波数安定度がよく、出力電力を変化させても周波数が変動しないマグネトロン発振装置を実現する。 - 特許庁

Among three magnetron cathodes, the cathodes 54a, 54c on both the sides are fitted to a vacuum vessel 32 in such a manner that their angles can be adjusted.例文帳に追加

３個のマグネトロンカソードのうち、両側のカソード５４ａ、５４ｃは角度調整可能に真空容器３２に取付けられている。 - 特許庁

The ion sputtering magnetron has an electromagnetic field shield arranged between the conductive component and a drive shaft segment.例文帳に追加

このイオンスパッタリングマグネトロンは更に、導電性構成部材と駆動軸部分との間に配置された電磁場シールドを有している。 - 特許庁

According to this construction, the magnetron tube 8 laid in the space enclosed with the yoke 9 is kept in such a state as immersed in the fluid 6.例文帳に追加

したがって、ヨーク９で囲まれた空間内に設けられたマグネトロンチューブ８は、流動体６に浸された状態にある。 - 特許庁

The microwave supply section 5 is provided at the container body 2 to supply microwave of the magnetron 21 to the container body 2.例文帳に追加

マイクロ波供給部５はマグネトロン２１のマイクロ波を容器本体２に供給するために容器本体２に設けている。 - 特許庁

The film or composite film is produced by an arc ion plating method or a magnetron sputtering method using a solid target material with a sintered structure containing B.例文帳に追加

Ｂを含む、焼結構造の固体ターゲット材を用いたアークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法で製造する。 - 特許庁

To provide a magnetron, and its manufacturing method, with improved cooling efficiency by a cooling wind and with a widened gap of heat sinks.例文帳に追加

放熱板の間隔を広くでき、冷却風による冷却効率を向上したマグネトロンとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-output ion sputtering magnetron which is hardly affected by the thermal damage arising from magnetic induction heating.例文帳に追加

磁気誘導加熱によって生じた熱損傷の影響を受けにくい高出力イオンスパッタリングマグネトロンを提供すること。 - 特許庁

To obtain a magnetron capable of reducing noise throughout the whole band of a microwave oscillation signal and also capable of improving load stability.例文帳に追加

マイクロ波発振信号の全域に亘ってノイズを低減し、しかも負荷安定度を向上させることができるマグネトロンを得る。 - 特許庁

To develop a compact high magnetic field magnetron for causing the perfect coverage of a deep hole and performing persistent self-sputtering of copper.例文帳に追加

深いホールの完全なカバレッジをもたらし、銅の持続型セルフスパッタリングをおこなうため、小型高磁場のマグネトロンを開発すること - 特許庁

The microwave oscillated by a magnetron 12 is supplied to the heating chamber 10 through a waveguide 19 and the radiation antenna 15.例文帳に追加

マグネトロン１２の発振するマイクロ波は、導波管１９，放射アンテナ１５を介して加熱室１０内に供給される。 - 特許庁