「MAGNETRON」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

A chromium thin film 2 being the seed layer and a tantalum thin film 3 being a sub-carrier layer are formed by using an ion beam sputtering method and the tantalum thin film 4 being a principal carrier layer is formed by using a magnetron sputtering method.例文帳に追加

イオンビームスパッタ法を用いてシード層であるクロム薄膜２と、副キャリア層であるタンタル薄膜３を形成し、マグネトロンスパッタ法を用いて主キャリア層であるタンタル薄膜４を形成する。 - 特許庁

The ZnO film is formed on the sapphire substrate by magnetron sputtering in an atmosphere of Ar and N_2 mixed gas using a Zn metal target which is obtained by doping Zn with Y_2O_3.例文帳に追加

ＺｎにＹ_２Ｏ_３をドーピングしてＺｎメタルターゲットを作製し、このＺｎメタルターゲットを用いて、ＡｒとＮ_２の混合ガス雰囲気中で、ＲＦマグネトロンスパッタによりサファイア基板上にＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

To obtain a magnetron capable of sufficiently exhibiting a getter effect even if input power is decreased to an extent for reducing reduce noise or an electron emitting area of a filament coil is decreased.例文帳に追加

ノイズを低減できる程度に入力電力量の低減を行ったり、フィラメントコイルの電子放出面積の低減を行ったりしても、ゲッタ効果を十分に発揮させることができるマグネトロンを得る。 - 特許庁

A base material of glass or the like is introduced into magnetron sputtering vessels 7, 8 and 9, and silicon is sputtered in an atmosphere of nitrogen and hydrocarbon to form a film contg. silicon nitride and silicon carbide on the base material.例文帳に追加

ガラスのような基材をマグネトロンスパッタリング容器（７、８、９）に導入し、窒素及び炭化水素雰囲気においてケイ素をスパッタリングして窒化ケイ素及び炭化ケイ素を含むフィルムを基材上に作る。 - 特許庁

To provide a microwave transmission circuit and a microwave trans mitter that can phase lock a magnetron oscillator, without use of a high output phase shifter in a microwave transmission system for power transmission.例文帳に追加

電力伝送を行うマイクロ波伝送システムに関し、高出力移相器を用いることなく、マグネトロン発振器を位相同期させることができるマイクロ波送信回路及びマイクロ波送電装置を得る。 - 特許庁

This thermal transfer film to be used comprises a transfer layer accumulated on a substrate film and a layer formed on at least a portion of the transfer layer by one of DC sputtering and DC magnetron sputtering.例文帳に追加

基材フィルム上に転写層が堆積され、転写層の少なくとも一部にＤＣスパッタ法およびＤＣマグネトロンスパッタ法の一方で形成された層を含む熱転写フィルムを用いる。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering electrode whereby a target is used efficiently with no localized eroded region arising in the target even if a magnet unit and the target are moved relative to one another during film formation.例文帳に追加

成膜時に磁石ユニットとターゲットとを相対移動させても、ターゲットに局所的な侵食領域が生じることがなく、ターゲットの利用効率が良いマグネトロンスパッタ電極を提供する。 - 特許庁

To provide a composite film deposition system which suppresses interference between an arc evaporation source and a magnetron sputtering evaporation source, and allows the respective evaporation sources to sufficiently exhibit each function.例文帳に追加

アーク蒸発源とマグネトロンスパッタ蒸発源との磁界の相互干渉を抑制し、それぞれの蒸発源が具備する機能を十分に発揮させることができる複合成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering cathode which improves a utilizing efficiency of a target while improving a film forming speed and a uniformalization of a film thickness at the same time and a magnetron type sputtering device furnished with it.例文帳に追加

成膜速度および膜厚均一性を同時に向上させながら、ターゲットの利用効率を改善することができるスパッタリングカソードおよびこれを備えたマグネトロン型スパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

A sample 2 containing a low-permittivity insulating material is placed in a decompression chamber 1, and irradiated with a microwave by using a magnetron 7 under exhaustion and decompression to dry the material 2.例文帳に追加

低誘電率絶縁材料を含む試料２を減圧処理室１に設置し、かつ、排気・減圧しながら、マグネトロン７を用いてマイクロ波を照射することによって試料２を乾燥させる。 - 特許庁

The sputtering apparatus 1 sputters a target 8 by ions in plasma using a magnetron sputtering method, to form an ITO film originated from the target 8 on a glass substrate 5 attached to a rotating carrousel 4.例文帳に追加

スパッタリング装置１は、マグネトロンスパッタリング法を用いてターゲット８をプラズマ中のイオンによりスパッタリングし、回転するカルーセル４に取り付けられたガラス基板５にターゲット８によるＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁

To provide a high-reliability magnetron capable of exerting a stable getter effect over a long time by firmly holding a getter material at an optimum temperature point for exerting the getter effect.例文帳に追加

ゲッター材をゲッター効果を発揮するための最適な温度箇所に強固に保持させることで、長期に渡り安定したゲッター効果を発揮することのできる、信頼性の高いマグネトロンを提供する。 - 特許庁

Thereby, an increase of voltage/current duty of a first semiconductor switching element 4 and a second semiconductor switching element 7 can be prevented by detecting the impedance change of a magnetron 10.例文帳に追加

これによって、マグネトロン１０のインピーダンス変化を検出し、第１の半導体スイッチング素子４及び第２の半導体スイッチング素子７の電圧電流責務の増大を防止することができる。 - 特許庁

To provide an assembly method for an anode structure of a magnetron of which the anode plates are capable of contacting to the inner wall of an anode cylinder close by preventing deformation at the inside edge portions of an anode plates facing to a cathode.例文帳に追加

カソードに対向するアノード板の内端部の変形を防止してアノード板をアノード筒体の内壁に密着させることのできるマグネトロン用陽極構体の組立方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a liquid ejecting head includes: a surface removing step of removing the surface contamination of the pressure generating element by magnetron dry etching; and a wiring step of laying wiring on the pressure generating element, wherein a magnetron application current in the surface removing step is configured based on a surface removal amount of the pressure generating element and a variation in hysteresis characteristic in association with the surface removal.例文帳に追加

液体噴射ヘッドの製造方法は、圧力発生素子の表面汚染をマグネトロンドライエッチングにより除去する表面除去処理工程と、圧力発生素子上に配線を形成する配線工程と、を有し、表面除去処理工程におけるマグネトロン印加電流を、圧力発生素子の表面除去量と表面除去に伴うヒステリシス特性の変化量に基づいて設定する。 - 特許庁

It consists of a magnetron 60, which oscillates at a high frequency and high voltage, and primary and secondary coils, and includes a transformer 50, which generates high voltage by a winding ratio of the above primary and secondary coils, and supplies it to the above magnetron, and an output converting means 40 for adjusting the voltage impressed to the primary coil of the above transformer.例文帳に追加

本発明による高出力転換手段を備えた電子レンジは、高圧により高周波を発振するマグネトロン６０と、１次及び２次コイルを備え、前記１次及び２次コイルの捲線比により高圧を発生させ前記マグネトロンに供給するトランスフォーマ５０と、前記トランスフォーマの１次コイルに印加される電圧を調節するための出力転換手段４０を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This heater is equipped with a magnetron 1 to supply a microwave as heating energy by oscillating the microwave, a heating element holding member 2 of an insulating material to hold the heating element 3 heated by irradiation of the microwave oscillated from the magnetron 1, and the heating element 3 of a reactive metal film tightly formed into a film on at least one surface side of the heating element holding member 2.例文帳に追加

マイクロ波を発振しこのマイクロ波を発熱エネルギーとして供給するマグネトロン１と、このマグネトロン１から発振されたマイクロ波が照射されて加熱される発熱体３を保持する絶縁体から成る発熱体保持部材２と、この発熱体保持部材２の少なくとも一面側に薄膜状に密着形成された反応金属膜から成る発熱体３とを備えて成るものである。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device high in a vapor deposition rate, film-forming a multi-element thin film at a high speed, flexible in the compositional control of the film, easily covering a dense multi-element thin film at a high speed and furthermore easily capable of the maintenance.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパッタ装置を提供。 - 特許庁

To provide a producing method, e.g. capable of producing a target material usable for production of a magnetic thin film having high soft magnetic properties by magnetron sputtering or the like as a metallic bulk material having high coercive force.例文帳に追加

高い軟磁気特性を持つ磁性薄膜をマグネトロンスパッタリングなどで作製するのに用いることのできるターゲット材などを、高保磁力を持つ金属バルク材として作製することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a power source for magnetron drive capable of improving an input power factor suppressing distortion of an input current and reducing generation of higher harmonics, and simplifying a circuit and improving the circuit efficiency.例文帳に追加

入力電流の歪を抑制し高調波の発生を抑え入力力率を高めるとともに、回路の簡素化と回路効率を向上させたマグネトロン駆動用電源を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a sputtering method capable of forming a thin film of uniform thickness on the surface of a substrate in a rotary type sputtering device having a rectangular planar target provided with a magnetic circuit for magnetron discharge and to provide the device.例文帳に追加

マグネトロン放電用磁気回路が設けられた矩形平板ターゲットを有するロータリ式スパッタリング装置において、基板の表面に均一な膜厚の薄膜が形成できるスパッタリング方法とその装置を提供する。 - 特許庁

To extend the possibility of material selection for a target material and a backing tube supporting it in a cylindrical target to be used for a magnetron sputtering system, to simplify its manufacture and to attain its recycling.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置に適用される円筒状ターゲットにおいて、ターゲット材料と、これを支持するバッキングチューブの材料選択の可能性を広げるとともに、製造の簡易化と再利用化を可能にする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a magnetooptic disk which can form a magnetooptic recording film of small particle size enough for good magnetic field sensitivity and high-density recording by using an inductively coupled RF plasma supported magnetron sputtering device.例文帳に追加

誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置を用いて、磁界感度が良く、高密度記録に適した十分に粒径の小さな光磁気記録膜を成膜できる光磁気ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-voltage feed-through capacitor and a magnetron, wherein filling amount of an insulation filler is reduced, stress relaxation accompanying the reduction of filling amount of the resin, enhancement of reliability, and furthermore cost reduction are achieved.例文帳に追加

絶縁充填物の充填量を減少させ、樹脂充填量削減に伴う応力の緩和及び信頼性の向上、更には、コストダウンを図った高電圧貫通型コンデンサ、及び、マグネトロンを提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system in which a vapor deposition rate is high, a multi-element thin film is deposited at a high speed, the composition control of the film is flexible, a denser multi-element thin film is easily covered at a high speed, and, moreover, maintenance is easy.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、より緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパツタ装置を提供。 - 特許庁

In the microwave oven in which the electric parts such as the transformer 3 and the magnetron 5 or the like are cooled by the air 10 sent from the cross-flow fan 6, an air regulating plate 7 is installed on both sides of the blowing outlet 15 of the fan duct 13.例文帳に追加

クロスフローファン６から送られる風１０で、トランス３およびマグネトロン５等の電気部品を冷却する電子レンジにおいて、ファン・ダクト１３の吹出口１５の両サイドに制風板７を設ける。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing system by which a thin film, such as an oxide transparent conductive film, can be deposited at a low cost with high productivity by increasing the number of magnetron magnetic circuits located on the back side of a cathode.例文帳に追加

カソード背面に設置するマグネトロン磁気回路の数を増やすことにより、低コストで生産性も高く、酸化物透明導電膜のような薄膜を形成できる製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

The paper drying pipe 24 includes a paper carry-in entrance 26 and a paper discharge port in a pair of opposite surfaces and the full surface of the paper P passing through the inside of the paper drying pipe 24 is uniformly induction heated by the magnetron 22.例文帳に追加

用紙乾燥管２４は、一対の対向する面に用紙の搬入口２６と排出口とを備え、マグネトロン２２により、用紙乾燥管２４内を通過する用紙Ｐの全面が均一に誘導加熱される。 - 特許庁

To provide a magnetron which can be simply assembled and in which an output yoke is not swung seesaw-like by making a squeezed part of a folded piece and a pawl as a pivotal supporting point even if the number of the squeezed part of the folded piece and the pawl decreases.例文帳に追加

簡単に組み立てられ、折曲片と爪との絞止個所が減っても、折曲片と爪との絞止した部分を枢支点として出力ヨークがシーソー的に揺動しないことを課題とする。 - 特許庁

In a sputtering system of a structure wherein a magnetron unit 31 is arranged on the opposite side to a target 16, the unit 31 has first magnet parts 43 and 49 and second magnet parts 43 and 47 arranged on the outsides of the magnet parts 43 and 49.例文帳に追加

マグネトロンユニット(31)をターゲット(16)とは反対の側に配置したスパッタリング装置において、マグネトロンユニット(31)は、第１のマグネット部(43,49a)と、第１のマグネット部(43,49a)の外側に配置されて第２のマグネット部(43,47a)とを有する。 - 特許庁

To prevent the deterioration of life of magnetron by being stabilized in a state of moding oscillation at the time of transition from start up to the normal operation when a direct current is made an input power source in a high frequency heating device.例文帳に追加

高周波加熱装置において、直流電源を入力電源とした場合に、起動から定常への遷移時にモーディング発振の状態で安定することがあり、マグネトロンが寿命劣化すること。 - 特許庁

Microwave radiated from a magnetron 20 is radiated into a heating chamber 18 from a center-side opening 15 and a periphery-side opening 16 of the waveguide 17 with its tube axis C shifted from a center part D of the wall face of the heating chamber.例文帳に追加

マグネトロン２０から放射されるマイクロ波を、管軸Ｃが加熱室壁面の中央部Ｄからずれた導波管１７の中央側開口１５と周囲側開口１６から加熱室１８内に放射する。 - 特許庁

To provide a stem for a magnetron used to support high voltage leads in an electronic oven or the like, and reducing the size and the weight while maintaining dielectric breakdown resistance and strength.例文帳に追加

電子レンジなどにおいて、高電圧のリードを支持するために用いられるマグネトロン用ステムであって、絶縁破壊耐性、強度を確保しつつ、小型化、軽量化できるマグネトロン用ステムおよびそれを用いたマグネトロンの提供。 - 特許庁

To provide a sputter target assembly (18, 20) particularly useful for a large panel plasma sputter reactor having a target assembly sealed both to the main processing chamber (14) and a vacuum pumped chamber (32) housing a moving magnetron (30).例文帳に追加

主処理チャンバ（１４）と移動するマグネトロン（３０）を収納する真空チャンバ（３２）の両方に封止されるターゲットアセンブリを有する大面積パネルプラズマスパッタリアクタに特に有用なスパッタターゲットアセンブリ（１８、２０）を提供する。 - 特許庁

A porous material 14 composed of quartz glass and the like is arranged in a waveguide 11 equipped with a magnetron 12 and water is dropped on the porous material 14 through a water supply pipe 15 provided on the waveguide 11.例文帳に追加

マグネトロン１２を取り付けた導波管１１の内部に、石英ガラス等から成る多孔質体１４を配置し、導波管１１に設けた給水管１５を通して多孔質体１４上面に水を滴下する。 - 特許庁

While a heat radiation sheet 20 is tightly stuck to a space between a base 8 and a resin sheet 9 within a vacuum chamber 12 of an RF magnetron sputtering apparatus 1, a vapor deposited film 11 is deposited on the resin sheet 9.例文帳に追加

ＲＦマグネトロンスパッタ装置１の真空チャンバ１２内にて、基台８と樹脂シート９の間に放熱シート２０を密着させた状態で、前記樹脂シート９上に蒸着膜１１を成膜する。 - 特許庁

To provide a method of controlling a high-frequency output depending on power source voltage plus cooling capacity, for a high-frequency heating device driving a magnetron such as a microwave oven.例文帳に追加

本発明は電子レンジのようなマグネトロンを駆動する高周波加熱装置に関するものであり、冷却能力を加味しながら電源電圧に依存して高周波出力を制御する方式を提案するものである。 - 特許庁

This heating cooker comprises a cooking chamber, a magnetron and a power-down means, and electric wave output watt is lowered by the power-down means when a time determined on the basis of an electric wave output accumulated time and electric wave stop accumulated time, has passed.例文帳に追加

調理室と、マグネトロンと、パワーダウン手段を備え、電波出力積算時間と電波休止積算時間より決定される時間を経過すると、前記パワーダウン手段により電波出力ワットを下げる。 - 特許庁

The drying system is provided with a heating chamber 1 for housing the object 2 to be heated comprising food, a magnetron 11 connected to the heating chamber 1, and the vacuum pump 7 for adjusting the pressure of the vicinity of the object 2 to be heated in the heating chamber 1.例文帳に追加

食品からなる被加熱物２を収容する加熱室１と、加熱室１に接続されたマグネトロン１１と、加熱室１内の被加熱物２近傍の圧力を調整する真空ポンプ７とを備える。 - 特許庁

To provide a method for supporting the design of magnetron sputtering, a device therefor and a program, capable of calculating and estimating an erosion distribution of a target and a film deposition distribution of a wafer in a short time only from a magnetic field structure enclosing plasma.例文帳に追加

プラズマを封じ込める磁場構造のみからターゲットのエロージョン分布とウェハの成膜分布を短時間で計算して予測可能とするマグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To achieve that an abnormal state in an electrodeless discharge lamp immediately after lighting that is lighted by a magnetron driven by a direct current is not continued, and an operational stability is rapidly recovered also from an abnormal state during a stabilized state period.例文帳に追加

直流駆動のマグネトロンで点灯する無電極放電ランプの点灯開始直後の異常状態を持続させないとともに、安定状態期間の異常状態からもすみやかに安定動作を回復させる。 - 特許庁

A machine room 9 is formed at the rear side of the rear wall of the heating chamber, the hot air circulating motor 6M is disposed at the center part of the machine room 9, and the magnetron 4 and the high- voltage transformer 5 are disposed on both sides of the machine room 9.例文帳に追加

加熱室の背壁後方に機械室９を設け、機械室９の中央部に熱風循環用モータ６Ｍを配置するとともに、機械室９の両側部にマグネトロン４，高圧トランス５を配置した。 - 特許庁

The microwave oven is structured with a heat chamber, a wave guide tube arranged at the heat chamber connecting with a magnetron, a rotating antenna arranged at a power supply outlet of the wave guide tube, and an antenna motor driving the rotating antenna through a rotating antenna axis.例文帳に追加

加熱室、マグネトロンに接続して加熱室に配置した導波管、導波管の給電口に配置した回転アンテナ、回転アンテナを回転アンテナ軸を介して駆動するアンテナモータから構成されている。 - 特許庁

A magnetron sputtering apparatus has a correction magnetic circuit (32) provided in the inner part of an anode portion (30) or in the vicinity thereof, and forms a magnetic field in which a part of magnetic lines of force, which penetrate a target (18), detours around a deposition shield (27) and penetrates a part of the anode portion (30).例文帳に追加

陽極部(30)の内部又はその近傍に補正磁気回路(32)を設け、ターゲット(18)を貫通する磁力線の一部が防着板(27)を迂回して陽極部(30)の一部を貫通する磁界を形成する。 - 特許庁

In a vacuum film coating system, a magnetron sputtering device is provided with a cylindrical cathode 1 which is mounted rotatably around the axial longitudinal shaft, and a magnetic system arranged inside the cylindrical cathode 1.例文帳に追加

真空成膜システムにおいて、長手方向軸線を中心として回転可能に取り付けられた円筒陰極１が設けられるとともに、円筒陰極１の内側に配置された磁気システムが更に設けられる。 - 特許庁