「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The image forming apparatus displays information 453 for specifying the developing device used for formation of the pattern in the vicinity of the upper end of each band-like pattern.例文帳に追加

各帯状パターンの上端部付近には、当該パターンの形成に使用された現像器を特定するための情報４５３が表示される。 - 特許庁

At the formation of this resin film layer 5, the flowing direction of the grain pattern is set to be same as that of the light and shade pattern of the base material 3.例文帳に追加

この樹脂膜層５を形成する際、木目模様の流れ方向と、基材３の明暗模様の流れ方向とを同じにしておく。 - 特許庁

In other words, the test pattern CP is printed so that the formation position of a sub-pattern printed by using a second ink lighter than a first ink comes to the center side of the paper S more than the formation position of a first sub-pattern printed by using the first ink.例文帳に追加

つまり、第一インクよりも淡い第二インクを用いて印刷されるサブパターンの形成位置が、第一インクを用いて印刷される第一サブパターンの形成位置よりも、用紙Ｓの中央側に来るように、テストパターンＣＰは印刷される。 - 特許庁

At formation of a mask for pattern transfer after the step of electron beam exposure, an overcorrection is performed by adding the proximity effect produced at electron beam transfer exposure, using the mask for pattern transfer to the proximity effect correction produced at the formation of the mask for pattern transfer.例文帳に追加

電子線露光工程を経てパターン転写用マスクを作製する際に、パターン転写用マスク作製時の近接効果補正分に、該パターン転写用マスクを使用した電子線転写露光時の近接効果分を上乗せして過剰に補正する。 - 特許庁

To provide a tufting machine that can attain easy formation of tufting various patterns, has a simplified machine structure and can realize the steady motion for the tufting pattern formation.例文帳に追加

多種多彩なタフト模様を容易に形成可能にするとともに、構造を簡単化し、確実なタフト模様形成動作を実現し得るタフトミシンを提供する。 - 特許庁

To obtain a method for analyzing a defect of a mask blank, which is capable of accurately specifying which process a defect occurred during formation of a thin film for pattern formation in.例文帳に追加

パターン形成用薄膜の際、どのプロセスで欠陥が発生したのかを正確に特定することができるマスクブランクの欠陥分析方法を得る。 - 特許庁

The composite scanning pattern 12 provides the broad visual field in the both of the image formation in the shallow part and the image formation in a deep part.例文帳に追加

複合走査パターン１２は、浅い部分での画像形成および深い部分での画像形成の両方において幅広い視野を提供するものである。 - 特許庁

To conduct the formation of a pattern with higher accuracy and high aesthetic property while maintaining the flushness of the surface of a metal body after the pattern is formed in a method of forming the pattern on the surface of the metal body.例文帳に追加

金属体表面にパターンを形成する方法において、パターン形成後の金属体表面の面一性を保ちつつ、より正確で審美性の高いパターン形成を行う。 - 特許庁

To provide a formation method of a circuit pattern which can easily align a wettability control pattern and an ink-jet printing pattern with high precision, a transistor element substrate and a display device.例文帳に追加

濡れ性制御パターンとインクジェット印刷パターンとのアライメントを容易に高精度で合わせる配線パターンの形成方法を提供し、トランジスタ素子基板並びに表示装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, the corrected data 93 as the data of a corrected pattern in matching with pattern formation conditions or the like can be generated easily, and the design efficiency of a pattern can be improved.例文帳に追加

その結果、パターン形成条件等に合わせて補正したパターンのデータである補正済データ９３を容易に生成することができ、パターンの設計効率を向上することができる。 - 特許庁

To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.例文帳に追加

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical pattern forming member which enhances peeling resistance of a hardened film itself formed on the optical pattern forming member and enables fine formation of the optical pattern in high precision.例文帳に追加

光学パターン形成用部材に形成される硬化膜自身の耐剥離性を高めると共に、微細な光学パターンを高精度で形成できる光学パターン形成用部材を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern mask for electron beam irradiation capable of forming a very fine pattern by suppressing the occurrence of a gap between a pattern formation layer and a mask substrate, and also capable of reducing a cost.例文帳に追加

パターン形成層との間に隙間が生じるのを抑制して高精細のパターンを形成することができ、コストを削減できる電子線照射用パターンマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern evaluation device which can accurately extract a hot spot by reflecting the formation result of a mask pattern actually formed on a mask pattern, and the manufacturing method of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクに実際に形成されるマスクパターンの出来映えを反映させることにより正確にホットスポットを抽出可能なマスクパターン評価装置及びフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a conductive pattern, while thinning and flattening the conductive pattern by repeating the formation by electroplating and polishing of the conductive pattern.例文帳に追加

本発明は、導電性パターンを電気めっきによる形成と研磨とを繰り返し行うもので、導電性パターンを薄くし且つ平坦にしながら導電性パターンを形成することを目的とする。 - 特許庁

To provide a formation capable of visualizing an even pattern which is not a significant pattern in particular under reflection light and capable of visualizing a latent image pattern under transmission light.例文帳に追加

反射光下においては、特に有意味な模様ではない一様の模様が視認でき、透過光下においては潜像模様を視認することができる形成体を提案することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which interrupted time of image formation during registration correction is shortened, by performing image formation without being interrupted during formation of registration pattern.例文帳に追加

本発明は、画像形成装置において、レジストパターン形成時に画像形成を中断することなく実行することにより、レジスト補正時に中断する画像形成の時間を短縮することを目的とする。 - 特許庁

Thereafter, the semiconductor wafer is subjected to a lithography process in a step 15 for the formation of a required wiring pattern on the wafer.例文帳に追加

その後、ステップ１５においてリソグラフィ工程が行われ、所望の配線パターンが形成される。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK FILM RESIST FILM FORMATION, THICK FILM RESIST LAMINATE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method in which a metal film can be patterned inside an opening in an insulating film with a new constitution.例文帳に追加

新規な構成にて絶縁膜の開口部内に金属膜をパターニングすることができるようにする。 - 特許庁

To provide a coating method that allows the formation of a delustered coating and a sandstone pattern to be freely made.例文帳に追加

艶消し塗装と砂岩調模様の形成とが自由に行える塗装方法を提供すること。 - 特許庁

The mark is formed continuously or intermittently in a circumferential direction of the pattern formation surface MF.例文帳に追加

前記マークは、前記パターン形成面ＭＦの周方向に連続的もしくは断続的に形成されている。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS THEREOF, AND DISPLAY MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

レジストパターン形成方法、レジストパターン形成装置、表示装置の製造方法、及び表示装置の製造装置 - 特許庁

To provide a positive resist composition with good resolution and lithography property and a resist pattern formation method.例文帳に追加

解像性やリソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

After the formation of the resin layer 18, a protection layer 21 is formed so as to cover the whole face of the pattern layer 20.例文帳に追加

樹脂層１８の形成後、模様層２０の全面を覆うように保護層２１が形成される。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

Thereafter, the processed film is subjected to etching using the first and second mask as a mask for the formation of the pattern free from edge roughness.例文帳に追加

その後、第１マスク及び第２マスクをマスクとして、被加工膜をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

A first gate layer 42 is subjected to pattern formation in the gate insulation layer, and is positioned over the channel region.例文帳に追加

第一ゲート層４２は前記ゲート絶縁層にパターン形成され、前記チャネル領域上に位置する。 - 特許庁

To provide a photomask achieving formation of a pattern with little dimensional change while suppressing variation in an opening ratio.例文帳に追加

開口比変動を抑えて、寸法変動の小さなパターン形成を実現するフォトマスクを提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, MARK FOR ALIGNMENT, METHOD AND APPARATUS FOR FORMATION OF PATTERN AS WELL AS PASTE例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法、位置合わせ用マーク、パターン形成方法・装置およびペースト - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, FABRICATION THEREOF, FORMATION OF RESIST PATTERN EMPLOYING IT AND ALIGNER例文帳に追加

半導体装置、半導体装置の製造方法およびそれに用いるレジストパタ—ン形成方法と露光装置 - 特許庁

To provide a pattern formation device for a conductive substrate applied to OLED manufacture and its method.例文帳に追加

本発明はOLED製造に応用される導電基板へのパターン形成装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK-FILM RESIST FILM FORMATION, THICK-FILM RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a wiring formation method for forming a wiring pattern on a substrate by using a printing method.例文帳に追加

印刷方法を用いて基板上に配線パターンを形成する配線形成方法を提供すること。 - 特許庁

To easily form, on a substrate, a rib pattern suitable for formation of a lattice-like rib using a nozzle part.例文帳に追加

ノズル部を用いた格子状のリブの形成に適したリブパターンを基板上に容易に形成する。 - 特許庁

Preferably, ultraviolet irradiation, heating treatment, and/or plasma treatment are performed to the resist film after pattern formation.例文帳に追加

好適には、パターン形成後のレジスト膜に紫外線照射、加熱処理及び／又はプラズマ処理を行う。 - 特許庁

To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.例文帳に追加

高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁

CRYSTAL DEFECT RESTORATION METHOD, CRYSTAL PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, AND X-RAY DOSE DETECTION BODY例文帳に追加

結晶欠陥の回復方法、結晶体の作製方法、パターン形成方法、Ｘ線量の検出体 - 特許庁

To make the thickness of a film of an organic electroluminescence material layer to be uniform and to improve the precision of its pattern formation.例文帳に追加

有機ＥＬ材料層の膜厚を均一化すること、及びそのパターン形成の精度を高める。 - 特許庁

To facilitate the formation of a circuit pattern on a board without necessitating so many manufacturing processes.例文帳に追加

多くの製造工程を必要とすることなく基板上への回路パターンの形成を容易に実現する。 - 特許庁

An inspector (P) for determining the existence of the formation defect of the resist pattern 12 is positioned on the light source part S side.例文帳に追加

レジスト・パターン１２の形成不良の有無を判定する検査者(Ｐ)は、光源部Ｓ側に位置する。 - 特許庁

Thereafter, the control device projects a pattern image to the wafer in the adjusted formation condition (step S16).例文帳に追加

その後、制御装置は、調整された形成条件で、ウエハに対してパターン像を投影する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

To provide a method for forming a waveform pattern for the formation of a contact or a conductive wire.例文帳に追加

コンタクトまたは導電性ワイヤを形成するための波形模様の形成方法を提供すること。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD AND DEVICE, IMAGE FORMATION APPARATUS, METHOD FOR PREPARING DOT PATTERN ADJACENT TABLE AND PROGRAM例文帳に追加

画像処理方法及び装置、画像形成装置、ドットパターン隣接テーブルの作成方法、並びにプログラム - 特許庁

To provide an apparatus and a method for measuring the thickness of a multilayer film laminated on a pattern formation wafer.例文帳に追加

パターン形成ウェーハに積層された多層膜の厚さを測定する装置及び方法を提供する。 - 特許庁