「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM THEREOF, PATTERN FORMATION METHOD AND FILM FOR PROTECTING ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 - 特許庁

To provide a plate for rotary screen printing which enables formation of a minute pattern of high precision.例文帳に追加

精度の高い微細パターンを形成することができるロータリースクリーン印刷用製版を提供する。 - 特許庁

To enable the formation of a planar coil with a single layer pattern, and to enable a large reduction of the manufacturing cost without requiring a lamination process and via formation.例文帳に追加

単層パターンで平面コイルを形成できると共に、積層工程およびビア形成が不要で、製造コストを大幅に削減すること。 - 特許庁

After a copper seed layer 112 is formed, a pattern 114 which blocks the formation of copper in a non-interconnecting area is formed before the formation of a copper layer 120.例文帳に追加

銅シード層(112)の形成後で銅層(120)の形成前に、非相互接続領域に銅が形成されないようにブロックするパターン(114)が形成される。 - 特許庁

Since pattern accuracy of an anisotropic etching mask improves, accuracy of micromirror formation also improves, thus enabling formation of a micromirror of higher flatness.例文帳に追加

異方性エッチングマスクのパターン精度が向上するため、マイクロミラー形成の精度も向上し、より平坦性の高いマイクロミラーが形成可能となる。 - 特許庁

Also, it is preferable that the lower wiring 22 is formed by the liquid phase film formation method and the electrode pattern 24 is formed by a gas phase film formation method.例文帳に追加

また、下部配線２２は液相成膜法により成膜され、電極パターン２４は気相成膜法により成膜されるのが好ましい。 - 特許庁

In the case the coating film is formed so as to cover the uneven efficient pattern region E of the substrate 1 having the efficient pattern region E, a surrounding part 3 is formed in the outside of the efficient pattern region E so as to surround the pattern region E by pattern formation on the substrate 1, and in such a situation, a coating film formation material is applied.例文帳に追加

凹凸状の有効パターン領域Ｅを有する基板１に有効パターン領域Ｅを覆う状態で塗膜を形成する際に、基板１上へのパターン形成により、有効パターン領域Ｅの外側にこれを取り囲むように囲い部３を設け、この状態で塗膜形成材料を塗布する。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン１３ｘにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン６０を基板２０ｘ上に形成した後、成膜工程において、基板２０ｘ上にタンタル膜１３を成膜する。 - 特許庁

The exposure mask 1 for transferring a pattern onto a wafer by exposure includes: a pattern formation region 15 where a pattern 16 having a size not smaller than a resolution limit after being transferred onto the wafer, and a sub-pattern formation region 18 where a sub-pattern 19 having a size less than the resolution limit after being transferred onto the wafer, on a substrate 11.例文帳に追加

露光によりウェーハ上にパターンを転写する露光用マスク１において、基板１１上に、ウェーハ上で解像限界以上となるサイズのパターン１６が形成されたパターン形成領域１５と、ウェーハ上で解像限界未満となるサイズのサブパターン１９が形成されたサブパターン形成領域１８とを設ける。 - 特許庁

A data generating apparatus converts a description format of basic pattern CAD data into XML to generate pattern formation data 91, adds a rule addition index 912 representing pattern formation conditions and an object pattern element to the pattern formation data 91, and further adds a correction rule as a correction rule part 913 acquired from a database, based on the rule addition index 912.例文帳に追加

データ生成装置では、基礎パターンＣＡＤデータの記述形式がＸＭＬに変換されてパターン形成用データ９１が生成され、パターン形成用データ９１には、パターン形成条件および対象パターン要素を示すルール付加用インデックス９１２が付加され、さらに、ルール付加用インデックス９１２に基づいてデータベースから取得された補正ルールが補正ルール部９１３として付加される。 - 特許庁

In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.例文帳に追加

後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having a low refractive index and also less development residue and allowing formation with high resolution of a pattern excellent in dry etching resistance, a pattern forming material, and a photosensitive film, a pattern formation method, a pattern film, a low refractive index film, an optical device and a solid imaging element using the same.例文帳に追加

屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for pattern transfer that, during pattern formation of electrodes, thin films, and the like in a manufacturing procedure for an electronic component and the like, enables formation of a pattern that is thinner and/or has higher definition, and facilitates transfer of the pattern to an optional subject with high definition.例文帳に追加

電子部品等の製造工程における電極、薄膜等のパターン形成において、より薄層化及び／又は高精細化が可能なパターンを形成して、任意の被写体に簡易に、高精細に転写することができるパターン転写用粘着シートを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of pattern formation with the same, and to provide a positive resist composition improved in various performances such as pattern profile, pattern collapse and scumming and excellent also in backward contact angle of an immersion liquid and water follow-up properties, and also to provide a method of pattern formation.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

In this wire formation method, a pattern surface of a stamper 13 used for an imprint method is covered with a barrier film formation compound 14, and a decomposition/transfer process of the barrier film formation compound 14 is performed while pressing the pattern surface of the stamper 13 against a resin film 12 applied onto a substrate 11.例文帳に追加

インプリント法に用いるスタンパ１３のパターン面をバリア膜形成化合物１４で被覆し、スタンパ１３のパターン面を、基板１１上に塗布された樹脂膜１２に押し当てつつ、バリア膜形成化合物１４の分解・転写処理を行う。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high exposure sensitivity, excellent resolution and a high prevention effect against light fog by a light source such as a safelight, and resulting in formation of a high definition pattern, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

露光感度が高く解像度に優れ、かつ、セーフライトなどの光源での光カブリの防止効果が高く、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The control device can control either of a first pattern renewal pattern renewing a display order to a next pattern for every time when the pattern half rotates as if reversing based on the formation of prescribed conditions or a second pattern renewal pattern renewing it for every single rotation.例文帳に追加

制御装置は、所定条件の成立に基づき、図柄を、ひるがえるかの如く半回転させる毎に、表示順序が次の図柄に更新する第１図柄更新パターンと、１回転させる毎に更新する第２図柄更新パターンと、のいずれかに制御可能である。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, an actinic ray- or radiation-sensitive film, mask blanks, and a pattern formation method, which enable pattern formation with excellent shapes.例文帳に追加

良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the exposure is 1/2 of an exposure recommended in the formation of the pattern of the photoresist and the development time is 1/2 of a development time recommended in the formation of the pattern of the photoresist.例文帳に追加

露光量は前記フォトレジストのパターン形成時における推奨露光量の１／２であり、現像時間は前記フォトレジストのパターン形成時における推奨現像時間の１／２が望ましい。 - 特許庁

A formation position of a sub-pattern SP(LM) for a light magenta ink (LM) is present at the center side of a paper S more than a formation position of a sub-pattern SP(M) for a magenta ink (M) in a movement direction.例文帳に追加

ライトマゼンタインク（ＬＭ）についてのサブパターンＳＰ（ＬＭ）の形成位置は、移動方向において、マゼンタインク（Ｍ）についてのサブパターンＳＰ（Ｍ）の形成位置（よりも用紙Ｓの中央側にある。 - 特許庁

To release the formation of a pattern image, according to the content and use of an image, on the basis of forming the pattern image for tracking the source of image or limiting formation of the image.例文帳に追加

画像の出所を追跡又は画像の形成を制限するためのパターン画像を形成することを基本にしつつも、画像の内容や用途によって応じてそのパターン画像の形成を解除し得る。 - 特許庁

The flexible parts 2 have a wiring pattern for electrically connecting between adjacent circuit formation parts 3, and have a radiation pattern for radiating heat generated from the circuit formation parts 3.例文帳に追加

フレキシブル部２には、隣り合う回路形成部３間を電気的に接続させるための配線パターンを設けると共に、回路形成部３から発せられる熱を放熱させるための放熱パターンを設ける。 - 特許庁

Then, a transcriptional mechanism 30 transcribes the formation pattern onto a print medium 5 by making the conductive liquid 3 formed into the formation pattern on the insulating layer abut on the print medium 5.例文帳に追加

さらに、転写機構３０が、絶縁層上において形成パターンに形成された導電性液体３をプリント媒体５に当接させることによってプリント媒体５に形成パターンを転写する。 - 特許庁

To provide a conductive pattern formation method of electronic components, and to provide a method for creating a resin intaglio plate that is used in the pattern formation method, and to provide a common mode choke coil that is created by using the method.例文帳に追加

電子部品の導体パターン形成方法、及び当該パターン形成方法において用いる樹脂凹版を作製する方法と前記方法を用いて作製するコモンモードチョークコイルを提供する。 - 特許庁

One piece or plural pieces of wiring pattern formation blocks 22 are made at a work board 21, and wiring patterns for one piece or plural pieces of build-up multilayer boards 11 are made at each wiring pattern formation block 22.例文帳に追加

ワーク基板２１に、１個又は複数個の配線パターン形成ブロック２２を形成し、各配線パターン形成ブロック２２に、ビルドアップ多層基板１１の１個分又は複数個分の配線パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a film formation apparatus capable of obtaining a high-quality thin film pattern which has no pattern outline blurring, no film formation due to wrapping of an evaporation material around a mask and the like caused by the evaporation material that enters through a gap between the mask and a substrate.例文帳に追加

マスクと基板との隙間を介して侵入する蒸着物質によって生じる輪郭ボケや回り込み等のない、高品位な薄膜パターンを得ることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

A pattern P particularly adapted to the speed of image formation and a pattern elongated in the sub-scanning direction so that precise measurement of the positional shift amount is allowed (preferably, a pattern in which the pattern P is repeated a plurality of times) are used as the two types for the inter-color registration correction pattern.例文帳に追加

色間レジ補正パターンには、画像形成の速度を特に重視したパターンＰと、正確に位置ズレ量を測定ができるよう副走査方向に長いパターン（好適には、パターンＰを複数回繰り返したパターン）と、の２種類を用いる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a method of manufacturing a semiconductor device, capable of forming a pattern in which a pattern region where pattern elements are periodically arrayed and a pattern region without such periodicity coexist with a high resolution.例文帳に追加

パターン要素が周期的に配列されたパターン領域と、このような周期性のないパターン領域とが混在しているパターンを高い解像度で形成することができるパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern improving material, a formation method of a resist pattern and a manufacturing method of a semiconductor device which can improve an LWR (line width roughness) of a resist pattern without more than necessary fluctuations in a resist pattern size.例文帳に追加

レジストパターンサイズを必要以上に変動させることなく、レジストパターンのＬＷＲを改善できるレジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

A pattern inside the forbidden region 404m is removed from a pattern 204m of the main chip of a memory cell for the formation of a main chip modified pattern 7, data D4 and data D7 are composited into a pattern D8 for a test chip.例文帳に追加

メモリセルの本チップのパターン２０４ｍから、禁止領域４０４ｍ内にあるパターンを除き、本チップ修正パターン（Ｄ７）とし、データＤ３とデータＤ７とを合成して、テストチップのためのパターンデータＤ８とする。 - 特許庁

To form an image of a tracking pattern for tracking an image formation source on a paper sheet and to prevent a pattern from being conspicuous, the pattern being generated by tracking pattern dots in a side face of a bundle of image-formed paper sheets.例文帳に追加

画像形成元を追跡するための追跡パターンを用紙に画像形成するとともに、その画像形成された用紙束の側面に追跡パターンドットによって発生する模様を目立たなくすることである。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of securing the wide margin of exposure in test pattern formation and a mask used for the execution.例文帳に追加

テストパターン形成における露光のマージンを広く確保することができるパターン形成方法およびこの実施に用いるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of further improving CD uniformity of a fine pattern having a pitch smaller than a resolution limit.例文帳に追加

解像限界以下のピッチを持つ微細パターンのＣＤ均一性を、より良好にできる微細パターンの形成方法を提供すること - 特許庁

A pair of box masks for measuring the relative positions of a lower layer pattern with upper layer pattern of a semiconductor device are provided in a box mark formation region.例文帳に追加

半導体装置の下層パターンと上層パターンとの相対位置を測定するための１対のボックスマークをボックスマーク形成領域に設ける。 - 特許庁

The visor body 2 comprises a transparent or translucent plate material 40 and a frame 3 supporting the plate material 40, which is provided with a pattern forming part 41 for pattern formation.例文帳に追加

バイザ本体２が、透明ないし半透明の板材４０と、その板材４０を支持する枠体３とを有して構成されている。 - 特許庁

To provide a method for performing more accurate pattern formation, when a fine resist pattern is formed by a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線による微細なレジストパターン形成においてより正確なパターン形成を行う為のレジストパターンを形成する方法を開発する。 - 特許庁

A mold mask pattern 450 is formed on the object layer 430 for pattern formation in the first region and on the mask layer 432 in the second region.例文帳に追加

第１領域ではパターン形成対象層４３０上に、第２領域ではマスク層４３２上にモールドマスクパターン４５０を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a transparent conductive film, in which a transparent electrode is excellent in electric conductivity and light transmissivity, and formation of the pattern of an electrode is easy.例文帳に追加

電気伝導性、透光性が良好で、電極のパターン形成が容易な透明電解膜によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for fine pattern formation, which smoothly shrinks a resist pattern by a heat treatment, and is easily removed by subsequent treatment with an aqueous alkali solution.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FILM FORMATION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF RESIN PATTERN, RESIN PATTERN OBTAINED BY THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用樹脂組成物、感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法およびそれにより得られた樹脂パターン、ならびに電子デバイス - 特許庁

The meandering pattern is so determined as to set the induction reactance value of the inductance circuit 8 to a prescribed value, and a pattern formation part is coated with an insulator.例文帳に追加

インダクタンス回路８の誘導リアクタンス値が所定の値になるように蛇行形状を決定し、パターン形成部は絶縁コーティングを施した。 - 特許庁

To provide a lamination structure capable of simply forming a minute pattern and including a high value added function in addition to the pattern formation.例文帳に追加

簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有する積層構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a pattern formation for forming a highly accurate pattern in a simple method.例文帳に追加

本発明は、簡易な方法で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁