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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Pattern Formationの意味・解説 > Pattern Formationに関連した英語例文

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Pattern Formationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2870



例文

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The formation area of an earth pattern 9, which is formed on the rear 1B of the board 1, is made as wide as possible.例文帳に追加

回路基板1の裏面1Bに形成するアースパターン9の形成面積をできるだけ大きくする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flush memory element by utilizing a self-alignment non-exposure pattern formation process.例文帳に追加

自己整列無露光パターン形成プロセスを利用してフラッシュメモリ素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR FORMATION OF PATTERN FILM, ITS MANUFACTURING METHOD AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC INSTRUMENT例文帳に追加

パターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

例文

SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

軟X線縮小投影露光装置、軟X線縮小投影露光方法及びパターン形成方法 - 特許庁


例文

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SOLID STATE IMAGING DEVICE例文帳に追加

感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 - 特許庁

To provide a biaxially stretched resin film that is inhibited in the rainbow pattern formation in the crossed Nicols method inspection.例文帳に追加

クロスニコル法の検査において、虹模様の発生が抑制された二軸延伸樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a thin film pattern formation apparatus by which satellites are completely eliminated.例文帳に追加

サテライトを完全に消滅させることができる薄膜パターン形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁

例文

To provide a roll printing device capable of executing precise ink pattern formation even onto a large substrate.例文帳に追加

大型基板上においても精密なインクパターン形成が可能なロールプリント装置を提供すること。 - 特許庁

例文

A solid pattern 16 is formed on each surface of a board 12 for the formation of a single-layered ceramic board 10.例文帳に追加

基板12の両面には、ベタパターン16が形成され、単層セラミック基板10が形成される。 - 特許庁

The circumferential part of the pattern formation inhibition region 19 is provided to suppress global flare.例文帳に追加

パターン形成禁止領域19の周囲の部分はグローバルフレアを抑制するために設けられている。 - 特許庁

In this way, positions subject and not subject to sintering are formed in dots, resulting in the formation of a sintered circuit pattern 2.例文帳に追加

この焼結と未焼結がドット状に形成され、焼結された回路パターン2が形成される。 - 特許庁

SULFONIUM SALT HAVING POLYMERIZABLE ANION AND POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

Then, a gate electrode 9 is subjected to pattern formation on the gate insulating film 7 between the source/drain electrodes 5.例文帳に追加

次に、ソース/ドレイン電極5間におけるゲート絶縁膜7上にゲート電極9をパターン形成する。 - 特許庁

ELECTRODE OF PLASMA DISPLAY PANEL, APPARATUS AND METHOD FOR FORMATION OF ELECTRODE PATTERN OF THE PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの電極、プラズマディスプレイパネルの電極パターン形成装置および電極パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER CONTAINING DIOL STRUCTURE, NEGATIVE RESIST COMPOSITION USING IT AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

A plurality of wiring patterns 2 made of a copper foil are formed in the metal foil pattern formation region 4.例文帳に追加

金属箔パターン形成領域4には、銅箔から成る複数の配線パターン2を形成している。 - 特許庁

The surface treatment agent for resist pattern formation contains a compound having an oxazoline group.例文帳に追加

オキサゾリン基を有する化合物を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMATION METHOD AND NEW TETRAHYDROFURAN COMPOUND WITH ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料、パターン形成方法、及び新規テトラヒドロフラン化合物とその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR PHOTORESIST, RESIN FOR PHOTORESIST, RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

In this case, nitrogen discharged from the resist pattern 60 into a film formation atmosphere is doped in the tantalum film 13.例文帳に追加

その際、レジストパターン60から成膜雰囲気中に放出された窒素は、タンタル膜13にドープされる。 - 特許庁

An interlayer insulating material 12 formed on a core substrate 1 is softened, and a mold 20 having protrusions corresponding to the respective recessed part for wiring pattern formation and recessed part for viahole formation is fitted with pressure to the softened interlayer insulating layer, thereby imprinting a trench 14 for wiring pattern formation and a trench 16 for viahole formation.例文帳に追加

コア基板1上に形成された層間絶縁材12を軟化させ、次いで、配線パターン形成用の凹部およびバイアホール形成用の凹部にそれぞれ相当する凸部を有するモールド20を軟化した層間絶縁層に圧入して、配線パターン形成用の溝14およびバイアホール形成用の溝16を転写する。 - 特許庁

The method of coating leather comprises putting Japanese lacquer 3 of a desired color for pattern formation added with a softener on the surface of water in a container, forming a pattern with the lacquer for pattern formation by moving water 1, bringing leather 5 into contact with the pattern to transfer the pattern to the leather and coating the pattern-formed surface of the leather with a top coat 7.例文帳に追加

容器内の水面上には柔軟剤を添加してなる所望の色の模様形成用漆3を乗せ、水1を動かすことにより該模様形成用漆による模様を形成し、皮革5を該模様に接触させて該模様を該皮革上に転写し、該皮革における該模様を形成した表面に上塗り塗装7を行なうことを特徴とする皮革の塗装方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a protective layer on the surface of a photomask which enables the formation of the flat surface of the protective layer on a pattern formation surface without causing the incorporation of air bubbles between the protective layer and the pattern formation surface of the photomask.例文帳に追加

フォトマスク表面への保護層の形成方法において、保護層とフォトマスクのパターン形成面との間に気泡の混入がなく、パターン形成面の上に平坦な保護層表面が形成される、フォトマスク表面への保護層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

The diamond pattern 11 for placing the sensor chip on a circuit substrate 1 is made by pattern formation on the circuit substrate 1, and a ditch-like trench 14 is formed between the diamond pattern 11 by installing a leakage prevention pattern 13 in a surrounding part of the diamond pattern 11.例文帳に追加

回路基板1上にセンサーチップを載置するためのダイヤパターン11を回路基板1表面にパターン形成し、ダイヤパターン11の周囲部には漏洩防止パターン13を突設することで、ダイヤパターン11との間で堀状の溝部14として形成する。 - 特許庁

A pattern, in which the gravity position does not change even if deformations are generated due to the approximity effect of pattern and coarse density, is selected at pattern formation as an alignment pattern from the areas near to the target pattern, and its center of gravity position is set to the reference coordinates of alignment (S12).例文帳に追加

ターゲット・パターンの近傍領域の中から、パターンの形成時に、パターンの近接効果や疎密が原因で変形が生じても、重心位置が変化しないパターンをアライメント・パターンとして選択し、その重心位置をアライメント基準座標に設定する(S12)。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes: a surface treatment step of applying a liquid repellent coating material around a pattern formation planned portion on a target object by an inkjet method; and a pattern forming step of applying, after the surface treatment step, a pattern forming material to the pattern formation planned portion on the target object by an inkjet method.例文帳に追加

実施形態のパターン形成方法は、インクジェット方式により対象物のパターン形成予定部の周りに撥液性を有するコーティング材を塗布する表面処理工程と、前記表面処理工程の後にインクジェット方式により前記対象物の前記パターン形成予定部にパターン形成用材を塗布するパターン形成工程と、を備える。 - 特許庁

A mask M, for forming an image of a pattern MP on a substrate P while rotating around a predetermined axis J, comprises; a pattern formation surface MF disposed around the predetermined axis J on which the pattern MP is formed; and a mark, formed in a predetermined positional relationship with the pattern MP in a predetermined area of the pattern formation surface MF, for acquiring positional information.例文帳に追加

所定軸J周りに回転しつつ基板P上にパターンMPの像を形成するためのマスクMであって、パターンMPが形成され、所定軸J周りに配置されたパターン形成面MFと、パターン形成面MFの所定領域にパターンMPに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。 - 特許庁

To provide a composition for pattern formation having good sensitivity and tenting strength, excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, also having good strippability from a support and good resolution, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming material obtained by using the composition and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

感度、テンティング強度が良好であるのみならず、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性、及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The photomask includes a fine pattern 53 in a mask pattern region corresponding to the formation of a hole He on an upper face of the optical path difference adjusting layer 57 which constitutes a color filter.例文帳に追加

カラーフィルタを構成する光路差調整層57上面のホールHeの形成に対応したマスクパターン領域に微細パターン53が設けられている。 - 特許庁

A defective chip 2 in the non-formation part 5 in which no chip pattern is formed in the periphery of a wafer is provided with a specified pattern to make a contrast in some color.例文帳に追加

ウェハ周辺のチップパターンが形成されないパターン非形成部5の不良チップ2に、ある色のコントラストが出るように所定のパターンを形成している。 - 特許庁

To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.例文帳に追加

反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for reducing the number of processes in pattern formation using a mask material on a sidewall of a core material pattern.例文帳に追加

芯材パターンの側壁に形成するマスク材を利用したパターン形成において工程数を削減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern rings 4 are made up of a plurality of pattern ring formation members 4A, 4B and 4C preferably divided in the circumference of the rotary drum 1.例文帳に追加

パターンリング4は、好ましくは回転ドラム1の周方向に分割される複数のパターンリング形成部材4A,4B,4Cから構成されている。 - 特許庁

In addition, the additive has excelling thermal stability in pattern formation and can improve the flexibility of a pattern, after heat crosslinking.例文帳に追加

さらに、添加剤は、パターン形成を行うときに、熱安定性が優れているだけでなく、熱架橋後のパターンの柔軟性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine pattern which has superior mold releasing properties, high pattern formation precision, and superior permanent film characteristics of surface hardness etc.例文帳に追加

モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently and exactly generate job files required for pattern formation when forming a pattern by divided exposure.例文帳に追加

分割露光によってパターン形成を行う場合に、当該パターン形成に必要となるジョブファイルの生成を、効率よく、かつ、正確に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of forming a pattern having a high orientation and a phase-separated structure on a polymer alloy in a short time.例文帳に追加

ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate, which prevents formation of a plated layer on a needless part, and can form a fine pattern, namely a clearer pattern of a circuit.例文帳に追加

無駄な部分のめっき層の形成を防止し、ファインパターン、即ちより鮮明な回路パターンの形成が可能な基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test pattern-forming apparatus for logic circuits which has a means for enhancing a formation success rate for a test pattern enabling a plurality of target failures to be detected.例文帳に追加

複数個のターゲット故障を検出できるテストパターンの作成の成功率を高める手段を備えた論理回路のテストパターン作成装置を提供する。 - 特許庁

The formation of the minute pattern is performed by use of a metal mold 2 having a minute pattern by recessed parts 18 formed on a surface by photolithographic technique as a die.例文帳に追加

そして、微細模様の形成は、表面にフォトリソグラフィ技術を用いて凹部18による微細模様を形成した金型2を型として用いて行う。 - 特許庁

Then, based on the detected result of the adjustment pattern, the dot pattern formation conditions (for example, development bias) are changed so as to be in conformity with the change of the environmental conditions.例文帳に追加

そして、調整パターンの検出結果に基づいて、ドットパターン形成条件(例えば、現像バイアス)を環境条件の変化に適合するように変更する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having improved exposure latitude and good sensitivity in the formation of a fine pattern and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

微細パターンの形成に於いて、露光ラチチュードが改良され、感度も良好な、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new thin film pattern formation technology capable of easily forming an excellent thin film pattern without short circuit and blur on a substrate.例文帳に追加

短絡およびかすれのない良好な薄膜パターンを基板上に容易に形成することができる新たな薄膜パターン形成技術を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprint which has superior pattern formation performance even if pattern forming is repeatedly performed, and satisfies high dry etching resistance.例文帳に追加

繰り返しパターン形成を行っても良好なパターン形成性を有し、さらに高ドライエッチング耐性を満たすインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device precisely controlling the depth of a wiring trench pattern and suppressing formation of damage to the wiring trench pattern.例文帳に追加

配線溝パターンの深さを精密に制御でき、かつ当該配線溝パターンのダメージ形成を抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reticle in which a mask pattern associated with a semiconductor chip formation and a mask pattern associated with several kinds of TEG formations are laid out by a new design.例文帳に追加

半導体チップ形成に係るマスクパターン、及び、複数種類のTEG形成に係るマスクパターンが、新規なデザインで配置されたレチクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern transfer method which enables high accuracy pattern formation with little focus displacement on a substrate whose surface roughness is relatively large.例文帳に追加

表面の凹凸が比較的大きい基板に対して、焦点ずれが小さく、高精度なパターン形成を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

例文

A pattern forming equipment 101 applies ink on a substrate 105 from an ink jet head unit 103 provided to a gantry 119 for pattern formation.例文帳に追加

パターン形成装置101は、ガントリ119に設けられるインクジェットヘッドユニット103からインクを基板105に塗布しパターン形成を行う装置である。 - 特許庁




  
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