「RUBBING TREATMENT」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

RUBBING CLOTH FOR ORIENTATION TREATMENT例文帳に追加

配向処理用ラビング布 - 特許庁

RUBBING TREATMENT DEVICE, METHOD OF RUBBING TREATING, RUBBING CLOTH AND MANUFACTURE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ラビング処理装置、ラビング処理方法、ラビング布および液晶表示素子の製造方法 - 特許庁

The liquid crystal substrate 82 on a rubbing stage 81 is subjected to the rubbing treatment by rubbing with a rubbing roll 83.例文帳に追加

ラビングステージ８１上の液晶基板８２は、ラビングロール８３によって擦られてラビング処理される。 - 特許庁

RUBBING ALIGNMENT TREATMENT DEVICE AND RUBBING ALIGNMENT TREATMENT METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL例文帳に追加

液晶表示パネルのラビング配向処理装置およびラビング配向処理方法 - 特許庁

SCISSORS FOR RUBBING AND APPLYING TREATMENT AGENT ETC ONTO CUT FACE例文帳に追加

切断面に処理剤等を擦り付けて付着させる鋏。 - 特許庁

The rubbing treatment is performed twice to the same substrate in rubbing directions different from each other.例文帳に追加

ラビング処理は、同一基板に対し異なるラビング方向で二回行われる。 - 特許庁

RUBBING TREATMENT DEVICE, METHOD FOR DETECTING ABNORMALITY OF RUBBING PRESSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

ラビング処理装置、ラビング圧力の異常検出方法及び液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

When rubbing treatment is performed by rubbing the substrate 2 in one direction by using a rubbing cloth 4, rubbing strength at an entering end part 6 of the substrate 2 is weakened as compared to rubbing strength at an inside position of the entering end part 6.例文帳に追加

基板２をラビング布４で一方向に擦りラビング処理を行う際、基板２の進入端部６でのラビング強度を上記基板２の進入端部６より内方位置でのラビング強度に比べて弱める。 - 特許庁

To provide an apparatus for rubbing a substrate for performing a rubbing treatment at high yield and low cost, when performing the rubbing treatment on the substrate mounted on the palette, a palette for use in the apparatus, and a method of rubbing the substrate.例文帳に追加

パレットに載置した基板にラビング処理を行う際、高歩留まり、かつ低コストでラビング処理を行うことができる基板のラビング装置とそれに用いるパレット及びラビング方法を提供する。 - 特許庁

A foreign matter 44 produced by a rubbing treatment is attached to the end of the elongated region 43 on the upstream side in the rubbing treatment.例文帳に追加

ラビング処理で発生した異物４４を、ラビング方向上流側の延長領域４３の端に付着させる。 - 特許庁

A clearance B in the second rubbing treatment is set so as to be larger than a clearance A in the first rubbing treatment.例文帳に追加

このとき、一回目のラビングにおけるクリアランスＡよりも、二回目のラビングにおけるクリアランスＢの方が大きくなるように設定される。 - 特許庁

Then, after rubbing treatment of a glass substrate with an alignment layer formed on the surface thereof, and before rubbing a subsequent glass substrate 7, a rubbing roll 2, around which the rubbing cloth 1 is wrapped, is pressed to the foreign matter removing substrate 5 and rotated and moved to a fixed direction, similar to an operation in the usual rubbing treatment.例文帳に追加

そして、表面に配向膜が形成されたガラス基板をラビング処理した後であって、次のガラス基板７をラビングする前に、通常のラビング処理と同様に、ラビング布１を巻き付けたラビングローラー２を当該異物除去基板５に押しつけて一定方向に回転移動させる。 - 特許庁

The minute structural body 31 includes a side (a) along a rubbing direction X in which rubbing treatment is performed first and a side (b) along a rubbing direction Y in which rubbing treatment is performed second and an angle θ1 formed by the rubbing directions X and Y is specified to be an angle (a vertex angle) θ2 formed between the sides (a) and (b).例文帳に追加

この微小構造体３１は、１回目のラビング処理のラビング方向Ｘに沿う辺ａと、２回目のラビング処理のラビング方向Ｙに沿う辺ｂとを含んでおり、ラビング方向Ｘとラビング方向Ｙとの間のなす角θ１を辺ａと辺ｂとの間のなす角（頂角）θ２とする。 - 特許庁

Subsequently the surfaces of the alignment layers 2a, 2b are subjected to a rubbing treatment.例文帳に追加

その後、配向膜２ａ，２ｂの表面にラビング処理をそれぞれ施す。 - 特許庁

To provide a device and a method for rubbing a substrate by which a raising part of a rubbing cloth forming the peripheral surface of a rubbing roller is uniformly shaped without being damaged during a rubbing treatment.例文帳に追加

ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部を、ラビング処理中に、ダメージを与えることなく均一に整えることのできる基板のラビング装置、及びラビング方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing device which enables alignment layer formed on a substrate to be subjected to an alignment treatment by a rotary rubbing method, a rubbing cloth used for the rotary rubbing method is provided with a part where the lengths of rubbing fibers are different from each other.例文帳に追加

基板上に形成された配向膜に回転ラビング法により配向処理を行うことを可能とした液晶表示パネルの製造装置であって、回転ラビング法に用いるラビング布が、毛の長さが異なる部分を備えた。 - 特許庁

A controller 124 variably controlling the rubbing condition in accordance with the rubbing roll temperature Tr of a rubbing roll 112 when rubbing treatment is performed is provided.例文帳に追加

ラビング処理時におけるラビングロール１１２のラビングロール温度Ｔｒに応じてラビング条件を可変制御するコントローラ１２４を設ける。 - 特許庁

To provide a rubbing treatment method capable of enhancing productivity by efficiently removing dust generated by rubbing treatment and attaining long life of a rubbing roller; to provide a rubbing treatment device; to provide an optical compensation film; and to provide a device for manufacturing the same.例文帳に追加

ラビング処理で発生する塵埃を効率良く除去し、かつ、ラビングローラの長寿命化を図ることで生産性を向上できるラビング処理方法、ラビング処理装置、光学補償フィルム及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

The rubbing treatment device includes a rubbing roller 16 having a rubbing cloth 28 stuck to the circumferential surface thereof, a roll-shaped brush 26 for removing dust adhering to the rubbing cloth 28 and a dust exhausting device 34 exhausting the dust removed from the rubbing cloth 28.例文帳に追加

ラビング布２８を周面に貼り付けたラビングローラ１６と、ラビング布２８に付着した塵埃を除去するロール状のブラシ２６と、ラビング布２８より除塵した塵埃を排気する塵埃排気装置３４と、を備えるようにした。 - 特許庁

In the rubbing method with which a substrate surface is subjected to rubbing treatment by bringing it into contact with a rotating rubbing roll while the substrate is made running, a diameter of a filament 4 of a rubbing cloth 1 wound around a surface of the rubbing roll is set to be 1.0-2.5 denier.例文帳に追加

基板を走行させながら、この基板の表面に回転するラビングローラを接触させて配向処理を施すラビング方法において、ラビングローラの表面に巻回するラビング布１のフィラメント４の径を１．０〜２．５デニールとする。 - 特許庁

The controller 124 performs rubbing treatment to the alignment layer in the uniform rubbing density RS, even when the rubbing roll temperature Tr is changed by frictional heat, residence and the like, by veriably controlling the feeding speed V in accordance with the rubbing roll temperature Tr in each rubbing position X.例文帳に追加

さらに、コントローラ１２４は、各ラビング位置Ｘにおけるラビングロール温度Ｔｒに応じて送り速度Ｖを可変制御することにより、ラビングロール温度Ｔｒが摩擦熱の発生及び滞留等によって変化した場合にも、配向膜に対して均一なラビング密度ＲＳでラビング処理を行う。 - 特許庁

Before rubbing treatment is performed, the electrically heating wires 113 and 115 generate heat and the substrate 101 and the rubbing cloth are heated.例文帳に追加

電熱線１１３，１１５は、ラビング処理前に発熱して、基板１０１及びラビング布１０３を加熱する。 - 特許庁

To provide a panel substrate equipped with a terminal part which forms a uniform load toward a rubbing roll to be used for rubbing treatment of an alignment layer.例文帳に追加

配向膜のラビング処理に用いられるラビングローラに対して均一な負荷となり得る端子部を備えたパネル基板を提供する。 - 特許庁

The vertical alignment layers 6 and 16 are subjected to rubbing treatment and disposed so that rubbing directions thereof are opposite by 180°.例文帳に追加

垂直配向膜６、１６はラビング処理を施してラビング方向が１８０°反対側を向いた配置にする。 - 特許庁

Thus, the rubbing treatment using optimum rubbing strength will always be performed, regardless of the fluctuation of the plate thickness of the substrate.例文帳に追加

これにより、基板の板厚のばらつきに拘わらず、常に最適なラビング強度でのラビング処理が行われる。 - 特許庁

The liquid crystalline film is provided by performing rubbing treatment using a rubbing cloth made of a napped member which is washed by water of temperature 40 to 80°C.例文帳に追加

温度４０〜８０℃の水で洗浄処理された起毛状部材からなるラビング布を用いてラビング処理を行う。 - 特許庁

The film 2 is subjected to rubbing treatment and the easy axis of liquid crystal alignment of the rubbed film 2 is made perpendicular to the rubbing direction.例文帳に追加

該膜２にラビング処理を施し、ラビングされた該膜２の液晶配向の容易軸を、ラビング方向と垂直とする。 - 特許庁

The device for measuring 43 measures variation of respective measured values in comparison with the initial values reflected by the rubbing roller 42 under rubbing treatment.例文帳に追加

測定装置43はラビングローラ42で反射した初期値に対する各種測定値の変化量をラビング処理しながら測定する。 - 特許庁

DOUBLE-SIDED ADHESIVE TAPE FOR ATTACHING RUBBING CLOTH WINDING, RUBBING TREATMENT OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

ラビング布巻着用両面粘着テープ、液晶表示素子のラビング処理方法および液晶表示素子 - 特許庁

After the rubbing treatment begins, the temperature rises by the frictional heat of the rubbing cloth 103 and the surface of the substrate 101.例文帳に追加

ラビング処理が開始されると、ラビング布１０３と基板１０１表面との摩擦による摩擦熱によって温度が上昇する。 - 特許庁

A first rubbing density at the time when rubbing treatment is performed to an alignment layer 16 formed on an element substrate 10, and a second rubbing density at the time when rubbing treatment is performed to an alignment layer 22 formed on a counter substrate 20 are made mutually different.例文帳に追加

素子基板１０上に形成された配向膜１６に対するラビング処理時の第１のラビング密度と対向基板２０上に形成された配向膜２２に対するラビング処理時の第２のラビング密度とを、相互に異ならせたことを特徴とする。 - 特許庁

Rubbing strength measured values RSs measured by the rubbing strength measuring device 130 are inputted in a controller 124 and the controller 124 feeds back the rubbing strength measured values RSs to a rubbing condition (feeding speed V) at the time when substrate 101 after this is subjected to rubbing treatment to fixedly control rubbing strength and prevent unevenness in alignment regulating force.例文帳に追加

ラビング強度測定装置１３０によって測定されたラビング強度測定値ＲＳｓはコントローラ１２４に入力され、コントローラ１２４は、ラビング強度測定値ＲＳｓを以降の基板１０１にラビング処理を行う際のラビング条件（送り速度Ｖ）にフィードバックさせることにより、ラビング強度を一定にして配向規制力にムラが生じることを防止する。 - 特許庁

A napped cloth of a rubbing roller used for the rubbing treatment process is made of rayon, wherein the cloth thickness is 1.8 to 2.0 mm and the indentation of the rubbing cloth is 0.2 to 0.5 mm.例文帳に追加

ラビング処理工程に用いられるラビングロールの起毛布はレーヨン製であり、布厚は１．８ｍｍ〜２．０ｍｍであり、ラビング布の押し込み量は０．２ｍｍ〜０．５ｍｍである。 - 特許庁

To provide a rubbing treatment device by which local abnormality of rubbing pressure can be detected and existence of generation of rubbing unevenness can be decided.例文帳に追加

ラビング圧力の局所的な異常を検出し、ラビングムラ発生の有無を判定することができるラビング処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and a method for rubbing a substrate in an electrooptical device making the device compact and further carrying out rubbing with excellent efficiency in carrying out rubbing treatment on the surface of an alignment layer formed on the substrate.例文帳に追加

基板に形成された配向膜の表面にラビング処理を行う際、装置を小型化し、かつ効率良くラビングを行うことができる電気光学装置における基板のラビング装置とそのラビング方法を提供する。 - 特許庁

A TEG 301 is provided in such a manner that an extended region 302 formed by extending the TEG 301 toward a rubbing terminating part along a rubbing direction in a rubbing treatment of the mother TFT array substrate 300 is in the non-effective region.例文帳に追加

マザーＴＦＴアレイ基板３００のラビング処理におけるラビング方向に沿って、ＴＥＧ３０１をラビング終端部に向かって延長した延長領域３０２が非有効領域となるように、ＴＥＧ３０１が配置される。 - 特許庁

To provide a conductive double-sided self-adhesive tape for fixing a rubbing cloth with which the cloth can be evenly adhered to a rubbing roller, resulting in the reduction of an uneven alignment and a good peeling work efficiency is obtained after rubbing treatment.例文帳に追加

ラビング布のラビングローラへの均一な貼着を可能とし、これによって配向ムラを低減することができ、またラビング処理後には剥離作業性のよい、ラビング布固定用導電性両面接着テープを提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display wherein straight-line-shaped rubbing unevenness caused by rapid disorder of a rubbing cloth is hardly caused on a substrate when an alignment layer on the substrate is subjected to rubbing treatment.例文帳に追加

基板上の配向膜にラビング処理を行う際、基板にクロスの急激な乱れに起因する直線状のラビングムラが発生し難い液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The layer of an alignment layer forming material is applied with a coating device 21A on a belt-like flexible web 26 and is subjected to the rubbing treatment by rotating a rubbing roller 72 to which a rubbing cloth is stuck.例文帳に追加

帯状可撓性のウエブ２６上に塗布装置２１Ａで配向膜形成材料層を塗布し、ラビング布を貼り付けたラビングローラ７２を回転させてラビング処理する。 - 特許庁

In the case that the long size polymer film is wrapped around a rubbing roll with ≥0.1° wrap angle and continuous rubbing treatment is carried out, the method for rubbing is characterized by having a rubbing density L defined in an equation (1) satisfying an inequality 0.5≤L≤30 with 5≤γ≤25.例文帳に追加

長尺高分子フィルムをラビングロールに０．１°以上のラップ角でラップさせて連続的にラビング処理する場合において、下記式（１）で定義されるラビング密度Ｌが、５≦γ≦２５であって、０．５≦Ｌ≦３０であることを特徴とするラビング方法。 - 特許庁

Since a rubbing cloth does not come in contact with the part of the external part connection terminal 4 and the part of a counter common electrode connection terminal 5 when the rubbing treatment is performed, force applied to feather tips of the rubbing cloth is made uniform and the rubbing cloth does not to receive the damage by difference in frictional resistance.例文帳に追加

ラビング処理時にラビング布が外部接続端子４部分および対向共通電極接続端子５部分と接触しなくなるため、ラビング布の毛先が受ける力が均一になり、ラビング布は摩擦抵抗の違いによるダメージを受けなくなる。 - 特許庁

The first time rubbing direction A and the second time rubbing direction B are set at different directions and the rubbing treatment is first executed at the rubbing angle of 0° to 10° in an arrow A direction.例文帳に追加

第１の基板に形成された配向膜のラビング処理を、この第１の基板と対向する第２の基板との間隔を保持するスペーサを第１の基板に形成した後に実行して液晶パネルを製造するに際し、前記配向膜に対してラビング角度が異なる複数回のラビング処理を実行する。 - 特許庁

The first resin film 71 and the second resin film 72 are subjected to rubbing treatment.例文帳に追加

第一の樹脂膜７１および第二の樹脂膜７２にはラビング処理を施す。 - 特許庁

To provide a massage machine, capable of performing rubbing massage on the seat of a treatment object person.例文帳に追加

被施療者の座に対して擦りマッサージを施すことができるマッサージ機を提供する。 - 特許庁

The meso J association dispersion is then dropped onto a glass substrate and subjected to a rubbing treatment.例文帳に追加

次いで、前記メゾＪ会合体分散液をガラス基板上に滴下させた後、ラビング処理を施す。 - 特許庁