「Ti-Co」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The cemented carbide body consists of, by mass, WC, 3.5-9% Co, <2% Ta and Ti, and a Nb carbide.例文帳に追加

超硬合金本体は、WCと、3.5 〜９質量％のCoと、２質量％未満のTa,Ti 及びNbの炭化物とからなる。 - 特許庁

The (Nb, Ti) phase in the Nb-Ti-Co alloy is composed of a granular structure.例文帳に追加

Ｎｂ−Ｔｉ−Ｃｏ合金における（Ｎｂ，Ｔｉ）相を粒状組織で構成する。 - 特許庁

A cemented carbide body contains WC, 5 to 12 mass % Co, 2 to 11 mass % Ta and Ti, and cubic carbide.例文帳に追加

超硬合金本体は、WCと、５〜12質量％のCoと、３〜11質量％のTa,Ti 及びＷの立方晶炭化物とを含む。 - 特許庁

The intermediate layer 14 is constituted of a non-magnetic alloy consisting essentially of Co and Cr and oxides of Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zn and the like.例文帳に追加

中間層14はCoおよびCrを主原料とする非磁性合金と、Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zr等の酸化物で構成される。 - 特許庁

An aluminum anodized coating is immersed into an aqueous solution containing the fluoro-complex salt of Zr, Si, Ti, Au, Ag, Co, Ni, Mo, Mn, Nb, Ta, W, Zn, Fe, Ir or Sc.例文帳に追加

アルミニウム陽極酸化皮膜を、Zr 、Si、Ti、Au、Ag、Co、Ni、Mo、Mn、Nb、Ta、W、Zn、Fe、Ir、又はScのフルオロ錯塩を含む水溶液に浸漬させることを特徴とする。 - 特許庁

The Pt alloy is produced by adding Ti to Pt, or adding Co and Ti to Pt.例文帳に追加

ＰｔにＴｉを添加させるか、またはＰｔにＣｏ及びＴｉを添加させＰｔ合金とさせること。 - 特許庁

As the hard particles, carbides (such as WC and TiC), borides (such as MoB and TiB) and nitrides (such as TiN and CrN) are used, and, as the matrix metal, a Co base alloy, a Ni base alloy, a Ti base alloy or the like are used.例文帳に追加

硬質粒子は炭化物（WC,TiC等），硼化物（MoB,TiB等），窒化物（TiN,CrN等）、マトリックス金属は、Co基合金，Ni基合金，Ti基合金等である。 - 特許庁

(A group) Fe ion, Ni ion, Cu ion, Co ion, Cr ion, phosphoric acid ion (B group) Mo ion, Ti ion, W ion, Al ion, Mg ion, Sr ion, molybdic acid ion, titanic acid ion, tungstic acid ion.例文帳に追加

（Ａ群）Feイオン、Niイオン、Cuイオン、Coイオン、Crイオン、リン酸イオン （Ｂ群）Moイオン、Tiイオン、Ｗイオン、Alイオン、Mgイオン、Srイオン、モリブデン酸イオン、チタン酸イオン、タングステン酸イオン - 特許庁

HIGH STRENGTH Fe-Ni-Co-Ti BASED ALLOY AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

高強度Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ−Ｔｉ系合金およびその製造方法 - 特許庁

Further, one or more kinds selected from among Mo, W and Co or one or more kinds selected from among Nb, Ti, V and B or one or two kinds of rare earth metals and Ca may be incorporated therein.例文帳に追加

さらに、Mo、Ｗ、Coのうちの１種または２種以上、あるいはNb、Ti、Ｖ、Ｂのうちの１種または２種以上、また、REM 、Caのうちの１種または２種を含有してもよい。 - 特許庁

A cemented carbide consists of WC, 2 to 10 mass % Co and 4 to 12 mass % metal selected from groups IVa, Va and VIa in the periodic table, preferably cubic carbide of Ti, Ta and Nb.例文帳に追加

超硬合金は、WC、２〜10質量％のCo、及び４〜12質量％の、周期律表のIVa,Va又はVIa 族金属、好ましくはTi,Ta 及びNbの立方晶炭化物からなる。 - 特許庁

The base metal is alloy of Ni, Fe, Ti, Co, Al, Nb, or Mo base.例文帳に追加

ベース金属は、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｎｂ、またはＭｏベースの合金である。 - 特許庁

Preferably, the carbide is composed of one or more kinds selected from the group of Nb, W, Ti, V and Cr, and a matrix metal is a Ni base alloy, a Co base alloy or a stainless steel.例文帳に追加

炭化物はNb、Ｗ、Ti、Ｖ、Crからなる群の内の１種または２種以上の炭化物が望ましく、マトリックス金属は、Ni基合金、Co基合金またはステンレス鋼が望ましい。 - 特許庁

The induction absorptive material is formed of at least one oxide of metals selected from the group consisting of Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb, Ta, W, Re, Os, Ir, and Bi and a transparent substrate.例文帳に追加

Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb,Ta, W, Re, Os, Ir,およびBiからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物と透明基板とから形成される誘導吸収材料。 - 特許庁

The contaminants contained in a Fischer-Tropsch product stream and comprising inorganic components such as Al, Co, Ti, Fe, Mo, Na, Zn, Si, and Sn, derived from a catalyst are removed through acidic aqueous stream.例文帳に追加

フィッシャー・トロプシュ生成物流に含まれる、触媒に起源するAl,Co,Ti,Fe,Mo,Na,Zn,Si,およびSnなど無機成分を含む汚染物を、酸性水溶により処理し汚染物を除去する。 - 特許庁

The catalyst metal particle is at least one kind selected from Ti, Zr, Fe, Co, Ni and Y.例文帳に追加

触媒金属粒子１は、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｙからなる選択される少なくとも１種である。 - 特許庁

The coating elements are one or more elements selected from Mg, Al, Co, K, Na, Ca, Si, Ti, Sn, V, Ge, Ga, B, As and Zr.例文帳に追加

コーティング元素は、Ｍｇ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｋ，Ｎａ，Ｃａ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｖ，Ｇｅ，Ｇａ，Ｂ，Ａｓ，Ｚｒから選択される一つ以上の元素である。 - 特許庁

The light limiting material consists of a transparent substrate and oxides of at least one kind of metal selected from among Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb, Ta, W, Re, Os, Ir and Bi (but except VO2).例文帳に追加

透明基板とTi，V，Cr，Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Zn，Nb，Mo，Ru，In，Sn，Sb，Ta，W，Re，Os，IrおよびBiからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物(但し、VO_2 を除く)とから形成される光制限材料。 - 特許庁

The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加

ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか１種の酸化物、またはいずれか２種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁

The total weight of Ni and Co is 15 to 25 mass%, a Ti content is 30 to 50 mass%, a W content is 15 to 30 mass%, and the total content of Ta, Nb, Mo, Hf, V and Cr is 5 to 15 mass%.例文帳に追加

そして、NiとCoの合計量が15〜25質量％で、Tiの含有量が30〜50質量％で、Wの含有量が15〜30質量％で、Ta、Nb、Mo、Hf、VおよびCrの合計含有量が5〜15質量％である。 - 特許庁

Its ferromagnetic characteristic is adjusted by adding other anti-ferromagnetic transition metals such as Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Rh, or Ru, etc., adding a dopant, or adjusting the concentration of the transition metals.例文帳に追加

そして、Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Rh,またはRuなどその他の反強磁性の遷移金属の添加、ドーパントの添加などやこれらの遷移金属の濃度の調整、により強磁性特性を調整する。 - 特許庁

Then, the ferromagnetic properties thereof are controlled by the addition of antiferromagnetic transition metals such as Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Rh, Ru or the like, the addition of dopants, and the control of the concentration of the transition metals.例文帳に追加

そして、Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Rh,またはRuなどその他の反強磁性の遷移金属の添加、ドーパントの添加などやこれらの遷移金属の濃度の調整、により強磁性特性を調整する。 - 特許庁

[1] There's no particular limitations as metal ions, and ions such as Mg, Al, Ca, Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn and the like can be named.例文帳に追加

［１］金属イオンとしては、特に制限はないが、Ｍｇ，Ａｌ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ等のイオンが挙げられる。 - 特許庁

As the metal film 7 of the upper layer, an Ni film, a Co film or a Ti film is formed, for example.例文帳に追加

上層の金属膜７としては、例えばＮｉ膜、Ｃｏ膜又はＴｉ膜を形成する。 - 特許庁

As an example having appropriate performance, one where M contains Co and M' contains Ti can be cited.例文帳に追加

好適な性能を有するものとして、ＭがＣoを含み、Ｍ'がＴiを含むものが挙げられる。 - 特許庁

This method patternizes a Ti film 2 in a desired area on a silicon substrate 1 and forms a Co film 3 on the substrate 1, covering the Ti film 2.例文帳に追加

シリコン基板１上の所望部位にＴｉ膜２をパターン形成し、Ｔｉ膜２を覆うように基板１上にＣｏ膜３を形成する。 - 特許庁

In the base material, Cr is included so that a weight ratio of WC, Co of 5 to 8 wt.% and Cr/Co may be 0.05 to 0.15, and Ti and Ta of a ppm level or a mixture of the Ti and Ta exists.例文帳に追加

基材は、ＷＣ、５〜８重量％のＣｏおよびＣｒ／Ｃｏの重量比が０．０５〜０．１５になるようなＣｒを含み、ｐｐｍレベルのＴｉ、Ｔａまたはこれらの混合物が存在する。 - 特許庁

Thereafter, the silicide process (including at least a kind of Ni, Ti, Co, Pd, Pt, and Er) is conducted to each gate electrode, source region and drain region of the n-channel MISFET and p-channel MISFET.例文帳に追加

その後、Ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴおよびＰチャネル型ＭＩＳＦＥＴの各ゲート電極、ソース領域およびドレイン領域にシリサイド化（Ni,Ti,Co,Pd,Pt,Erのうち少なくとも一種類を含む）を行う。 - 特許庁

After that, in each gate electrode, source region, and drain region of N-channel type MISFET and P-channel type MISFET, silicidation (at least one of Ni, Ti, Co, Pd, Pt, and Er is included) is performed.例文帳に追加

その後、Ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴおよびＰチャネル型ＭＩＳＦＥＴの各ゲート電極、ソース領域およびドレイン領域にシリサイド化（Ni,Ti,Co,Pd,Pt,Erのうち少なくとも一種類を含む）を行う。 - 特許庁

The grains, constituting the inorganic compound film 2 consist of Co3O4 (spinel type) with solid solution of Si and Ti, and the intergranular phase consists of an amorphous oxide consisting of Co, Si, Ti and O.例文帳に追加

無機化合物膜２を構成する粒子はＳｉ，Ｔｉを固溶したＣｏ_3Ｏ_4（スピネル型）であり、粒界相はＣｏ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｏからなる非晶質酸化物である。 - 特許庁

As the solid solution elements other than N, He, Li, B, C, O, Ne, Mg, P, S, Ar, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Hf, Ta and W are given.例文帳に追加

Ｎ以外の固溶元素としては、Ｈｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ｃ，Ｏ，Ｎｅ，Ｍｇ，Ｐ，Ｓ，Ａｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｓｎ，Ｈｆ，Ｔａ，及びＷがある。 - 特許庁

Further, the external layer material may contains one or two kinds of metals selected from ≤3% Nb and ≤5% W, or ≤5% Ni, or ≤2% Co, or one or two kinds of metals selected from ≤0.1% Al and ≤0.1% Ti.例文帳に追加

さらに、Nb：３％以下、Ｗ：5％以下のうちから選ばれた1種または2種、あるいはNi：５％以下、あるいはCo：２％以下、あるいは、Al：0.1％以下、Ti：0.1％以下のうちから選ばれた1種または2種を含有してもよい。 - 特許庁

An alloy stock having a composition comprising, by mass, 10 to 30% Cr, 0.1 to 15% Mo, 0.1 to 15% Co, 0.2 to 3% Al, 0.2 to 5% Ti, 0.03 to 0.1% C, and the balance Ni with inevitable impurities is subjected to soaking treatment, so as to control a Michelin point to ≤100.例文帳に追加

質量％でCr：10〜30％，Mo：0.1〜15％，Co：0.1〜15％，Al：0.2〜3％，Ti：0.2〜5％，C：0.03〜0.1％，残部Ni及び不可避的不純物の組成を有する合金素材をソーキング処理してミシュランポイントを１００以下とする。 - 特許庁

The etching method comprises treating a surface to be etched with an etching solution containing a halide and/or nitrate containing at least one metal selected from the group comprising Na, Mg, Al, Si, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ca and Zn.例文帳に追加

本発明においては、被エッチング表面を、Na、Mg、Al、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ca及びZnからなる群から選択された少なくとも１つの金属を含むハロゲン化物及び／または硝酸塩を有するエッチング溶液で処理する。 - 特許庁

The deposition method of a metal thin film includes a step (STEP1) for depositing a Ti film, a step (STEP2) for forming a Co film on the Ti film, and a step (STEP3) for forming a metal thin film containing a Co_3Ti alloy by heat-treating the Ti film and Co film.例文帳に追加

金属薄膜の成膜方法は、Ｔｉ膜を成膜する工程（ＳＴＥＰ１）、Ｔｉ膜上にＣｏ膜を形成する工程（ＳＴＥＰ２）、Ｔｉ膜及びＣｏ膜を熱処理してＣｏ_３Ｔｉ合金を含む金属薄膜を形成する工程（ＳＴＥＰ３）を備えている。 - 特許庁

The metal oxide film consists of one or more metals I selected from Fe, Co, Ni, Cu, Ti, V, Cr, Zn, Nb, Mo, W and Y.例文帳に追加

前記金属酸化膜の構成金属は、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｎ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙから選ばれる１以上の金属Ｉからなる。 - 特許庁

The metal in the metallic salt of nitric acid consists of alkaline-earth metals, Co, Ni, Fe, Zr, Ti or the like.例文帳に追加

成分（Ｂ）の硝酸塩金属中の金属は、アルカリ土類金属、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ等である。 - 特許庁

The copper alloy sheet can further includes a predetermined amount of one or more elements among Sn, Zn, Co, Cr, Mn, Mg, Al, Ag, B, Be, In, Si, Ti, and Zr, as needed.例文帳に追加

必要に応じて、さらにＳｎ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｍｇ，Ａｌ，Ａｇ，Ｂ，Ｂｅ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒの１種又は２種以上を所定量含み得る。 - 特許庁

If required, the copper alloy sheet may further contain one or more selected from Fe, Sn, Co, Cr, Mn, Mg, Si, Al, Zr, In, Ti, B, Ag and Be by prescribed quantity.例文帳に追加

必要に応じて、さらにＦｅ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｍｇ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｚｒ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｂ，Ａｇ，Ｂｅの１種又は２種以上を所定量含み得る。 - 特許庁

The external layer material of a roll may further comprise one or two kinds of metals selected from ≤3% Nb and ≤5% W, or ≤5% Ni, or ≤2% Co, or one or two kinds of metals selected from ≤0.1% Al and ≤0.1% Ti.例文帳に追加

さらに、Nb：３％以下、Ｗ：５％以下のうちから選ばれた1種または２種、あるいはNi：５％以下、あるいはCo：２％以下、あるいは、Al：0.1％以下、Ti：0.1％以下のうちから選ばれた1種または2種を含有してもよい。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing surface-treated steel sheet, which can reliably obtain excellent wet resin adhesion and corrosion resistance without using Cr even when an adhesive coating film is formed by successive cathode electrolytic treatment in a water solution containing Ti and Co.例文帳に追加

TiとCoを含む水溶液中で継続的に陰極電解処理して密着性皮膜を形成しても、確実に優れた湿潤樹脂密着性と耐食性が得られるCr不用の表面処理鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the formula, R1 and R4 each represent a hydrogen atom, alkyl group, or aromatic ring (including condensed ring); R2 and R3 each represent an aromatic ring (including condensed ring); M represents one kind of trivalent metal selected from among Al, Fe, Ti, Co, and Cr; and X+ represents a cation.例文帳に追加

（式中、Ｒ１およびＲ４は水素原子、アルキル基、芳香環（縮合環も含む）を、Ｒ２およびＲ３は芳香環（縮合環も含む）を、ＭはAl、Fe、Ti、Co、Crから選ばれる１種の３価の金属を、Ｘ＋はカチオンを示す。） - 特許庁

A ratio of Me/Co=(Ti atomic% + Nb atomic% +Ta atomic% )/Co atomic% is ≤0.014-(CWCr)×0.008 and is higher than 0.0005.例文帳に追加

Ｍｅ／Ｃｏ＝（Ｔｉ原子％＋Ｎｂ原子％＋Ｔａ原子％）／Ｃｏ原子％の比は、０．０１４−（ＣＷ Ｃｒ）×０．００８以下であり、０．０００５より高い。 - 特許庁

A negative electrode active material layer 21B contains Si as a constituting element, and contains metal elements such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni and Zr.例文帳に追加

負極活物質層２１Ｂは、構成元素としてＳｉを含むと共にＴｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｒなどの金属元素を含んでいる。 - 特許庁

The negative electrode active material layer 21B includes Si as a constituent element, and includes metal elements such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, and Zr.例文帳に追加

負極活物質層２１Ｂは、構成元素としてＳｉを含むと共にＴｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｒなどの金属元素を含んでいる。 - 特許庁