「alignment stage」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

POSITION ALIGNMENT SYSTEM BY XYθ STAGE例文帳に追加

ＸＹθステージによる位置アライメントシステム - 特許庁

A conveying device 1 includes an alignment stage 2 and a delivery stage 3.例文帳に追加

搬送装置１は、整列ステージ２と、送り出しステージ３とを備えている。 - 特許庁

To image alignment marks of a wafer stage and a mask stage by one imaging apparatus.例文帳に追加

ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。 - 特許庁

WAFER STAGE ALIGNMENT SYSTEM FOR STEPPER AND ALIGNING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ステッパーのウェハーステージ・アライメントシステムおよびそのアライメント方法 - 特許庁

Two stage alignment coils 50 are arranged on the upstream side of two stage electromagnetic lenses 15 and 19.例文帳に追加

２段の電磁レンズ１５、１９の上流側に２段のアライメントコイル５０を配置する。 - 特許庁

The aligner has an exposure stage 4 used for executing exposure treatment, and an alignment stage 7 used for executing alignment and measurement.例文帳に追加

露光装置は、露光処理を実行するための露光ステージ４とアライメント計測を実行するためのアライメントステージ７を有する。 - 特許庁

The method for conveying the semiconductor wafer includes pressing of a first brush of an alignment stage cleaning mechanism 29 against a water vacuum stage of an alignment stage 5 of the semiconductor wafer W prior to conveying of the semiconductor wafer W to the alignment stage 5, rotating of the wafer vacuum stage in this state, and removing of the dust deposited on the wafer vacuum stage.例文帳に追加

半導体ウエハＷのアライメントステージ５への搬入に先立ち、アライメントステージクリーニング機構２９の第１のブラシをアライメントステージ５のウエハ吸着ステージに押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、ウエハ吸着ステージに付着した塵埃を除去する。 - 特許庁

To provide an exposure device including an exposure processing section for exposure processing and an alignment stage section for performing alignment, in which the alignment stage is made compact and inexpensive as much as possible.例文帳に追加

露光処理を行う露光処理部と位置合せを行うアライメントステージ部とを備えた露光装置において、アライメントステ一ジをできるだけ小型化、低コスト化すること。 - 特許庁

The alignment stage 2 aligns a plurality of articles that have been supplied.例文帳に追加

整列ステージ２は、供給された複数の物品を整列させる。 - 特許庁

A first stage holds a first member including a first alignment mark, and a second stage holds a second member including a second alignment mark.例文帳に追加

第１ステージが、第１アライメントマークを有する第１部材を保持し、第２ステージが、第２アライメントマークを有する第２部材を保持する。 - 特許庁

When actually making a pre-alignment of the reticle on the reticle pre-alignment stage 110, the calculated deviation is taken into consideration.例文帳に追加

実際にレチクルをレチクルプリアライメントステージ１１０でプリアライメントする際には、このずれを考慮する。 - 特許庁

An alignment assembly for optical module includes an alignment stage 44 making it possible to adjust the relative positions of the light source and lens 34, and also includes a lock mechanism that disables the alignment stage to be moved after a one-time alignment procedure.例文帳に追加

光モジュール用のアライメントアセンブリは、光源とレンズ34との相対的な位置の調節を可能にするアライメントステージ44を含むが、ワンタイムアライメント手順後に、アライメントステージの移動をできないようにするロック機構も含む。 - 特許庁

A mask alignment scope 11 is loaded on a wafer stage 31 and an alignment mark position on a mask 20 is detected.例文帳に追加

ウエハステージ３１上にマスクアライメントスコープ１１を搭載し、マスク２０上のアライメントマーク位置を検出する。 - 特許庁

At the stage of the formation, the rodlike polymerizable liquid crystal compound undergoes a tilt alignment at the interface of the vertical alignment film.例文帳に追加

このとき、上記棒状重合性液晶化合物は、垂直配向膜界面において、傾斜配向する。 - 特許庁

The mask conveying apparatus is equipped with a second alignment stage 6 for correcting the position of a reticle and with a rotary arm 7 which conveys the reticle between the second alignment stage 6 and a reticle stage RST.例文帳に追加

マスク搬送装置は、レチクルの位置補正を行う第２アライメントステージ６と、第２アライメントステージ６とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルを搬送する旋回アーム７とを備える。 - 特許庁

To substantially reduce incorrectness in alignment of a lens and a stage.例文帳に追加

レンズとステージとのアライメントで生じる不正確さを実質的に減少させる。 - 特許庁

Alignment between a probe and the electrode of a glass substrate 73 is made by finely adjusting an X-stage, a Y-stage, and a θ-stage.例文帳に追加

Ｘステージ６４とＹステージ６６とθステージ６８を微調整することで、プローブとガラス基板７３の電極とのアライメントを実施する。 - 特許庁

The sample alignment device 150 is provided with a sample alignment stage 170, composed of a tray 172 and a pair of guide rails 176.例文帳に追加

試料整列器１５０は、トレイ１７２及び一対のガイドレール１７６から成る試料整列台１７０を備えている。 - 特許庁

The rotation table 21 of the delivery stage 3 regulates the movement of the articles supplied from the alignment stage 2 by an edge 31b on the alignment stage side when delivering the placed articles.例文帳に追加

そして、送り出しステージ３の回動テーブル２１は、載置された物品を送り出すときに、整列ステージ側の端部３１ｂによって整列ステージ２から供給される物品の移動を規制する。 - 特許庁

To be able to correctly decide in a short period whether or not alignment has converged for the alignment convergence of several stages, such as a reticle stage or a substrate stage are proper.例文帳に追加

レチクルステージや基板ステージなどの各種のステージの位置決め収束性の良否にかかわらず、短時間で位置決めが収束したことを正しく判定する。 - 特許庁

The device area needed by the stage is reduced and pre-alignment is made easy by using a polar coordinates stage 320.例文帳に追加

極座標ステージを用いることにより、そのステージが必要とする装置面積を低減し、プレアライメントを容易にする。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 has a processing unit 5, an X-direction moving stage 7, an alignment stage (Y-direction moving stage and θ direction moving stage) 9, an air float unit 11 and a roller 13 etc.例文帳に追加

基板加工装置１は、加工ユニット５、Ｘ方向移動ステージ７、アライメントステージ（Ｙ方向移動ステージ及びθ方向移動ステージ）９、エアフロートユニット１１、ローラ１３等を有する。 - 特許庁

A tool reticle is loaded onto a pre-alignment stage 110, and positional information of a mark on the tool reticle is detected by a pre-alignment system 45.例文帳に追加

工具レチクルをプリアライメントステージ１１０にロードし、プリアライメント系４５で工具レチクル上のマークの位置情報を検出する。 - 特許庁

A plurality of alignment points are stored, and according to movement of a stage, the alignment points 19, 20, 21 (23, 24, 25) of an appropriate local region corresponding to the present stage position 18 (22) are automatically selected, and the alignment correction values are renewed.例文帳に追加

複数のアライメントポイントを記憶し、ステージ移動に伴い、現在のステージ位置１８（２２）に見合った、妥当な局部領域のアライメントポイント１９，２０，２１（２３，２４，２５）を自動的に選択してアライメント補正値を更新する。 - 特許庁

The method for forming the liquid crystal alignment layer includes a stage for controlling the alignment direction of the alignment layer by irradiating the alignment layer applied on a substrate with light and containing a polymer having an atomic group capable of cross-linking reaction by light in its side chain with light and a stage for enhancing the liquid crystal alignment regulating power by heating the alignment layer irradiated with light.例文帳に追加

基板に塗布され且つ光により架橋反応の可能な原子団を側鎖に有する重合体を含有する配向膜に、光を照射して配向膜の配向方向を制御する工程および光を照射された上記配向膜を加熱して液晶配向規制力を高める工程を含む、液晶配向膜の形成方法。 - 特許庁

To provide an alignment stage device which allows an alignment angle to be set large, is improved in accuracy, clean, compact in size and inexpensively manufactured.例文帳に追加

アライメント角度が大きく設定でき，高精度でクリーンであり，コンパクトに且つ安価に作製できるアライメントステージ装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, the plurality of optical alignment layers 7a subjected to alignment treatment can be formed in a desired position of a base material 3 on the stage 4.例文帳に追加

このことによりステージ４上の基材３の所望位置に配向処理済光配向膜７ａを複数形成することができる。 - 特許庁

A first stage holds a first member having a first alignment mark put on the first surface, and a second stage holds a second member having a second alignment mark put on the second surface.例文帳に追加

第１のステージが、第１の面に第１のアライメントマークが形成された第１の部材を保持し、第２のステージが、第２の面に第２のアライメントマークが形成された第２の部材保持する。 - 特許庁

A chuck transporting robot 12 fits a holding unit fitted to the alignment stage 7 to the exposure stage 4 by moving the unit to the stage 4 in a state where a wafer is held by and fixed to the unit.例文帳に追加

チャック搬送ロボット１２は、アライメントステージ７に装着された保持ユニットを、ウエハが保持、固定された状態を保ちながら露光ステージ４へ移動し、装着させる。 - 特許庁

A substrate alignment device 51 comprises a substrate position detecting unit 30a, a moving stage 12a, a moving stage driving unit 53a, a stage position detecting unit 27a, and a total control unit 50.例文帳に追加

基板アライメント装置５１は、基板位置検出部３０ａと、移動ステージ１２ａと、移動ステージ駆動部５３ａと、ステージ位置検出部２７ａと、全体制御部５０とからなる。 - 特許庁

To provide an alignment stage capable of reducing the size of a device and improving turning precision in the θ (theta) direction.例文帳に追加

装置を小型化出来、θ方向の回転精度を向上できるアライメントステージを提供する。 - 特許庁

To prevent an aligner from degrading in exposure positional accuracy due to unstable alignment of a reticule with a reticule stage.例文帳に追加

レチクルとレチクルステージ間の位置の不安定さによる露光位置精度の劣化を防止する。 - 特許庁

When the alignment mark of a work piece W is detected, the work stage 3 shifts to the location of the drawing.例文帳に追加

ワークＷのアライメントマークを検出する際は、ワークステージ３が図示の位置に移動する。 - 特許庁

To provide a stage device, capable of being used suitably for a TIS measurement of an alignment microscope.例文帳に追加

アライメント顕微鏡のＴＩＳ計測に好適に用いることができるステージ装置を提供する。 - 特許庁

When exposure is finished, a second handler 12a carries the first mask M1 to the pre-alignment stage 5.例文帳に追加

露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。 - 特許庁

To provide an alignment method capable of highly precisely positioning a substrate placed on a stage.例文帳に追加

ステージ上に載置された基板を高精度に位置決め可能なアライメント方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a microscope system which raises operability of a stage upon observation-position alignment.例文帳に追加

観察位置合わせ時のステージの操作性を高めることができる顕微鏡システムを提供する。 - 特許庁

To perform alignment in multi-stage impurity injection processing with high precision.例文帳に追加

多段階の不純物注入処理におけるアライメントを高い精度で行うことを可能とする。 - 特許庁

To reduce a percentage of time used to move a wafer stage during an alignment.例文帳に追加

アライメントする際にウェハステージを移動するために用いられる時間の割合を低減すること。 - 特許庁

Each holding unit which holds the wafer has a stage reference mark for alignment and measurement, and can be fitted to and removed from the exposure and alignment stages 4 and 7.例文帳に追加

ウエハを保持する保持ユニットは、アライメント計測用のステージ基準マークを有し、露光ステージ４及びアライメントステージ７に着脱可能である。 - 特許庁

The exposure stage 4 and alignment stage 7 can operate and execute the exposure treatment and alignment and measurement in a state where holding units for wafers are respectively fitted to the stages 4 and 7, independently.例文帳に追加

ここで、露光ステージ４とアライメント計測ステージ７はそれぞれ独立に動作可能であり、それぞれウエハが保持された保持ユニットを装着して露光処理とアライメント計測処理を独立して実行する。 - 特許庁

An exposure device has a mask stage 9, a pre-alignment device 7 pre-aligning a mask 1, to be covered on the stage 9 and a mask-manipulating mechanism 10 for carrying the original edition between the stage 9 and the pre-alignment device 7 or exchanging the two original editions.例文帳に追加

露光装置は、マスクステージ９と、ステージ９に渡たすべきマスク１をプリアライメントするプリアライメント装置７と、ステージ９とプリアライメント装置７との間で原版を搬送し又は２枚の原版を交換するマスク操作機構１０とを有する。 - 特許庁

Further, variance in the alignment state due to a gap and lubbing resulting from a peripheral stage difference can be suppressed even in an alignment state because of differences of color pixels.例文帳に追加

また、配向状態でも色画素の違いにより、周辺段差によるギャップやラビングによる配向状態のばらつきも抑えることができる。 - 特許庁

The alignment microscope 4 is inserted into the inside of the work stage 3 so that the work-piece mark WAM may be detected by the alignment microscope 4 via the through tube 3b.例文帳に追加

アライメント顕微鏡４がワークステージ３の内部に挿入され、アライメント顕微鏡４により貫通孔３ｂを介してワークマークＷＡＭを検出する。 - 特許庁

Then, a base line is corrected by measuring reference marks formed on an off-axis scope 12 for wafer alignment and a mask alignment scope formed on the wafer stage 31.例文帳に追加

更に、ウエハアライメント用オフアクシススコープ１２とウエハステージ３１上のマスクアライメントスコープに形成された基準マークを計測することによってベースライン補正を行う。 - 特許庁