「approximate design method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an information recording medium master disk and a substrate which have approximate design value without causing distortion of a Gray code pattern by a shift in irradiation timing between a main exposure beam and an auxiliary exposure beam.例文帳に追加

主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングのズレによるグレーコードパターンの歪みが発生せず、設計値に近い情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an optical element having a characteristic more approximate to the optical characteristic expected from the design by improving a manufacturing method of the optical element using a DLC (Diamond Like Carbon) film.例文帳に追加

ＤＬＣ膜を利用した光学素子の製造方法を改善して、設計から期待される光学特性により近い特性を有する光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide an approximate histogram generation method of nodes to be given to XML data when updating the XML data, thereby enabling an easy grasp of a node congestion state in a tree structure of the XML data, and a design/management method of node labels using the approximate histogram.例文帳に追加

ＸＭＬデータを更新する場合に、ＸＭＬデータの木構造における節点の混み具合を容易に把握することができるＸＭＬデータに付与する節点の近似ヒストグラム作成方法および、上記近似ヒストグラムを用いた、節点のラベルの設計・管理手法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The method includes approximating rounding of at least one corner of an image of the design, generating a representation of the design further to the approximate rounding of the at least one corner, generating an initial representation of a mask utilized to image the design based on the representation, and performing optical proximity correction (OPC) further to the initial representation of the mask.例文帳に追加

この方法は、デザイン像の少なくとも１つのコーナーの丸みを近似する工程と、該少なくとも１つのコーナーの近似した丸みにさらにデザインの描写を生成する工程と、その描写に基づき、デザインを撮像するために利用するマスクの最初の描写を生成する工程と、マスクの最初の描写に光近接効果の補正ＯＰＣをさらに実施する工程とを含む。 - 特許庁

The design method of the rotary machine including the liquid is characterized by calculating the movement of a fluid with inclusion of the effect of radial advection term in a process to approximate to shallow water wave and using the Galerkin Method that obtains the most reliable approximation solution of energy in a process to reduce the dimension of the equation about shallow water wave.例文帳に追加

流体の運動を浅水波近似する過程において、半径方向の移流項の効果を含めて計算すると共に、浅水波についての方程式の次元を低減する過程において、エネルギ的に最も信頼性の高い近似解が得られるガレルキン法を用いる。 - 特許庁

To provide a method of correcting mask patterns of a photomask to be used in a photolithography process step in manufacturing a conductor integrated circuit, etc., having fine circuit patterns in such a manner that transfer patterns approximate to desired design patterns can be obtained by improving the dimensional uniformity of the transfer patterns.例文帳に追加

微細な回路パターンを有する導体集積回路等を製造する際のフォトリソグラフィ工程において使用するフォトマスクについて、転写パターンの寸法均一性を向上させて所望の設計パターンに近い転写パターンが得られるようにマスクパターンを補正する方法を提供する。 - 特許庁

The gear design support method includes a basic data input step (S101) inputting basic data of each gear train, and a wear amount computing step (S103) computing the mutual slip speed of tooth flanks from information on the basic data input step, adding a dispersion component to the slip speed, and computing the wear amount on the tooth flanks in a target lifetime from approximate bearing pressure and a specific wear amount.例文帳に追加

歯車設計支援方法は、各歯車列の基本データを入力する基本データ入力工程（Ｓ１０１）と、基本データ入力工程の情報から歯面同士のすべり速度を算出し、そのすべり速度にばらつき成分を加算し、概算面圧と比摩耗量から目標寿命時間における歯面上の摩耗量を算出する摩耗量算出工程（Ｓ１０３）と、を含む。 - 特許庁