「buffer gas」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

HYDROGEN GAS PRESSURE BUFFER DEVICE AND HYDROGEN GAS PRESSURE BUFFERING METHOD例文帳に追加

水素ガス圧緩衝装置および水素ガス圧の緩衝方法 - 特許庁

FUEL GAS FEEDER EQUIPPED WITH BUFFER TANK例文帳に追加

バッファタンクを備えた燃料ガス供給装置 - 特許庁

ARC EXTINGUISHING DEVICE OF GAS-BLOWING TYPE BY ROTARY- BUFFER METHOD例文帳に追加

ロータリーパッファ方式のガス吹付形消弧装置 - 特許庁

The first buffer tank 5 houses high concentration diborane gas, and the second buffer tank 6 houses hydrogen gas.例文帳に追加

第１のバッファタンク５は高濃度ジボランガスを収容し、第２のバッファタンク６は水素ガスを収容する。 - 特許庁

In the gas buffer area 23b for the group III gas, partition walls 40 for partitioning the peripheral part of the gas buffer area 23b for the group III gas into a plurality of layers of the stacking direction are provided.例文帳に追加

III 族系ガスバッファエリア２３ｂには、III 族系ガスバッファエリア２３ｂの周辺部を積層方向の複数層に仕切る隔壁４０が設けられている。 - 特許庁

BUFFER MEANS FOR OPTICAL ELEMENT FOR GAS LASER, AND GAS LASER DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

ガスレーザ用光学素子の緩衝手段及びそれを用いたガスレーザ装置 - 特許庁

Nitrogen gas is supplied to the buffer space 21 by a gas supply section 30.例文帳に追加

バッファ空間２１にはガス供給部３０から窒素ガスが供給される。 - 特許庁

A buffer gas supply port 19 for supplying buffer gas for replacing the atmosphere in the laser light irradiation part 15 and a buffer gas discharge port 20 for discharging the buffer gas are arranged on the side of the laser light irradiation part 15.例文帳に追加

レーザ光照射部１５の側面には、レーザ光照射部１５内の雰囲気を置換するためのバッファガスを供給するバッファガス供給口１９およびバッファガスを排出するバッファガス排出口２０が配置される。 - 特許庁

APPARATUS FOR CONDENSING HYPERPOLARIZATION XENON GAS CONTINUOUSLY FROM GAS MIXTURE CONTAINING BUFFER GAS AND HYPERPOLARIZATION XENON GAS例文帳に追加

緩衝用ガスと過分極キセノンガスを含むガス混合物から過分極キセノンガスを連続的に濃縮するための装置 - 特許庁

The height of the center portions of the group-III gas buffer area 23b and the group-V gas buffer area 24b are greater than that of their peripheral parts.例文帳に追加

III 族系ガスバッファエリア２３ｂ・Ｖ族系ガスバッファエリア２４ｂは、中心部の方が周辺部よりも高さが高い。 - 特許庁

The fluorine gas generation device 50 includes a fluorine gas generation section 1 and a buffer tank 2.例文帳に追加

フッ素ガス発生装置５０はフッ素ガス発生部１およびバッファタンク２を含む。 - 特許庁

The discharge media contains neon and argon as a starting gas and a buffer gas.例文帳に追加

放電媒体は、始動ガスおよびバッファガスとしてネオンおよびアルゴンを含んでいる。 - 特許庁

The pressure of the buffer gas is equal to or lower than the pressure of the source gas.例文帳に追加

バッファガスの圧力はソースガスの圧力よりも低いかもしくは同等である。 - 特許庁

Gas-side openings of the gas-liquid separators (71-73) are connected with corresponding buffer containers (76-78).例文帳に追加

各気液分離器（71〜73）のガス側開口は、対応するバッファ容器（76〜78）に接続される。 - 特許庁

An additional gas in the second gas box 113 is added to the branch pipe 123, and a different mixture gas from that of the buffer 63a is supplied to the buffer chamber 63b.例文帳に追加

分岐配管１２３には第２のガスボックス１１３の付加ガスが付加され，バッファ室６３ｂにはバッファ室６３ａと異なる混合ガスが供給される。 - 特許庁

The laser tube is filled with a gas mixture including molecular fluorine and a buffer gas.例文帳に追加

レーザ管は分子フッ素とバッファ・ガスとを含むガス混合物によって充填されている。 - 特許庁

The nitrogen gas flowing into the first buffer space 81 is supplied to the second buffer space 82 via the gas pipe 83.例文帳に追加

第１緩衝空間８１に流入した窒素ガスは、ガス配管８３を介して、第２緩衝空間８２に供給される。 - 特許庁

For that reason, the gas in the buffer chamber 11 is efficiently mixed, and gas concentration in the buffer chamber 11 can be made even.例文帳に追加

このため、パッファ室１１内部のガスが効率よく混合され、パッファ室１１内のガス密度を均一化することができる。 - 特許庁

A gas injecting hole 142 is prepared on one side of the gas chamber 14, and a gas extracting hole 152 is prepared on one side of the buffer chamber 15.例文帳に追加

気体室１４の一側に注気孔１４２を有し、緩衝室１５の一側に抽気孔１５２を有する。 - 特許庁

BUFFER TANK, MATERIAL GAS SUPPLY SYSTEM, AND FILM FORMING DEVICE USING THE SYSTEM例文帳に追加

バッファタンク、原料ガスの供給システム及びこれを用いた成膜装置 - 特許庁

A sample introducing side buffer solution 2 is heated to reduce a dissolved gas amount of the buffer solution 2, and the buffer solution 2 is further circulated to a degassing device 5 to be kept in a dissolved gas amount lower than the saturated dissolved gas amount at the time of heating.例文帳に追加

試料導入側バッファ液を加温して、バッファ液の溶存気体量を低減し、さらに、バッファ液を脱気装置に循環させ、発熱時の飽和溶存気体量より低い溶存気体量に保つ。 - 特許庁

On the shower plate 21, group III system gas buffer areas 23b and group V system gas buffer areas 24b respectively isolated from one another for filling a group III system gas and a group V system gas, are stacked in this order.例文帳に追加

シャワープレート２１上に、III族系ガスとＶ族系ガスとのそれぞれを充満させる互いに隔離されたIII族系ガスバッファエリア２３ｂとＶ族系ガスバッファエリア２４ｂとがこの順に積層される。 - 特許庁

In the gas buffer area 23b for the group III gas, partition walls 40 for partitioning the gas buffer area 23b for the group III gas into a plurality of layers in the stacking direction are provided, and a plurality of through-holes 41... are formed in the partition walls 40.例文帳に追加

III 族系ガスバッファエリア２３ｂには、III 族系ガスバッファエリア２３ｂを積層方向の複数層に仕切る隔壁４０が設けられ、かつ隔壁４０には複数の貫通孔４１…が形成されている。 - 特許庁

A buffer room 22a of a buffer room part 22 communicates with the narrow gap part 14b via a gas passage part 21.例文帳に追加

バッファ室部２２のバッファ室２２ａは、ガス出入通路部２１を介して細隙部１４ｂに連通している。 - 特許庁

In addition, the running cost of the laser device can also be suppressed, because the amounts of a buffer gas and an iodine gas utilized for the reactive gas can be reduced.例文帳に追加

また、反応ガスに利用されるバッファガスの量及びヨウ素ガスも低減されることから、ランニングコストを抑制できる。 - 特許庁

An introduction buffer tank 4 is provided between the gas separator 5 and the gas insulating equipment 1 for storing the mixture gas.例文帳に追加

ガス分離装置５とガス絶縁機器１との間には、混合ガスを保管するための導入部バッファタンク４が設けられている。 - 特許庁

This chamber houses a rear gas buffer groups and a working gas containing the active gas selected to impart desirable spectral rays.例文帳に追加

該チャンバは希ガス緩衝ガスおよび望ましいスペクトル線を与えるように選択された活性ガスを含む作業ガスを収容する。 - 特許庁

In the endoscope gas-supply system, a gas-supply duct for automatic gas supply from a gas-supply apparatus 102 into the lumen includes a buffer tank 106 which has a predetermined volume.例文帳に追加

内視鏡送気システムは、送気装置１０２から管腔内へ自動送気するための送気管路に所定の容量を有するバッファタンク１０６を備える。 - 特許庁

A processing gas guide member 82 forms a meandering flow passage for the processing gas in the buffer space B.例文帳に追加

また、バッファ空間Ｂ内には処理ガス案内部材８２が処理ガスの蛇行流路を形成している。 - 特許庁

To provide a compressor equipped with shaft sealing device(s) not using a buffer gas.例文帳に追加

バッファガスを使用しない軸封装置を備えた圧縮機を提供する。 - 特許庁

The gas buffer chamber 164 and the liquid buffer chamber 166 communicate with the atomization part 172 through a liquid passage 176 and through a gas passage 170, respectively.例文帳に追加

ガスバッファ室１６４はガス通路１７０を介して、液体バッファ１６６は液体通路１７６を介してそれぞれ霧化部１７２に連通する。 - 特許庁

The pump and the buffer volume are configured so as to generate a suction cleaning gas flow near the substrate by gas suction into the buffer volume.例文帳に追加

このポンプおよびバッファ・ボリュームは、バッファ・ボリューム内へのガス・サクションによって基板の近傍に吸引浄化ガス流を生成するように構成されている。 - 特許庁

The pump and buffer volume are configured to create sucking/cleaning gas stream near the substrate by sucking gas into the inside of the buffer volume.例文帳に追加

このポンプおよびバッファ・ボリュームは、バッファ・ボリューム内へのガス・サクションによって基板の近傍に吸引浄化ガス流を生成するように構成されている。 - 特許庁

The system further includes a pressure differential system configured to control the flow rate of the buffer gas 41 and maintain a positive differential in pressure between the buffer gas 41 and the process gas.例文帳に追加

さらに、このシステムは、バッファガス４１の流量を制御し、バッファガス４１とプロセスガスとの間の圧力において正の差を保持するように構成される圧力差システムを含む。 - 特許庁

The first inlet buffer section 52 has a first dedicated buffer region 52a contiguous to an oxidant gas inlet interconnection hole 30a and distributes the oxidant gas while regulating distribution of fuel gas on the second inlet buffer section 60 side, and a common buffer region 52b contiguous to a first oxidant gas passage 50.例文帳に追加

第１入口バッファ部５２は、酸化剤ガス入口連通孔３０ａに隣接して酸化剤ガスを流通させるとともに、第２入口バッファ部６０側で燃料ガスの流通を規制する第１専用バッファ領域５２ａと、第１酸化剤ガス流路５０に近接する共通バッファ領域５２ｂとを有する。 - 特許庁

The plurality of gas supply parts includes first buffer chambers (buffer chambers 23-25) for supplying the gas to the gas introduction parts from the gas supply parts, and flow regulation parts 50 for supplying the gas to the first buffer chambers at uniform pressure, wherein the first buffer chambers are located on the downstream side in the gas circulation direction with respect to the flow regulation parts 50.例文帳に追加

複数の上記ガス供給部には、上記ガス供給部から上記ガス導入部へガスを供給するための第１のバッファ室（バッファ室２３〜２５）と、第１のバッファ室へ均一な圧力でガスを供給するための流量調整部５０とを含み、上記第１のバッファ室は流量調整部５０に対して、ガスの流通方向の下流側に位置する。 - 特許庁

The buffer layer is formed under a condition of which silicon-based material gas is diluted at high level with diluent gas until the silicon-based material gas can be crystallized.例文帳に追加

前記バッファ層は、シリコン系原料ガスが、希釈ガスで、結晶化し得る程度まで高度に希釈された条件で形成される。 - 特許庁

A hydrogen mixed gas feeding unit 12 has a hydrogen-containing gas feeder 51, an inert gas feeder 52 and a buffer tank 58.例文帳に追加

水素混合ガス供給装置１２は、水素含有ガス供給機５１と不活性ガス供給機５２とバッファタンク５８とを備えている。 - 特許庁

The gas in the substitution vessel at this time is received in a buffer tank 3 of the latter part.例文帳に追加

その際の置換容器内のガスを後段のバッファタンク３に収容する。 - 特許庁

High density diborane gas is mixed with hydrogen gas by the mixer 5 and fed via a buffer container 3 to a use point.例文帳に追加

ミキサー５で高濃度ジボランガスと水素ガスを混合し、バッファ容器３を経由してユースポイントへ供給する。 - 特許庁

In the endoscope gas-supply system, a gas-supply duct for automatic gas supply from a gas-supply apparatus 102 into the lumen includes a buffer tank 106, where a duct resistance A on the upstream side (the side of the gas-supply apparatus 102) from the buffer tank 106 is larger than a duct resistance B on the downstream side from the buffer tank 106.例文帳に追加

内視鏡送気システムは、送気装置１０２から管腔内へ自動送気するための送気管路にバッファタンク１０６を備えるとともに、バッファタンク１０６よりも上流側（送気装置１０２側）の管路抵抗Ａは、バッファタンク１０６よりも下流側の管路抵抗Ｂに比べて大きく構成される。 - 特許庁

The buffer tank supplies the hydrocarbon gas mixture, housed in the buffer tank, to a route between the vaporizer and a fuel cell.例文帳に追加

バッファータンクは、バッファータンクに収容された炭化水素ガス混合物を気化器と燃料電池との間の経路に供給する。 - 特許庁

If the valve 86 is opened, nitrogen gas is supplied to the first buffer space 81 from the nitrogen gas supply source 85 via the gas piping 85.例文帳に追加

バルブ８６が開放されると、窒素ガス供給源８５からガス配管８５を介して第１緩衝空間８１に窒素ガスが送給される。 - 特許庁

The buffer chamber 68 is formed in its bottom with a single or a plurality of gas inlets 68a, from which a gas such as air or N2 gas from a gas supply source is introduced into the buffer chamber 68.例文帳に追加

バッファ室６８の底面には１つまたは複数の気体導入口６８ａが形成されており、図示しないガス供給源からの気体たとえば空気またはＮ2 ガスが気体導入口６８ａよりバッファ室６８内に導入される。 - 特許庁

A plurality of group V system gas supply pipes 24c communicating with a plurality of group V system gas discharge holes H5 on the shower plate 21 from the group V system gas buffer areas 24b are formed in the group III system gas buffer areas 23b by penetrating them.例文帳に追加

III族系ガスバッファエリア２３ｂには、Ｖ族系ガスバッファエリア２４ｂからシャワープレート２１の複数のＶ族系ガス吐出孔Ｈ５に連通する複数のＶ族系ガス供給管２４ｃが貫通して設けられている。 - 特許庁