「buffer gas」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the occurrence of the two-dimensional electronic gas in the buffer region 3 is suppressed, the buffer region 3 becomes higher in resistance and the leakage current of a HEMT element is suppressed.例文帳に追加

バッファ領域３に２次元電子ガスが発生することが抑制されるので、バッファ領域３が高抵抗になり、ＨＥＭＴの漏れ電流が抑制される。 - 特許庁

A first SiC crystal is formed as a buffer layer, and further a SiC crystal is layered thereon by using a source gas having a C/Si ratio adjusted to be higher than that when forming the buffer layer.例文帳に追加

更にＳｉＣ結晶をバッファー層とし、さらに、Ｃ／Ｓｉ比をバッファー層を形成するときのＣ／Ｓｉ比よりも増加方向に調整された原料ガスを用いた。 - 特許庁

The treatment liquid 60 fed to the first buffer tank 121 and the second buffer tank 122 is pressurized by pressurized gas 61, and the treatment liquid 60 is fed to an on/off valve 152.例文帳に追加

第１バッファタンク１２１および第２バッファタンク１２２に供給された処理液６０は加圧ガス６１により加圧されて開閉弁１５２まで供給される。 - 特許庁

A reflex line 19 is connected to the introduction buffer tank 4 and the pressurizing liquefier 6 for refluxing gas phase in the pressurizing liquefier 6 to the introduction buffer tank 4.例文帳に追加

この導入部バッファタンク４及び加圧液化装置６には加圧液化装置６内のガス相を導入部バッファタンク４へと還流する還流ライン１９が接続されている。 - 特許庁

An oxide film for a buffer is formed by providing ozone gas to a substrate by emitting rays of light of an ultraviolet region, and then a polysilicon is formed on an oxide film for a buffer.例文帳に追加

紫外領域の光を照射のもと基板にオゾンガスを供して基板にバッファ用酸化膜を形成した後にこのバッファ用酸化膜にポリシリコンが形成される。 - 特許庁

A gas blowing means 35 blows an inert gas toward the cooling body when the ground plate 4 is transferred by a transfer means 7 in the buffer space 25.例文帳に追加

ガス噴出手段３５は、搬送手段７がバッファ空間２５において下地板４を搬送するときに、冷却体に向けて不活性ガスを噴出する。 - 特許庁

In the group V system gas buffer areas 24b, a plurality of dummy columns 25c are formed at the same plane position as that of a plurality of group III system gas discharge holes H3.例文帳に追加

Ｖ族系ガスバッファエリア２４ｂには、複数のダミー柱２５ｃが、複数のIII族系ガス吐出孔Ｈ３と同じ平面位置に設けられている。 - 特許庁

Each of the branched shield bodies includes a plenum filled with inert gas and a lower side outlet port branched shield bodies includes a plenum filled with inert gas and a lower side outlet port connected to plenum so as to form a buffer barrier.例文帳に追加

各分路シールドボディは、不活性ガスで満たされたプレナム、緩衝バリヤーを形成するようにプレナムに結合されている下側出口ポートを含む。 - 特許庁

By appropriately determining the gas amount storing in the buffer vessel section 5, the gas pressure in the pipe can be maintained in conditions slightly higher than the atmospheric pressure.例文帳に追加

緩衝容器部５内に貯留するガス量を適宜に決めることで、配管内のガス圧を大気圧より若干高い状態に保つことができる。 - 特許庁

A second space including buffer gas of lower absorption in the wavelength of the projected beam of the apparatus restricts that gas enters the remaining portion of the lithography system.例文帳に追加

装置の投影ビームの波長において低吸収のバッファガスを含んだ第二スペースにより、リソグラフィシステムの残りの部分にこのガスが入るのを制限する。 - 特許庁

The tanks include a dry tank used for storing one or more of gas pumps 14a, 14b, a fluid pump 16, filters, and a gas flow buffer.例文帳に追加

タンクは、ガスポンプ１４ａ,ｂ、流体ポンプ１６、フィルタおよびガス流バッファのうち１つまたはそれ以上を格納するために用いられる乾燥タンクを含む。 - 特許庁

Silane gas is passed from a second buffer space 42a2 to each second gas supply pipe part 28b and supplied from the nozzle B to the processing chamber U.例文帳に追加

シランガスは、第２のバッファ空間４２ａ２から各第２のガス供給管パーツ２８ｂへ通され、噴射孔Ｂから処理室Ｕに供給される。 - 特許庁

In a region on the interface between the buffer layer 13 and the electron gas layer 14, the end of the conduction band is less than the Fermi energy, and an electron gas can be accumulated.例文帳に追加

バッファ層１３と電子ガス層１４との界面において伝導帯端がフェルミエネルギーを下回る領域には、電子ガス蓄積することができる。 - 特許庁

Further, the battery system has a buffer material 5 having innumerable air gaps to pass the exhaust gas in the exhaust duct 4 and discharges the exhaust gas discharged from the gas exhaust valve 11 passing through the buffer material 5 to the outside of the outer package case 3.例文帳に追加

さらに、バッテリシステムは、排出ダクト４内に、排出ガスを通過できる無数の空隙を有する緩衝材５を設けており、この緩衝材５に通過させてガス排出弁１１から排出される排出ガスを外装ケース３の外部に排出している。 - 特許庁

The generated gas is fed to the inside of the processing chamber 12 through a cooling unit 4, an analyzing unit 48 and a buffer member 54.例文帳に追加

生成ガスは、冷却器４６、分析器４８、バッファ部５４を通して、処理室１２内に供給される。 - 特許庁

A buffer element is formed so as to provide the space inside the intermediate wall 5 as an exhaust gas injection part 6.例文帳に追加

緩衝要素は排ガス噴射部（６）として中間壁（５）の内側の空間を備えるよう形成される。 - 特許庁

To improve silence of a pneumatic buffer by controlling the generation of spouting noise or the like of a working gas.例文帳に追加

作動気体の噴出し音等の発生を抑制して空圧緩衝器の静粛性の向上を図ることである。 - 特許庁

In the sealed gas-insulated switchgear accommodating, such configuration equipment as a bus 6, a circuit breaker 2, and an isolator 3 in a container 1 where an insulation gas 11 is filled, a mixed gas of c-C4F8 (perfluorocyclobutane) and a buffer gas is used as the insulation gas.例文帳に追加

母線６、遮断器２、断路器３等の構成機器を、絶縁性ガス１１を充填した容器１内に収納した密閉型ガス絶縁開閉装置であって、上記絶縁性ガスとしてc −C4F8（パーフルオロシクロブタン）とバッファガスとの混合ガスを用いたものである。 - 特許庁

A permselective membrane (12) which makes the buffer gas permeate, but does not make the hyperpolarization xenon gas permeate is used, a membrane impermeable gas path (15) is provided on the membrane impermeable material side, and a membrane permeable gas path (16) is provided on the membrane permeable material side.例文帳に追加

緩衝用ガスは透過させるが過分極キセノンガスを透過させない選択透過膜（１２）を用い、その膜不透過物側に膜不透過ガス流路（１５）を設け、膜透過物側に膜透過ガス流路（１６）を設ける。 - 特許庁

The vapor-phase process device 1 includes a treatment chamber 4, gas-feeding openings 13-15 as two or more gas inlet units, and a gas-feeding unit (a gas-feeding member 38, a pipe 37, a flow rate control device 36, pipes 33-35, a buffer chambers 23-25).例文帳に追加

気相処理装置１は、処理室４と、複数のガス導入部としてのガス供給口１３〜１５と、ガス供給部（ガス供給部材３８、配管３７、流量制御装置３６、配管３３〜３５、バッファ室２３〜２５）とを備える。 - 特許庁

The feeding place of a gaseous starting material charged inside the first buffer chamber 50 is switched to the second buffer chambers 56a and 56b or the third buffer chamber 60 by purge gas introduced into block points 80a, 80b, 82a, 82b, 84a and 84b.例文帳に追加

第１のバッファ室５０に入った原料ガスは、ブロックポイント８０ａ，８０ｂ、８２ａ，８２ｂ、８４ａ，８４ｂに導入されるパージガスにより、供給先が第２のバッファ室５６ａ，５６ｂ又は第３のバッファ室６０へ切り替えられる。 - 特許庁

The oxidant gas passage groove 36a is communicated with an outlet buffer passage groove 38b, and a plurality of embossments 40b which are a fluid obstacle suppressing movement of the oxidant gas and condensed water are installed in the outlet buffer part 38b.例文帳に追加

酸化剤ガス流路溝３６ａは、出口バッファ部３８ｂに連通するとともに、前記出口バッファ部３８ｂには、酸化剤ガス及び凝縮水の移動を抑制する流体障害部である複数のエンボス４０ｂが設けられる。 - 特許庁

After the atmospheric component flowing into the drive from the vent hole is passed through a first gas adsorption unit, the atmospheric component is introduced into a buffer chamber and further the gas passed through a second adsorption unit from the buffer chamber is introduced into the drive.例文帳に追加

通気孔から流入する大気成分を第１のガス吸着ユニットに通過させた後に、緩衝室へ導入し、さらに緩衝室から第２のガス吸着ユニットを通過させた気体を装置内に導入する。 - 特許庁

An outlet buffer unit communicating with an oxidizer gas outlet communicating hole 30b is disposed downstream of an oxidizer gas flow passage 50 and a drainage communication hole 68, communicating with the outlet buffer unit, to discharge the water generated is formed.例文帳に追加

酸化剤ガス流路５０の下流部位には、酸化剤ガス出口連通孔３０ｂに連通する出口バッファ部が設けられ、前記出口バッファ部に連通して生成水を排出するための排水連通孔６８が形成される。 - 特許庁

The system for measuring the pressure of gas in the area comprises a buffer gas supplying means, a flow passage, through which the buffer gas flows from the supplying means to the processing area, and a pressure transforming device 54, provided so as to be neighbored to the flow passage to measure the pressure of the flow passage.例文帳に追加

区域内のガス圧を測定するシステムであって、緩衝ガス供給手段と、緩衝ガスが供給手段から区域へと流れる供給手段から区域に至るまでの流路と、流路の圧力を測定するため、流路に隣接して設けた圧力変換器５４とを含んでなるシステム。 - 特許庁

In an excimer laser device for injecting a halogen gas, rare gas, and buffer gas into a laser chamber: oscillation stop time is calculated prior to laser oscillation; the amount of injection of the rare gas or the mixed gas of the buffer gas is calculated, based on the calculated oscillation stop time exceeds a prescribed one; and the mixed gas is injected by the calculated amount of injection prior to laser oscillation.例文帳に追加

この発明では、レーザチャンバ内にハロゲンガス、希ガス、バッファガスを注入するエキシマレーザ装置において、レーザ発振前、発振停止時間を算出し、該算出した発振停止時間が所定時間を超えていると、該算出した発振停止時間に基づいて希ガスまたはバッファガスの混合ガスの注入量を算出し、該算出した注入量だけ前記混合ガスをレーザ発振前に注入するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

In an excimer laser device for injecting a halogen gas, rare gas, and buffer gas into a laser chamber: oscillation stop time is calculated prior to laser oscillation; the amount of injection of the rare gas or the mixed gas of the buffer gas is calculated, based on the calculated oscillation stop time exceeds a prescribed one; and the mixed gas is injected by the calculated amount of injection prior to the laser oscillation.例文帳に追加

この発明では、レーザチャンバ内にハロゲンガス、希ガス、バッファガスを注入するエキシマレーザ装置において、レーザ発振前、発振停止時間を算出し、該算出した発振停止時間が所定時間を超えていると、該算出した発振停止時間に基づいて希ガスまたはバッファガスの混合ガスの注入量を算出し、該算出した注入量だけ前記混合ガスをレーザ発振前に注入するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

The opening is blocked by a cap-like lid 233 to form a buffer chamber 237 for introducing the gas into the lid.例文帳に追加

開口をキャップ状の蓋体２３３で塞いで、蓋体の内部にガスを導入するバッファ室２３７を形成する。 - 特許庁

BUFFER COMPOSITION HAVING VOLATILE COMBUSTION PRODUCT USED IN SPECIFICITY DETECTOR FOR GAS PHASE OR VAPOR PHASE ELEMENT例文帳に追加

気相または蒸気相元素特異性検出器で使用するための揮発性燃焼生成物を有するバッファー組成物 - 特許庁

Buffer tanks 51, 52, 53 are connected to the adsorption cylinders 41, 42, 43 through gas valves 31a, 32a, 33a, respectively.例文帳に追加

吸着筒４１，４２，４３にはガスバルブ３１ａ，３２ａ，３３ａを介してバッファタンク５１，５２，５３がそれぞれ接続されている。 - 特許庁

The gas sealing line has an orifice 43 and a check valve 45, and a buffer means 44 provided between the orifice and the check valve.例文帳に追加

ガスシールラインは、オリフィス４３とチェックバルブ４５とを有し、オリフィスとチェックバルブ間にバッファ手段４４が設けられている。 - 特許庁

The buffer space is communicated with the plural discharge holes via a gas supply pipe penetrating through the cooling layer 23, respectively.例文帳に追加

バッファ空間は複数の吐出孔の各々と冷却層２３を貫通するガス供給管を介して連通する。 - 特許庁

The length of each passage of the oxidizer gas passage grooves 38a-38c is established nearly same and an entrance buffer part 34 and an exit buffer part 36 are communicated at both ends.例文帳に追加

酸化剤ガス流路溝３８ａ〜３８ｃは、それぞれの流路長さが略同一長さに設定されるとともに、両端部に入口バッファ部３４と出口バッファ部３６とが連通する。 - 特許庁

The moving contact part is provided with a fixed piston 21 and a buffer cylinder 23 as a gas flow generation means for extinguishing an arc 31, and a space surrounded by them is used as a buffer chamber 25.例文帳に追加

可動接触子部は、アーク３１を消弧せしめるガス流発生手段として、固定ピストン２１とパッファシリンダ２３を設け、これらに囲まれた空間をパッファ室２５とする。 - 特許庁

The first metallic separator 18 is provided with a fuel gas supply communicating hole 24a, which communicates with a fuel gas passage 34 and flows a fuel gas flows in the laminating direction; and an inlet buffer portion 36a connecting the fuel gas passage 34 and the fuel gas supply communicating hole 24a.例文帳に追加

第１金属セパレータ１８には、燃料ガス流路３４に連通し燃料ガスを積層方向に流す燃料ガス供給連通孔２４ａと、前記燃料ガス流路３４と前記燃料ガス供給連通孔２４ａとを連通する入口バッファ部３６ａとが設けられる。 - 特許庁

The first metal separator 18 is provided with: a fuel gas supply communication hole 24a communicating with a fuel gas passage 34 to run a fuel gas in a stacking direction, and an inlet buffer part 36a communicating with the fuel gas passage 34 and the fuel gas supply communication hole 24a.例文帳に追加

第１金属セパレータ１８には、燃料ガス流路３４に連通し燃料ガスを積層方向に流す燃料ガス供給連通孔２４ａと、前記燃料ガス流路３４と前記燃料ガス供給連通孔２４ａとを連通する入口バッファ部３６ａとが設けられる。 - 特許庁

The system also includes a buffer gas channel 42 configured to impede the backflow of the process gas into the bulk solid pump from a system or a process on the downstream side.例文帳に追加

また、このシステムは、例えば下流のシステムまたはプロセスからなどのバルク固体ポンプ中へのプロセスガスの逆流を阻止するように構成されるバッファガス通路４２を含む。 - 特許庁

The method is achieved by laterally injecting buffer gas 5 into an opening provided for allowing the radiation to penetrate and injecting the gas inside the filter structure of a debris filter.例文帳に追加

緩衝ガス５が、放射線を通過させるために設けられる開口部に対して横方向に、デブリフィルタのフィルタ構造の内側に注入されることで達成される。 - 特許庁

At the start of power generation, hydrogen gas of two atmospheric pressure is supplied from the entrance 24 of the fuel passage, and then the nitrogen gas in the fuel supply space is moved to the buffer passage 42.例文帳に追加

発電開始に際しては、２気圧の水素ガスを燃料流路入り口２４から供給して、燃料供給空間の窒素ガスをバッファ流路４２に移動させる。 - 特許庁

A purge gas is supplied from a purge gas supply path 71 to a buffer chamber 7 formed between the peripheral rim part of the container body 2 and the peripheral rim part of the lid member 3.例文帳に追加

また前記容器本体２の周縁部と前記蓋体３の周縁部との間に形成されたバッファ室７にパージガス供給路７１からパージガスを供給する。 - 特許庁

To provide a debris trapping system that allows for a high pressure of a buffer gas in relation to a source gas to enhance the probability that the debris particles are trapped by the system while simultaneously allowing for high transmission of radiation through the system.例文帳に追加

ソース・ガスに対する高圧のバッファ・ガスによるデブリ粒子捕捉確率の向上及び放射の高伝送を可能にするデブリ捕捉システムを提供すること。 - 特許庁

In this gas supply device for supplying a gas (fuel gas, air), in particular, to a combustion device or the like, the buffer tank 2 and a pressure loss element 3 are used, and the pulsation of the gas 10 by the pulsation of a blower 1 can be effectively reduced.例文帳に追加

特に燃焼装置等にガス（燃料ガスや空気など）を供給するガス供給装置において、バッファタンク２と圧損要素３とを使用し、ブロア１の脈動によるガス１０の脈動を効果的に低減できるガス供給装置である。 - 特許庁

This gas supply device for supplying a gas (fuel gas, air and the like) particularly to a combustion device and the like, uses the buffer tank 2 and a pressure loss element 3, and the pulsation of the gas 10 through the pulsation of a blower 1 can be effectively reduced.例文帳に追加

特に燃焼装置等にガス（燃料ガスや空気など）を供給するガス供給装置において、バッファタンク２と圧損要素３とを使用し、ブロア１の脈動によるガス１０の脈動を効果的に低減できるガス供給装置である。 - 特許庁

To provide a laser beam machine, which does not waste purge gas in a sealed flexible light path, does not intrude dust in the atmosphere into the sealed flexible light path, and does not require buffer bellows for pressure adjustment or a gas bag as a buffer means.例文帳に追加

密閉伸縮光路のパージガスを浪費することがなく、大気中の粉塵が密閉伸縮光路内に侵入することがなく、圧力調整用バッファージャバラや、バッファー手段としてのガス袋を必要としないレーザ加工機を得ること。 - 特許庁

The first separator 18 is provided with a pipe member 66 extended to the inside of the oxidizer gas outlet communicating hole 30b from the outlet buffer 54 and draining water staying in the outlet buffer 54 to the oxidizer gas outlet communicating hole 30b.例文帳に追加

第１セパレータ１８には、出口バッファ部５４から酸化剤ガス出口連通孔３０ｂの内部まで延在し、前記出口バッファ部５４に滞留する水を、前記酸化剤ガス出口連通孔３０ｂに排出させるパイプ部材６６が配設される。 - 特許庁