「complex plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ORGANIC METAL COMPLEX, INFRARED LIGHT-ABSORBING FILTER USING THE SAME AND FILTER FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

有機金属錯体、それを用いた赤外線吸収フィルター及びプラズマディスプレイパネル用フィルター - 特許庁

PROTECTING FILM, COMPLEX FOR FORMING PROTECTING FILM, MANUFACTURING METHOD OF ABOVE PROTECTING FILM AND PLASMA DISPLAY PANEL EQUIPPED WITH ABOVE PROTECTING FILM例文帳に追加

保護膜、該保護膜形成用の複合体、該保護膜の製造方法及び該保護膜を備えたプラズマディスプレイパネル - 特許庁

Amplitude information is extracted from a complex waveform of the plasma emission intensity using an envelope follower algorithm.例文帳に追加

包絡線フォロアアルゴリズムを用いて、振幅情報が、プラズマ発光強度の複雑な波形から抽出される。 - 特許庁

a complex molecule that contains both lipids (fats) and carbohydrates (sugars) and is found in the plasma (outer) membrane of many kinds of cells. 例文帳に追加

脂質（脂肪）および炭水化物（糖）の両方を含み、多種の細胞の形質膜（外層）にみられる複合分子。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

The surface treatment of the treated wire 44 is performed using a complex plasma generated around the treated wire 43, the complex plasma being a combination of a DC discharge between the chamber and the treated wire and a dielectric barrier discharge between the treated wire and the plurality of conductors.例文帳に追加

そして、処理ワイヤ４３の周りで発生する、チャンバと被処理ワイヤとの間の直流放電と、被処理ワイヤと複数の導電体との間の誘電体バリア放電とからなる複合プラズマで、被処理ワイヤ４４の表面処理を行う。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is capable of coping with various processing accompanying the microminiaturization and complex structure of a semiconductor device and controlling the distribution of the electromagnetic field of plasma-exciting high frequencies and the distribution of plasma so as to process a wafer uniformly.例文帳に追加

半導体デバイスの微細化、複雑構造に伴った多様な処理に対応し、プラズマ励起高周波の電磁界分布及びプラズマ発生分布を制御して均一処理を可能とするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Preferably, a metal complex in the form of a solid is used by heating and evaporating it in a reaction apparatus containing the plasma atmosphere.例文帳に追加

望ましくは、固体状の金属錯体を、上記プラズマ雰囲気を含む反応装置内で加熱により気化させて用いる。 - 特許庁

The back base board of a plasma display panel is manufactured with a phase forming a complex function sheet 60 to make glaze and barrier rib materials in the shape of a sheet, a phase jetting glue material on a substrate provided between the complex function sheet 60 and the substrate 62, a phase bonding the complex function sheet 60 on the substrate 62, and a phase molding a partition pressurizing the complex function sheet 60.例文帳に追加

グレイズ及び隔壁材料をシート化して複合機能シート６０を形成する段階と、複合機能シート６０と基板６２間の間に設けるグルー材料を基板上に噴射する段階と、複合機能シート６０を基板６２上に接合する段階と、複合機能シート６０を加圧して隔壁を成形する段階とを行ってプラズマディスプレーパネルの背面基板を製造する。 - 特許庁

The method for manufacturing the fine powder of an alloy comprises the steps of: compounding two or more refractory metal elements having a melting point of 1,600°C or higher into a complex metal; melting it in high-temperature plasma containing a reducing gas; and rapidly solidifying the molten complex metal into the powder of the alloy.例文帳に追加

融点が１６００℃以上の２種以上の高融点金属元素が複合化した複合体を、還元性ガスを含む高温プラズマで溶解し、急冷凝固させて合金粉末とする微細合金粉末の製造方法である。 - 特許庁

This complex system of a low-temperature plasma device and a gas engine comprises a low-temperature plasma device 105 reforming a part of methane contained in a fuel gas into hydrogen by a low-temperature plasma chemical reaction to generate a mixed gas containing methane and hydrogen and a gas engine 103 using the mixed gas as a fuel.例文帳に追加

燃料ガス中に含まれるメタンの一部を、低温プラズマ化学反応によって水素に改質し、メタンおよび水素を含む混合ガスを生成する、低温プラズマ装置１０５と、前記混合ガスを燃料として用いるガスエンジン１０３と、を有する低温プラズマ装置とガスエンジンとの複合システムである。 - 特許庁

To provide a discharge plasma treatment method and a device which can control a discharge starting timing of an even glow discharge plasma under a pressure near atmospheric pressure in a plurality of discharge spaces sharing one power source, generate the plasma continuously and stably, and handle a complex treatment in a manufacturing process of a semiconductor device or the like.例文帳に追加

一つの電源を共用して複数の放電空間において、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマの放電開始タイミングを調整し、継続して安定して発生させ、半導体素子の製造工程等における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理方法及び装置の提供。 - 特許庁

To provide a complex plasma surface reforming process by which the surface hardness is enhanced without deteriorating corrosion resistance of austenitic stainless steel and the wear resistance is improved by making a hardened layer deeper; and a process for successively performing the penetration-diffusion of each of carbon and nitrogen by using plasma.例文帳に追加

オーステナト系ステンレス鋼の耐食性を損なわずに表面硬さを高くし、かつ硬化層を深くして耐摩耗性を向上させる複合プラズマ表面改質法および連続的にプラズマにより炭素および窒素の浸透拡散を行う方法の提供。 - 特許庁

Thus, the method can employ the organometallic complex having the ligand of β-diketone, which has been difficult to employ in a conventional method for forming the atomic layer with vapor deposition, and can remove an organic material which has been a problem in employing the organometallic complex, with the oxygen free radicals generated in plasma.例文帳に追加

従来の原子層蒸着方法では使用が困難であったβ−ジケトンの配位子を有する有機金属錯体を使用することができ、しかもこの有機金属錯体の使用時に問題となっていた有機物をプラズマで生成された酸素ラジカルで除去することができる。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for forming an anti-glare layer, which requires a short treatment time and no complex step, a plasma discharge treatment apparatus, and an anti-glare film and an anti-glare low-reflection film formed using the surface treatment method and the plasma discharge treatment apparatus.例文帳に追加

処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁

The diamond is synthesized on the surfaces of substrates 4a, 4b by generating a high frequency discharge plasma while heating and evaporating a metalloporphyrin complex 5 which is oppositely arranged in the vicinity of the surfaces of the substrates.例文帳に追加

基板表面近傍に対向配置した金属ポルフィリン錯体５を加熱し蒸発させながら、高周波放電プラズマを発生させて基板４ａ，４ｂ表面上にダイヤモンドを合成する。 - 特許庁

A high-quality thin film semiconductor (106) is obtained by giving laser crystallization (104) treatment to a silicon film, followed by complex treatment with oxygen plasma (107) and a high-pressure steam heating (108).例文帳に追加

シリコン膜にレーザ結晶化（１０４）を施した後、酸素プラズマ処理（１０７）及び高圧水蒸気熱処理（１０８）の複合処理を行うことで高品質な薄膜半導体（１０６）を得る。 - 特許庁

To provide a plasma display panel along with its manufacturing method, for accurately and efficiently filling phosphor in a discharge cell of a complex structure.例文帳に追加

複雑な構造をもつ放電セルに対して正確かつ効率的に蛍光体の充填を行うことができるプラズマディスプレイパネルの製造方法及びこの製造方法により製造されたプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a slag temperature measuring method in a plasma melting furnace, and its measuring apparatus, capable of accurately and stably measuring the temperature of slag, and that does not require visual confirmation, and is capable of preventing the apparatus from becoming complex or expensive.例文帳に追加

正確な温度を安定して測定可能で、視認の必要もなく、また装置が複雑化及び高額化することのないプラズマ溶融炉におけるスラグ温度計測方法及び該計測装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming the atomic layer of metal oxide comprises generating the free radicals of active oxygen from oxygen, water, and the like, by using plasma, introducing them into a plasma-generating reaction vessel 10, and oxidizing the organometallic complex having the ligand of β-diketone, which has been chemically adsorbed on the substrate 12, by utilizing the free radicals as an oxidant.例文帳に追加

プラズマを用いて酸素や水等から活性酸素ラジカルを生成させ、これをプラズマ発生反応器１０に導入して酸化剤として使用し、基板１２上に化学吸着されたβ−ジケトンの配位子を有する有機金属錯体を酸化させて金属酸化物原子層を形成させる。 - 特許庁

A phlogocyte-originated components of neutrophil, monocyte/ macrophage or the like in serum or plasma such as lactoferrin, myeloperoxidase, granulocytic elastase forming a complex with the LDL oxide existing in the serum or the plasma is measured by an immunological method, and the quantity of the LDL oxide existing in the serum or the plasma is detected based thereon, to thereby diagnose an arteriosclerotic disease.例文帳に追加

血清もしくは血漿中に存在する酸化ＬＤＬと複合体を形成するクラトフエリンまたはミエロペルオキシダーゼまたは顆粒球エラストラーゼなどの血清もしくは血漿中の好中球、単球／マクロファージなどの、炎症細胞由来成分を免疫学的方法により測定し、これに基づいて血清もしくは血漿中に存在する酸化ＬＤＬ量を検知することにより動脈硬化性疾患を診断する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel, utilizing a positive column, of which the structure is not complex, and designing, manufacturing, and driving are relatively simple even if it has a third electrode in a cell in order to lower the discharge starting voltage.例文帳に追加

陽光柱を利用するパネルであって、低電圧で放電を開始させるために第３の電極を設けたセル構造でも、構造が複雑でなく、その設計や製作や駆動の比較的簡単なプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

A process for making oxidizing gas, containing oxygen into plasma and exposing a silicon material in the plasma gas, is provided as another process different from an etching process or a protective film depositing process; and then, a method wherein these processes are repeated sequentially is adopted, whereby an etching arriving surface can be very much smoothed, even when a complex silicon form having level differences is etched.例文帳に追加

酸素を含む酸化性ガスをプラズマ化してシリコン材に曝す工程を、エッチング工程や保護膜を堆積させる工程とは別個の工程として設けた上で、これらの工程を順次繰り返す方法を採用することにより、段差を有する複雑なシリコン成形体であっても、そのエッチング到達面を極めて平滑にすることができる。 - 特許庁

To provide a plasma discharge treatment apparatus with a simple configuration and excellent feature of low cost and good productivity, and without requiring complex operation which can produce a high quality thin film even if there is change in type of the thin film (width of a substrate belt, width of the thin film).例文帳に追加

薄膜の種類（基材幅、成膜幅）の変更があっても、高品質の薄膜が製造可能な、簡易な構成で、複雑な制御を必要としない、コスト的にも、生産性的にも優れたプラズマ放電処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent complex optical film for plasma display from which excellent translucency and visibility can of course be obtained by simplified layer formation, and which has not only an optical characteristic such as anti-reflection property, but also an electromagnetic shielding characteristic.例文帳に追加

簡素化された層構成とすることにより優れた光透過性および視認性が得られるのは勿論、反射防止性等の光学特性と共に電磁波遮断性を併せ持つ、優れたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを提供する。 - 特許庁

To obtain an alumina sintered compact excellent in corrosion resistance to fluoric plasma or gas and easily providing a large-size product or a product having a complex shape, and to provide a method for producing the alumina sintered compact.例文帳に追加

フッ素系プラズマやガスに対する耐食性が良好で大型品や複雑形状品の製造が容易なアルミナ焼結体及びフッ素系プラズマやガスに対する耐食性が良好で大型品や複雑形状品の製造が容易なアルミナ焼結体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The complex can be produced by the method containing that an Au-containing compound is adsorbed by the carbon type carrier, subsequently, the carbon type carrier which adsorbs the Au-containing compound is subjected to plasma treatment and, thereby, the Au-containing compound is converted to Au fine particles.例文帳に追加

該複合体は、炭素系担体に金含有化合物を吸着させ、次いで前記金含有化合物を吸着させた炭素系担体をプラズマ処理することにより、前記金含有化合物を金微粒子に変換させることを含む方法により製造することができる。 - 特許庁

A carbon nanotube is synthesized on the surface of a substrate (4a, 4b) by applying a vacuum deposition method or by generating a high-frequency discharge plasma of low output while heating and evaporating a metal porphyrin complex (5), which is arranged opposite to the surface of the substrate (4a, 4b) in the vicinity of the surface.例文帳に追加

基板（４ａ，４ｂ）表面近傍に対向配置した金属ポルフィリン錯体（５）を加熱し蒸発させながら、真空蒸着法により基板（４ａ，４ｂ）表面上に、または低出力の高周波放電プラズマを発生させて基板（４ａ，４ｂ）表面上にカーボンナノチューブを合成することとする。 - 特許庁

To provide a light-absorbing pigment composition which can impart a function for absorbing light having a specific wavelength to plasma display panels or the like and can inhibit the deposition and coagulation of a photostabilized cyanine-based pigment in an adhesive, to provide a substituted benzenedithiol metal complex suitable for the use, and to provide a photostabilized cyanine-based pigment suitable for the use.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル等に特定波長の光吸収機能を付与することができ、粘着剤中における光安定化シアニン系色素の析出、凝集が抑制された光吸収色素組成物、その用途に適した置換ベンゼンジチオール金属錯体、光安定化シアニン系色素を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma discharge trueing device and fine machining method which can effectively remove the center drifting of a grinding wheel and run-out, perform highly accurate trueing without deformation of the grinding wheel itself, manage with a small capacity power supply facility and small output, make complex control circuits unnecessary and controllers and manufacture and rework consumables such as electrodes with ease.例文帳に追加

砥石の芯ズレや振れを効率よく除去することができ、砥石自体の変形がなく高精度のツルーイングができ、電源設備が小型，小出力で足り、複雑な制御回路や制御装置が不要であり、電極等消耗品の製作／再加工が容易であるプラズマ放電ツルーイング装置と微細加工方法を提供する。 - 特許庁