| 意味 | 例文 |
fine patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
Next, the thin sheet 3 is pulverized to form an intermediate product 4 for a white-base pattern material having fine concave and convex 2 on the surface.例文帳に追加
次に、薄板シート3を粉砕して表面に微細凹凸2を有する白色系の柄材用中間品4を形成する。 - 特許庁
The positions 6 are thereafter engaged with the recess parts 4a of a roll 4, and a fine uneven pattern of the inner surface of the parts 4a is transferred.例文帳に追加
この凸所6は、その後ロール4の凹部4aに嵌まり合い、該凹部4aの内面の細かな凹凸模様が転写される - 特許庁
To provide a method for manufacturing a multilayer wiring board, which enables formation of fine via posts that contribute to obtaining a dense wiring pattern.例文帳に追加
微細なビアポストの形成が可能で密な配線パターンとすることができる多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which can form a fine circuit pattern, and its manufacturing method.例文帳に追加
本発明は、微細な回路パターンを形成することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Thereby a desired upper part dimension and an inter-wiring gap are easily acquired even in the wiring pattern of the fine pitch.例文帳に追加
これにより微細ピッチの配線パタ−ンでも容易に所望の上部寸法と配線間ギャップを確保することが可能となる。 - 特許庁
To provide a resin stamper for imprint with a fine uneven pattern formed at high dimensional accuracy and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
微細な凹凸パターンが高い寸法精度で形成された樹脂製のインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning apparatus using an ink jet head which is so structured as to draw a fine pattern with high accuracy by reducing a droplet in size.例文帳に追加
液滴のサイズを小さくし、パターニング精度の高精細化を可能とする構成のインクジェットヘッドによるパターニング装置である。 - 特許庁
To provide a method of reducing a part which is not etched when an etching film is formed into an extremely fine pattern by patterning through wet etching.例文帳に追加
ウェットエッチングを用いてエッチング被膜を微細なパターンにパターニングする際に、エッチング残りを低減する方法を提供する。 - 特許庁
To attempt to stabilize the quality of a substrate having a fine concavo-convex pattern on a front surface, and to further enable the wall thinning and miniaturation.例文帳に追加
表面に微細な凹凸パターンを有する基板の品質の安定化を図り、さらなる薄型化、小型化も可能とする。 - 特許庁
To provide a method of producing an electrocast product by which a fine pattern formed on a matrix can correctly be transferred to a copper electrocast product.例文帳に追加
母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる電鋳品製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a printed wiring board which has high reliability in heat-resistance and enables fine pattern formation and high-density.例文帳に追加
耐熱信頼性が高く、かつファインパターン形成、高密度化を可能にしたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for precisely and stably forming a thin film pattern which is miniaturized or which uses fine lines.例文帳に追加
細化や細線化が図られた膜パターンを、精度よく安定して形成することができる薄膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of an electronic component capable of effectively and inexpensively forming a fine pitch conductor pattern.例文帳に追加
微細ピッチの導体パターンを効率良く、しかも低コストで形成することができる電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching processing apparatus and an etching processing method for fine-adjusting the etching process conditions so as to attain a desired finished dimension while suppressing variations in the pattern finish dimensions.例文帳に追加
エッチング処理条件を微調整して、パターン完成寸法のばらつきを押さえつつ所望の完成寸法を得る。 - 特許庁
The fine conductive pattern can be formed, the package is miniaturized, the mounting area is reduced and heat radiation characteristics can be improved.例文帳に追加
微細な導電パターンの形成が可能となり、パッケージの小型化および実装面積を低減し放熱特性も向上できる。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern, etc. which curbs circumventing fine powders coming from an end section to a surface of a substrate to be processed.例文帳に追加
被加工基材の端部から表面への微小粉末の回り込みが抑制されるレジストパターン形成方法等の提供。 - 特許庁
To form a Cu film in even deep parts of a fine pattern by cleaning a substrate to be treated with a medium in a supercritical state.例文帳に追加
超臨界状態の媒体を用いた被処理基板のクリーニングにより、微細パターンへのCu膜の埋め込みを可能にする。 - 特許庁
To provide a photosensitive film having a four-layer structure and excellent workability with which a fine electrode pattern with high accuracy can be formed.例文帳に追加
高精度な微細電極パターンの形成が可能で、かつ作業性に優れた4層構成の感光性フィルムの提供。 - 特許庁
CONDUCTIVE INK COMPOSITION, METHOD FOR PRINTING VERY FINE PATTERN USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSLUCENT ELECTROMAGNETIC SHIELD MEMBER例文帳に追加
導電性インキ組成物とそれを用いた微細パターンの印刷方法および透光性電磁波シールド部材の製造方法 - 特許庁
To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加
第1の露光マスクと第2の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁
To accurately form fine pattern wiring and reduce a time for a manufacturing process.例文帳に追加
微細パターンの配線を高精度に形成することを可能とし、かつ製造工程に要する時間を短縮することを可能とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a printed wiring board for stably forming a fine circuit pattern with high accuracy and a high production yield.例文帳に追加
微細な回路パターンを高精度で、かつ、歩留まりよく安定に形成可能なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a semiconductor module with high reliability which reduces defects in soldering even when a wiring pattern is made fine.例文帳に追加
配線パターンを微細化した場合においても、はんだ付けの不良を少なくし、高い信頼性をもった半導体モジュールを得る。 - 特許庁
To provide manufacturing method of a semiconductor device, capable of forming the electrode of a fine isolated pattern with high dimensional accuracy.例文帳に追加
高い寸法精度で微細な孤立パターンの電極を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A white-base thin sheet 3 having fine concave and convex 2 on the surface is formed by a resin compound 1 for manufacturing pattern materials.例文帳に追加
柄材製造用樹脂コンパウンド1を用いて表面に微細凹凸2を有する白色系の薄板シート3を形成する。 - 特許庁
To prevent erosion of a fine pattern when performing tin plating on a film carrier or the like by using an electroless organic sulfonic acid bath or the like.例文帳に追加
無電解の有機スルホン酸浴などを用いて、フィルムキャリヤ等にスズメッキを施す際に、微細パターンの侵食を防止する。 - 特許庁
The resist composition for forming a fine pattern includes an oxime sulfonic acid compound expressed by general formula (1).例文帳に追加
下記一般式(1)で表されるオキシムスルホン酸化合物を含有することを特徴とする微細パターン形成用レジスト組成物。 - 特許庁
To achieve stabilization in the quality of a substrate having a fine uneven pattern on its surface and further achieving the thickness reduction and miniaturization of the substrate.例文帳に追加
表面に微細な凹凸パターンを有する基板の品質の安定化を図り、さらなる薄型化、小型化も可能とする。 - 特許庁
The golf club head 10 has fine bumps 17 having a prescribed height which are formed on the face 11 in a prescribed pattern.例文帳に追加
ゴルフクラブヘッド10は、フェイス面11に、所定の高さを有する微小隆起部17を所定のパターン状に形成する。 - 特許庁
To make the shape observation and dimension inspection of very fine pattern possible in an electron beam inspection device of a scanning electron microscope for example.例文帳に追加
走査形電子顕微鏡などの電子ビーム検査装置において、微細なパターンの形状観察や寸法検査を可能とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a copper polyimide substrate suitable for forming a fine pattern and having a small copper thickness with high productivity.例文帳に追加
微細パタン形成に好適な、銅の厚みが薄い銅ポリイミド基板を高い生産性で製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To form a wiring pattern, excellent in flexibility and improved in fine-pitch and high-aspect features, on a flexible board with a small number of man-hours.例文帳に追加
耐屈曲性に優れファインピッチ化及び高アスペクト化された配線パターンを、小さな工数でフレキシブル基板上に形成する。 - 特許庁
The fine pattern is formed readily, requiring no disposal of waste fluid, the production process is simple, and the cost of equipment and production cost is low.例文帳に追加
ファインパターンの形成が容易で、廃液処理の必要がなく、生産工程が単純で設備費や生産コストが少なくて済む。 - 特許庁
An atomizer 14 jets a liquid pattern material 40 supplied from a raw material supply section 18 as fine grains 12.例文帳に追加
アトマイザー14は、原料供給部18から供給された液体パターン材料40を微粒子12にして吐出する。 - 特許庁
Thus, inspection of loss of the fine pattern, formed on the wafer, can be performed simply and quickly, and in a short time, over a broad range.例文帳に追加
従って、ウエハに形成された微細パターンの欠損の検査を、簡便に短時間で広範囲に実行することが可能となる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a printing plate to achieve a fine pattern by minimizing a variation of etching CD (critical dimension).例文帳に追加
エッチングCD(critical dimension)の変化を最小化して微細パターンを形成することができる印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection tool capable of coping with the fine-pitch tendency of a wiring pattern for an inspection object board easily and being manufactured at low cost.例文帳に追加
被検査基板の配線パターンのファインピッチ化に容易に対応でき且つ低コストで製造可能な検査用治具を実現する。 - 特許庁
To provide a laminate on which a circuit pattern can be formed by the fine pitch, and to provide a printed wiring board using the same.例文帳に追加
回路パターンを良好なファインピッチで形成することができる積層体及びそれを用いたプリント配線板を提供する。 - 特許庁
In this case, a metal pattern 30 will not be formed in an area 31a which is within 75 μm from the center of the fine adjustment alignment target 31.例文帳に追加
微調アライメントターゲット31の中心から75μm以内のエリア31a内には、メタルパターン30を形成しない。 - 特許庁
To provide a method for efficiently forming a superfine isolate resist pattern faithful to the mask pattern and having a favorable cross-sectional form so as to form a resist pattern as fine as 0.15 to 0.22 μm by using a KrF excimer laser.例文帳に追加
KrFエキシマレーザーを用いて0.15〜0.22μmのような微細なレジストパターンを形成するための、マスクパターンに忠実で、断面形状の良好な超微細アイソレートレジストパターンを効率よく形成させる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a relief pattern in which a relief pattern having a fine line width and a large film thickness is efficiently, easily and securely formed with high precision, and to provide a relief pattern stuck base.例文帳に追加
線幅が微細であるとともに、膜厚が大きなレリーフパターンを高い精度で効率よく、簡便かつ確実に形成することができるレリーフパターンの形成方法及びレリーフパターン付着基材を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an electric component which is formed in a fine shape on a substrate and has a conductive pattern with a stable structure where stripping from a base material is suppressed, and to provide a conductive pattern forming method for forming the conductive pattern.例文帳に追加
微細な形状で基材上に形成され、当該基材からの剥離が抑制された安定な構造の導電パターンを有する電気部品と、当該導電パターンを形成する導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern measuring method and apparatus which can prevent variations attributed to measurement while enabling measurement of patterns even when a sample has a complete circuit pattern and a fine pattern width formed thereon.例文帳に追加
本発明は、複雑な回路パターン及び微細なパターン幅が形成された試料であっても、パターンを測定可能としながらも、測定によるバラツキをも防止することのできるパターン測定方法及びパターン測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a thin film pattern for easily forming a fine thin film pattern in a short period of time with high definition, and to provide a device having a thin film pattern obtained by the forming method.例文帳に追加
微細な薄膜パターンを短時間で簡便にしかも高精細に形成することができるようにした薄膜パターンの形成方法と、この形成方法によって得られた薄膜パターンを有してなるデバイスとを提供する。 - 特許庁
To provide a resist pattern forming material capable of giving a high resolution resist pattern adaptable to a fine pattern which is required when a semiconductor device is manufactured by a via first dual damascene method and producing no resist residue.例文帳に追加
ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に要求される微細パターンに対応可能な高解像性のレジストパターンを与えることができ、しかもレジスト残りを生じないレジストパターン形成材料を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition having high adhesion property with a substrate which enables reproduction of a fine pattern even by a wet etching method, and to provide a forming method of a circuit pattern.例文帳に追加
本発明は、基板との密着性が高く、ウェットエッチング法においても微細なパターンを再現することが可能な感光性組成物及び回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an excellent positive resist composition excellent in line edge roughness and giving a pattern prevented from falling, particularly a fine pattern free of falling even when focus or exposure is varied.例文帳に追加
ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition excellent in storage stability and capable of forming a high-definition baked product pattern without deteriorating developability even in the formation of a fine pattern.例文帳に追加
保存安定性に優れると共に、微細パターンの形成に際しても現像性を低下させることなく、高精細な焼成物パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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