「fluorine processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a nonviscous and flexible laminate which has an elastic layer made of heat-resistant rubber, a primer layer which is easy to coat and suppresses thermal deterioration of the elastic layer during processing, and a release layer made of fluorine-based resin, a fixing member using the same, a fixing device, and an image forming apparatus.例文帳に追加

耐熱性ゴムで構成される弾性層と、塗工作業性が容易且つ加工時に弾性層の熱劣化を抑制するプライマー層と、フッ素系樹脂で構成される離型層とを備えた非粘着性及び柔軟性を有する積層体、これを用いた定着部材、定着装置、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The organic electroluminescence element is fabricated through such procedures that a transparent metal oxide film consisting of indium-tin oxide is laminated on a glass base board and that the metal oxide is subjected to a plasma surface processing using oxygen where the fluorine content is below 1 wt.%, and thereby an anode layer 10 is formed.例文帳に追加

ガラス基板上にインジウム錫酸化物から成る透明性金属酸化物膜を積層した後に、この金属酸化物に対してフッ素含有量を１重量％以下とする酸素を用いたプラズマ表面処理を施して形成した陽極層１０を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。 - 特許庁

In the rear surface W2 of a wafer W, a portion other than the rear side of a street S formed in the front surface W1 is coated with a resist film R, and a portion which is not covered with the resist film R is etched to divide to individual devices D from a rear surface to a front surface by fluorine system stable gas which is subjected to plasma processing.例文帳に追加

ウェーハＷの裏面Ｗ２のうち、表面Ｗ１に形成されたストリートＳの裏側以外の部分にレジスト膜Ｒを被覆し、レジスト膜Ｒが被覆されていない部分について、プラズマ化したフッ素系安定ガスにより裏面から表面にかけてエッチングして個々のデバイスＤに分割する。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus, which performs prescribed treatment on a wafer W, is provided with a treating section 10 which performs etching on the wafer W, another treating section 27 which supplies a fluorine- based inert liquid, isopropyl alcohol(IPA) which is an organic solvent, and a processing solution containing hydrofluoric acid to the wafer W set up in the treating section 10.例文帳に追加

ウエハＷに所定の処理を行う基板処理装置において、ウエハＷにエッチング処理を行うための処理部１０と、処理部１０にあるウエハＷにフッ素系不活性液体、有機溶媒であるイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）及びフッ酸を含む処理液を供給する処理部２７と、を備える。 - 特許庁

When an opening method by a laser processing technique is used, the water-repellent layer 11 is formed by substituting the hydrogen atom on the wall face of the opening part 10 and the surface of the plastic material part for fluorine atom to realize an excellent release property for the printing materials on the side to be in direct contact with a matter to be printed.例文帳に追加

またレーザー加工技術による開口法を用いた場合には、プラスチック材料部の開口部１０壁面及び表面の水素原子をフッ素原子に置換することにより撥水性層１１を形成し、直接被印刷物に接する側での印刷材料に対する良好な抜け性を実現する。 - 特許庁

Since the vulcanized article obtained from the fluorine rubber composition exhibits excellent effects such as heat conductivity, heat resistance, durability, mold-processing (non-adhesive) property, etc., in a good balance, the rubber layer singly can be used as the cushioning material for the press-molding effectively.例文帳に追加

このフッ素ゴム組成物から得られる加硫成形品は、成形プレス用クッション材に要求されるクッション性、熱伝導性、耐熱性、耐久性、成形加工(非粘着)性等をバランスよく満足させるといった優れた効果を奏するので、ゴム層単独で、成形プレス用クッション材として有効に用いることができる。 - 特許庁

In this acrylic elastomer composition, by using 2-30 pts.wt. liquid paraffin, silicone oil or fluorine oil per 100 pts.wt. acrylic elastomer, the extrudability and the roll moldability can be improved without reducing the inherent heat resistance of the acrylic elastomer, and consequently the ratio of other lubricants (processing aids) used such as stearic acid can be reduced.例文帳に追加

このアクリル系エラストマー組成物にあっては、流動パラフィン、シリコーンオイルまたはふっ素オイルをアクリル系エラストマー100重量部当り2〜30重量部用いることにより、アクリル系ゴム本来の耐熱性を低下させることなく、押出し性およびロール加工性を改善せしめることができ、このためステアリン酸等の他の滑剤(加工助剤)の使用割合を減らすことができる。 - 特許庁

The method is comprised of contacting the equipment surfaces in the semiconductor material processing chamber with a proton donor containing an atmosphere to make it react with the porogen deposited on the equipment surfaces; contacting the equipment surfaces with a fluorine donor containing atmosphere, to make it react with the thin film deposited on the equipment surfaces.例文帳に追加

半導体材料処理室の装置表面をプロトン供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられたポロゲンと反応させることと、装置表面をフッ素供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられた薄膜と反応させることとを含んでなるように構成する。 - 特許庁

The application apparatus 10 is provided with a valve part 14 supplying the coloring material and a nozzle 12 being attachable and detachable for the valve part 14 and sticking the coloring material to an optical disk substrate surface, a discharge pipe 12a having a small diameter is formed at a discharge tip part of the nozzle 12, a fluorine processing member 11 covers an outer periphery of the discharge pipe 12a.例文帳に追加

本発明に係る塗布装置１０は、色素材料を供給するバルブ部１４と、バルブ部１４に着脱可能で、色素材料を光ディスク基板表面に付着させるノズル１２とを備え、ノズル１２の吐出先端部に小径の吐出管１２ａが形成され、該吐出管１２aの外周にフッ素加工部材１１が被覆されている。 - 特許庁

The method is constituted so that it may include a process of putting the equipment surface in the semiconductor material processing chamber into contact with an atmosphere including a proton donor, and causing it to react with the porogen deposited on the equipment surface, and a process of putting the equipment surface into contact with an atmosphere including a fluorine donor, and causing it to react with a thin film deposited on the equipment surface.例文帳に追加

半導体材料処理室の装置表面をプロトン供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられたポロゲンと反応させることと、装置表面をフッ素供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられた薄膜と反応させることとを含んでなるように構成する。 - 特許庁

A very small amount of a first gas containing fluorine atoms in molecules and having a function to remove a dopant and a second gas restraining the first gas from corroding the surface of a wafer as an object of processing are added to an oxygen gas for obtaining a reactive gas to use, and the above reactive gas is excited into high-density plasma to remove an ashing retardant resist film by ashing.例文帳に追加

酸素ガスに、分子中にフッ素を含有し、前記ドーパントを除去する作用を有する第１のガス微量加えるとともに、前記第１のガスの非処理体であるウェハ表面に対する腐食を抑制する第２のガスを加えたものを反応ガスとして用い、高密度プラズマを励起して難灰化性レジスト膜を灰化・除去する。 - 特許庁

In an exemplary embodiment, the present method includes the steps of preparing a polymer resin to be processed; blending particulate boron nitride (BN) and a fluorine-containing polymer with the polymer resin to prepare a resin blend; heating the resin blend to obtain a desired flowability value; and processing the resin blend into a desired shape.例文帳に追加

例示的実施形態においては、加工されるポリマー樹脂を準備するステップ、粒状窒化ホウ素（BN）およびフッ素含有ポリマーを上記ポリマー樹脂とブレンディングして樹脂ブレンドを準備するステップ、上記樹脂ブレンドを加熱して所望の流動性の値を得るステップ、および上記樹脂ブレンドを所望の形状に加工するステップからなる。 - 特許庁

On the surface of a nozzle plate 21 previously subjected to surface roughening (oxygen plasma processing or sand blasting) to have a surface roughness (Ra) of 0.01-0.1, a plasma polymerization film having a thickness of 0.5 μm or less is formed by plasma CVD using a compound containing fluorine or silane as a material and then it is coated with fluororesin to form an ink repellent film.例文帳に追加

予め粗面化処理（酸素プラズマ処理又はサンドブラスト処理）により表面粗さ（Ｒａ）０．０１〜０．１とされたノズルプレート２１表面に、フッ素含有化合物又はシラン化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法により０．５μｍ以下のプラズマ重合膜を形成し、その皮膜上にフッ素樹脂を塗布し、撥インク膜を形成する。 - 特許庁

The processing base material having a water-repellant region on the surface of the base material is provided, wherein the water-repellant region comprises a water-repellant film obtained by curing a curable composition comprising a hydrolysis condensation product of a hydrolyzable silane compound, which contains a hydrolyzable silane compound comprising a silicon atom bonded with a fluorine-containing organic group and three hydrolyzable groups, with a compound having (meth)acryloyl group.例文帳に追加

基材の表面に撥水性領域のパターンを有する処理基材であって、撥水性領域は、ケイ素原子に１個の含フッ素有機基と３個の加水分解性基が結合した加水分解性シラン化合物を含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物と（メタ）アクリロイル基を有する化合物とを含む硬化性組成物を硬化させた撥水性硬化膜からなる。 - 特許庁