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fluorine processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 119件
REMOVING AGENT OF FLUORINE AND PHOSPHORUS AND PROCESSING METHOD FOR REMOVING FLUORINE AND PHOSPHORUS例文帳に追加
フッ素およびリンの除去剤および除去処理方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD OF FLUORINE ADDED CARBON FILM例文帳に追加
フッ素添加カーボン膜の処理方法 - 特許庁
FLUORINE-CONTAINING FIBER PROCESSING AGENT HAVING SOIL RELEASE PROPERTY例文帳に追加
汚れ脱離性を有する含フッ素繊維加工剤 - 特許庁
METHOD OF REMOVING FLUORINE FROM PROCESSING LIQUID USED IN WET ZINC SMELTING例文帳に追加
湿式亜鉛製錬用工程液からフッ素を除去する方法 - 特許庁
To provide a fluorine gas supply system with which fluorine gas generated by a fluorine gas generator is stably supplied in a large amount to a semiconductor processing device in a precise concentration.例文帳に追加
フッ素ガス発生装置で発生させたフッ素ガスを半導体処理装置に、安定、大量かつ精密な濃度で供給可能なフッ素ガスの供給システムを提供する。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING PURIFIED FLUORINE-CONTAINING POLYMER, PELLICLE AND EXPOSURE PROCESSING METHOD例文帳に追加
精製された含フッ素重合体の製造方法、ペリクルおよび露光処理方法 - 特許庁
FLUORINE FIXING AGENT, PERFLUOROCARBON DECOMPOSITION PROCESSING AGENT, AND METHOD FOR PREPARING THE SAME例文帳に追加
フッ素固定剤及びPFC分解処理剤並びにこれらの調製方法 - 特許庁
A fluorine-contg. waste water is continuously introduced into the reaction tank 1, and a calcium soln. is added at the same time as a fluorine processing agent.例文帳に追加
反応槽1には、フッ素含有排水が連続的に投入され、同時にフッ素処理剤としてカルシウム溶液を添加する。 - 特許庁
The water vapor is decomposed into hydrogen and oxygen in a plasma processing, which combines with fluorine of decomposed fluorine gas to generate hydrogen fluoride.例文帳に追加
プラズマ処理によって水蒸気は水素と酸素とに分解され、分解されたフッ素系ガスのフッ素と結合しフッ化水素を生成する。 - 特許庁
This method for treating fluorine-containing waste water comprises a step to bring the fluorine-containing waste water as the water to be treated into contact with calcium carbonate as a processing agent to adsorb fluorine contained in the water to be treated on the processing agent so that the concentration of the fluorine in the water to be treated is lowered.例文帳に追加
被処理水としてのフッ素含有排水を、処理剤としての炭酸カルシウムと接触させて、前記被処理水中のフッ素を前記処理剤に吸着させることにより、前記被処理水中のフッ素濃度を低下させるフッ素含有排水の処理方法である。 - 特許庁
An activated carbon made by plasma-processing a fluorine compound can attain the above purpose.例文帳に追加
含フッ素化合物プラズマ処理してなる活性炭により上記課題を達成することができる。 - 特許庁
Consequently, the fluorine-based gas is used as the cleaning gas when the inside of the processing container is cleaned.例文帳に追加
これにより、処理容器内をクリーニング処理するに際して、クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用する。 - 特許庁
To recover fluorine as synthetic fluorite having purity of not less than 97% and an average particle diameter of 5 to 100 μm by processing a fluorine-containing waste water containing hydrofluorosilicic acid.例文帳に追加
珪弗化水素酸を含む弗素含有排水を処理して、弗素を、純度97%以上かつ平均粒径5〜100μmの合成蛍石として回収する。 - 特許庁
To provide oil-resistant paper which can develop an oil-resistant performance only by an on-machine size press processing without using a fluorine-based oil-resistant agent.例文帳に追加
フッ素系耐油剤を用いずに、オンマシンサイズプレス加工だけで耐油性能を発現できる耐油紙の提供。 - 特許庁
SILICATE GLASS LOADED WITH STABLE FLUORINE AND DISTRIBUTION OF IMPROVED PROCESSING GAS USED FOR FORMING OTHER FILM例文帳に追加
安定性のあるフッ素が添加されたケイ酸塩ガラスおよび他の膜を形成するための改良形プロセスガス分配 - 特許庁
In the microphone of this invention, an insulator, or an insulator to which especially silicon fusion film processing (especially glass fusion film processing) or fluorine fusion film processing is applied is especially preferred.例文帳に追加
本発明のマイクロホンにおいて、絶縁体、特にシリコン融着皮膜処理(とりわけガラス融着皮膜処理)又はフッ素融着皮膜処理を施した絶縁体を設けたものは好適である。 - 特許庁
To provide a method for effectively utilizing a processed soil generated when an eluted amount of fluorine contained in a soil is reduced by processing the soil containing fluorine.例文帳に追加
本発明は、フッ素含有土壌を処理することにより土壌中に含まれるフッ素の溶出量を低減する際に生成する処理土壌を有効に利用する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for treating a fluorine selective separation agent and a fluorine-containing compound capable of absorbing in dry condition halogen dissociated from a vaporized halogen-containing compound in a processing agent on site and more selectively increasing a fixed amount of fluorine than in a conventional art so as to selectively separate fluorine from a fluorine-containing compound under dry and low-temperature conditions of less than 800°C.例文帳に追加
乾式で、かつ800℃未満の低温条件で含フッ素化合物からフッ素を高効率に選択分離するべく、気化した含ハロゲン化合物から解離したハロゲンを反応処理剤にオンサイトで乾式吸収を可能とし、フッ素の固定化量を従来のものよりも選択的に高くすることができるフッ素選択分離剤及び含フッ素化合物の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cleaning method for reducing damages of a member in a substrate processing vessel due to fluorine radicals by adopting conditions of formation of F_2 through recombination of the fluorine radicals.例文帳に追加
Fラジカルを用いたクリーニングにおいてFラジカルが再結合してF_2を形成する条件を用いることにより、Fラジカルによる基板処理容器内の部材のダメージを低減したクリーニングを行う。 - 特許庁
This processing apparatus uses plasma, and includes a protective layer containing a fluorine-containing elastomer in the whole or a part of a surface exposed to plasma in the processing apparatus.例文帳に追加
プラズマを使用する処理装置であって、該処理装置内のプラズマに曝される表面の全部または一部に含フッ素エラストマーを含む保護層を有する処理装置。 - 特許庁
The tool for friction stir processing for titanium or a titanium alloy is obtained by subjecting the surface of a tool for friction stir processing composed of a nickel alloy to surface treatment by fluorine ion implantation.例文帳に追加
、ニッケル合金からなる摩擦攪拌加工用ツールの表面を、ふっ素イオン注入により表面処理してなるチタンまたはチタン合金用の摩擦攪拌加工用ツール。 - 特許庁
Removing process is progressed through reaction of cleaning gas plasma (F*: fluorine radical) and a deposited substance within the processing chamber 1 (substance to be cleaned).例文帳に追加
クリーニングガスのプラズマ(F*:フッ素ラジカル)と処理チャンバ1内の堆積物(被クリーニング物)とが反応して除去処理が進行する。 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD, GAS GENERATING DEVICE AND METHOD, AND FLUORINE-CONTAINED POLYMER WASTE DISPOSAL METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法、並びに、フッ素含有高分子廃棄物処理方法 - 特許庁
The analyzer includes a control device for performing the processing in the weighing, distillation, neutralization and fluorine concentration measurement means, in the order of weighing, distillation, neutralization and fluorine concentration measurement means.例文帳に追加
そして、計量手段、蒸留手段、中和手段、及び、フッ素濃度測定手段における処理を行わせ、且つ、計量手段、蒸留手段、中和手段、フッ素濃度測定手段の順に行わせる制御装置を備える。 - 特許庁
To provide an improved wafer processing apparatus that exhibits excellent resistance to fluorine etching, less backside particle generation, and less contamination of the wafer process.例文帳に追加
フッ素エッチング耐性に優れ、裏側粒子発生が低減し、かつウェーハプロセスの汚染の少ない改良型ウェーハ加工装置の提供。 - 特許庁
This method for processing a leather sheet for gloves or the like is characterized by subjecting a tanned leather sheet to a coloring treatment, an oiling treatment and a water-repelling treatment using a fluorine-based water repellant at a temperature of 28 to 40°C.例文帳に追加
皮なめしした革シートを、着色し、オイル処理し、フッ素系の発水剤にて28〜40℃で発水処理する。 - 特許庁
To provide a processing method of combustion ash which reduces the amount of elution of fluorine or boron included in the combustion ash to the environmental standard value or less.例文帳に追加
燃焼灰中に含まれるフッ素やホウ素の溶出量を、環境基準値以下とする燃焼灰の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical vapor deposition method for depositing a tungsten film on a substrate arranged in a substrate processing chamber while preventing fluorine contamination.例文帳に追加
基板処理チャンバに配置される基板上にフッ素汚染を防止しながらタングステン膜を堆積させるための化学気相成長法。 - 特許庁
The -OH group can be bonded to the surface of the thin insulating film 2 by gas phase processing using fluorine gas (F) and oxygen gas (O2).例文帳に追加
絶縁薄膜2表面への─OH基の結合は、フッ素ガス(F)と酸素ガス(O_2)とによる気相処理を施すことで可能である。 - 特許庁
Fluorine laser, having two oscillation lines originally, is also subjected to single-line processing by means of the lenses 14a, 14b and the pinhole plate 17.例文帳に追加
レンズ14a、14bとピンホール板17によって、本来2本の発振ラインを有するフッ素レーザのシングルライン化も行っている。 - 特許庁
To provide a method for easily manufacturing an ethylene/tetrafluoroethylene based fluorine-containing copolymer powder having sufficient molding processing properties in which generation of an angular/mustache-shaped particle is suppressed regardless of a kind of the ethylene/tetrafluoroethylene based fluorine-containing copolymer, and a porous ethylene/tetrafluoroethylene based fluorine-containing copolymer powder having sufficient molding processing properties obtained by this.例文帳に追加
角状・ヒゲ状の粒子の発生が抑制された良好な成形加工性を有するエチレン/テトラフルオロエチレン系含フッ素共重合体粉体を、エチレン/テトラフルオロエチレン系含フッ素共重合体の種類を問わずに簡便に製造する方法、およびこれにより得られる良好な成形加工性を有する多孔性エチレン/テトラフルオロエチレン系含フッ素共重合体粉体を提供する。 - 特許庁
As the adhesion force reducing processing, for example, the surface contacting with the nip forming member 25 is composed of a fluorine-series material or a silicon-series material.例文帳に追加
付着力低減処理として、例えば、ニップ形成部材25との接触面を、フッ素系材料又はシリコン系材料で構成した。 - 特許庁
A processing gas containing a fluorine-based reactive component is brought into contact with an object to be processed 90 to etch the silicon-containing film 93 on the base film 92.例文帳に追加
フッ素系反応成分を含む処理ガスを被処理物90に接触させ、下地膜92上のシリコン含有膜93をエッチングする。 - 特許庁
To provide a more compact, economical fluorine module laser system which emits a beam around 157 nm having a power and a narrow band width necessary for application processing.例文帳に追加
アプリケーション工程に必要なパワーと狭い帯域幅を有し、小型で経済的な約157nmビームを放出するフッ素分子レーザシステムを提供する。 - 特許庁
Fluorine addition or dry lube addition which is coating processing can be applied to the surface of the grip part 142 using the EVOH material.例文帳に追加
さらに、EVOH材を用いたグリップ部142の表面に、被覆加工であるフッ素添加又はドライルーブ添加などを施すことができる。 - 特許庁
The substrate-processing equipment performs a detour-preventing processing, by supplying a first processing liquid toward the surface of a substrate W and therewith performs a film-removing processing, by supplying a second processing liquid toward the back face of the substrate W, where a fluorine-based inert liquid and a hydrofluoric acid aqueous solution, which are mutually insoluble, are used as the first and second processing liquids.例文帳に追加
基板Wの表面に向けて第1処理液を供給して回込防止処理を行うとともに、基板の裏面に向けて第2処理液を供給して膜除去処理を行う基板処理装置において、第1および第2処理液として、互いに難溶性のフッ素系不活性液体およびフッ酸水溶液を用いている。 - 特許庁
This water repellent composition for the foam-processing of the hydrophobic fibrous product consists of (A) a dispersion of a fluorine- containing polymer, (B) a foaming agent and (C) a penetrating agent as essential components.例文帳に追加
(A)含フッ素重合体の分散液、(B)起泡剤、および(C)浸透剤を必須成分とする疎水性繊維製品の泡加工用撥水剤組成物。 - 特許庁
The hydrofluoric acid vapor supplied into the processing chamber C1 is dissolved into the deionized water on the substrate W, and the liquid film of the deionized water changes to a fluorine acid liquid film.例文帳に追加
処理室C1内に供給されたフッ酸の蒸気は、基板W上の純水に溶け込んでいき、純水の液膜がフッ酸の液膜に変化する。 - 特許庁
In the imprinting method after depositing a carbon film on the pattern front surface of a mold wherein an uneven pattern is formed, a release layer is formed by fluorine plasma processing.例文帳に追加
インプリント法において、凹凸パターンを形成したモールドのパターン表面に炭素膜を成膜した後、フッ素プラズマ処理により離型層を形成する。 - 特許庁
After etching for the island-like processing of a semiconductor layer 4 and an ohmic layer 5, ashing is performed by using mixed gas composed of gas containing fluorine elements and oxygen gas.例文帳に追加
半導体層4とオーミック層5の島状加工のエッチング後に、弗素元素を含んだガスと酸素ガスとを含む混合ガスを用いてアッシングを行う。 - 特許庁
The activated carbon can be obtained by conducting a low-temperature fluorine compound plasma processing to an activated carbon obtained by carbonizing and activating a carbonaceous material.例文帳に追加
かかる活性炭は、炭素質材料を炭化し賦活して得た活性炭を低温フッ素化合物プラズマ処理することによって得ることができる。 - 特許庁
To develop a coating and processing method of a fluorine-based compound by which the processing on site can be done and which solves the problem that the processing on site is unstable and can not be easily processed owing to the characteristics of the liquid coating agent because it has a very unique structure.例文帳に追加
本フッ素系化合物におけるコーティング加工は、液剤の特性が非常に特殊な構造を有するコーティング剤であるため、現場での加工が不安定且つ容易にできなかったものを、コーティング施工が可能な工法を開発すること。 - 特許庁
The impurity removing apparatus includes a first processing device 21 which removes fluorine and a fluorine compound mixed with a noble gas discharged from an excimer laser oscillation device 10, a second processing device 23 which removes oxygen generated by the first processing device, and a circulation device 25 which circulates the noble gas discharged from the excimer laser oscillation device 10 and returns it to the excimer laser oscillation device 10.例文帳に追加
不純物除去装置は、エキシマレーザー発振装置10から排出される希ガスに混合したフッ素およびフッ素化合物を除去する第1の処理装置21と、第1の処理装置で生成する酸素を除去する第2の処理装置23と、エキシマレーザー発振装置10から排出される希ガスを循環させ、エキシマレーザー発振装置10に戻す循環装置25とを備える。 - 特許庁
The method for processing a fluorine added carbon film formed on a substrate to be processed comprises a step for dissociating hydrogen gas to form hydrogen radicals, and a step for exposing the fluorine added carbon film to hydrogen radicals.例文帳に追加
被処理基板上に形成されたフッ素添加カーボン膜の処理方法であって、水素ガスを解離して水素ラジカルを形成する工程と、前記フッ素添加カーボン膜を前記水素ラジカルに曝す工程とを含むことを特徴とするフッ素添加カーボン膜の処理方法。 - 特許庁
The plasma processing section is provided with a linear opening 16b for blowing out fluorine based plasma gas, and a diffuser 35 for widening the irradiation width of the linear opening.例文帳に追加
プラズマ処理部は、プラズマ化したフッ素系ガスを吹き出すライン状の吹き出し口16bを備えており、吹き出し口の照射幅を広げる拡散板35を備える。 - 特許庁
To provide a fluorine rubber composition used as a cushioning material for a press-molding, excellent in cushioning property, heat conductivity, heat resistance, durability, mold-processing property, etc.例文帳に追加
クッション性、熱伝導性、耐熱性、耐久性、成形加工(非粘着)性等にすぐれた成形プレス用クッション材に用いられるフッ素ゴム組成物を提供する。 - 特許庁
Otherwise, after depositing a carbon film on the compression-bonding side of a mold support substrate and forming an uneven pattern in this carbon film, a release layer is formed by fluorine plasma processing.例文帳に追加
あるいはモールド支持基板の圧着面に炭素膜を成膜し、この炭素膜に凹凸パターンを形成した後、フッ素プラズマ処理により離型層を形成する。 - 特許庁
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