「laser-etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD AND APPARATUS FOR LASER BEAM ETCHING例文帳に追加

レーザエッチング方法及びレーザエッチング装置 - 特許庁

Dot deformation by etching is prevented by elimination of etching or laser marking work after etching.例文帳に追加

エッチングの省略、又はエッチング後のレーザマーキング加工により、エッチングによるドット変形が防止される。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR LASER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体レーザとその製造方法およびエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR JOINING LASER OPTICAL CRYSTAL USING ION BEAM ETCHING例文帳に追加

イオンビームエッチングを用いたレーザー光学結晶の接合法 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR TRANSPARENT ELECTRODE OF TOUCH SCREEN USING LASER例文帳に追加

レーザーを用いたタッチスクリーンの透明電極の蝕刻方法 - 特許庁

A bonding plane of a polytetrafluoroethylene part of the composite is etched (chemical etching, electron beam etching, laser etching, or plasma etching), before an uncured mixed material is coated thereto.例文帳に追加

未硬化混合材の塗布前に、コンポジットのポリテトラフルオロエチレン部分の結合面をエッチング（化学的エッチング、電子-ビームエッチング、レーザーエッチング、又はプラズマエッチング）する。 - 特許庁

TRANSFER MATERIAL FOR LASER ETCHING, AND MANUFACTURING METHOD FOR MULTI-COLOR MOLDED ARTICLE例文帳に追加

レーザエッチング用転写材と多色成形品の製造方法 - 特許庁

At this time, mold molding, etching or a laser ablating method is used.例文帳に追加

そのとき、モールド成形、エッチング又はレーザーアブレーション法を用いる。 - 特許庁

The wet-etching method which etches an object using an etching liquid irradiates a laser beam to the object in etching.例文帳に追加

エッチング液を使用して対象物をエッチングするウエットエッチング方法において、エッチング中に対象物にレーザ光を照射する。 - 特許庁

An etching residue produced on a crystal piece formed in a crystal wafer by an etching technique, in particular, wet etching is removed by picosecond laser being a pulse laser.例文帳に追加

エッチング技術により、特にウェットエッチングによって水晶ウェハに形成される水晶片に生じたエッチング残りをパルスレーザであるピコ秒レーザによって除去する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING LASER MARKED DISK-LIKE MEMBER例文帳に追加

レーザマークがされた円板状部材のエッチング方法及びその装置 - 特許庁

TRANSFER MATERIAL FOR LASER ETCHING, AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTICOLOR MOLDED ARTICLE例文帳に追加

レーザエッチング用転写材および多色成形品の製造方法 - 特許庁

The thickness of the etching stop layer 15 in the infrared layer is different from that of the etching stop layer 15 in the red laser.例文帳に追加

赤外レーザのエッチングストップ層１５の厚さと赤色レーザのエッチングストップ層１５の厚さとは異なる。 - 特許庁

To provide a laser beam etching method and a laser beam etching apparatus capable of etching without adhering a byproduct around an etching position and finely etching a material of IC, diode device, etc., when etching an object to be worked of an inorganic material.例文帳に追加

無機材料からなる被加工物のレーザエッチングにおいて、エッチング位置周辺に加工副産物が付着しないように加工することができ、さらにはマイクロマシン、またはＩＣおよびダイオードデバイス等の材料を微細加工することができるレーザエッチング方法及びレーザエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The perforation line or the groove is formed by, for example, a laser or etching.例文帳に追加

ミシン目または溝は、例えばレーザーまたはエッチングにより形成される。 - 特許庁

The groove 12 can be also formed by means of laser processing or etching.例文帳に追加

溝１２は、レーザ加工や、エッチングなどによって形成することもできる。 - 特許庁

In order to raise accuracy of the dimension of the beam by vertical etching, a guiding hole for etching is opened by a laser or the like.例文帳に追加

また垂直エッチによりハリ寸法の精度を上げるため、レーザー等によるエッチング先導孔を開ける。 - 特許庁

The material is removed by lapping and polishing, chemical etching, plasma etching, or laser abrasion, for example.例文帳に追加

この材料の除去は、例えば、ラッピング及び研磨、化学的エッチング、プラズマエッチングまたはレーザアブレーションによって行う。 - 特許庁

The groove for bending is formed by stamping, etching, or laser processing.例文帳に追加

また、折曲用溝はプレス加工、エッチング加工またはレーザ加工で形成する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR LASER, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, AND METHOD OF ETCHING例文帳に追加

半導体装置、半導体レーザ及びその製造方法並びにエッチング方法 - 特許庁

To provide a device for laser machining with which a laser etching work for a metal electrode is carried out with an excellent cutting quality by precisely shaping the form of a laser beam.例文帳に追加

レーザビームを良好に整形して、金属電極のレーザエッチング加工が切れ味良く実施できるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

A prescribed laser beam is irradiated toward a wafer 6 immersed in the etching liquid 8 by the laser transmitter 1.例文帳に追加

レーザ発信器１によりエッチング液８に浸漬されたウェハ６に向けて所定のレーザ光線が照射される。 - 特許庁

An etching mask 101 for the semiconductor ring laser gyro is formed as shown in figure (A).例文帳に追加

（Ａ）に示す様に、半導体リングレーザジャイロのエッチングマスク１０１を形成する。 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT例文帳に追加

ドライエッチング方法およびドライエッチングシステム、並びに半導体レーザ素子製造方法 - 特許庁

Thereafter, etching by a laser beam 11 is carried out to form a cavity part 20.例文帳に追加

その後、レーザビーム１１によるエッチングを行うことで、キャビティ部２０を形成する。 - 特許庁

The etching mask consists of a light-absorbing layer made of a material absorbing a laser beam.例文帳に追加

エッチングマスクは、レーザビームを吸収する材料からなる光吸収層からなる。 - 特許庁

ETCHING METHOD AND DEVICE STIMULATED BY LASER BEAM AND USING PROXIMITY FIELD OPTICAL PROBE例文帳に追加

近接場光プローブを用いたレーザ光励起エッチング加工装置及び加工方法 - 特許庁

The removal of the semiconductor layer is conducted by laser and wet etching.例文帳に追加

上記における半導体層の除去はレーザーと湿式エッチングにより行われる。 - 特許庁

A process modified layer generated in the mark of a wafer in a laser marking process is completely removed by etching in a dry-etching process 1.例文帳に追加

レーザマーキング工程１０３で生じたウエハのマーク内の加工変質層をドライエッチング工程１で完全にエッチング除去する。 - 特許庁

The third stage is performed by a wet etching process, and the fourth stage is performed by laser beam work or reactive ion etching.例文帳に追加

第３段階は湿式蝕刻工程によりなされ、第４の段階はレーザービーム加工または反応性イオン蝕刻によりなされる。 - 特許庁

An etching groove is formed by laser-etching only the semiconductor layer 11 and an element separation groove 17 is formed by cleaving the semiconductor layer 11 with the etching groove as a trigger.例文帳に追加

半導体層１１のみをレーザエッチングしてエッチング溝を形成し、このエッチング溝をトリガーとして半導体層１１を劈開することにより素子分離溝１７を形成する。 - 特許庁

This method for etching the resin film, characterized by irradiating laser light before the etching and/or during the etching.例文帳に追加

本発明のエッチング方法は、樹脂膜をエッチングするに際し、該エッチング前および該エッチング中の少なくとも一方において、レーザーを照射することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a method for precisely etching the surface of a transparent body which allows penetration of laser beam.例文帳に追加

レーザを透過する透明体の表面を緻密にエッチング加工する方法を提供する。 - 特許庁

Or, laser marking work is carried out on an etched wafer before polishing which receives etching after lapping.例文帳に追加

又は、ラッピング後にエッチングを受けたポリッシング前のエッチドウエーハにレーザマーキング加工を行う。 - 特許庁

The etching step also forms mirrors or facets on the ends of the laser waveguide structures.例文帳に追加

エッチングステップはまた、レーザ導波路構造の端部にミラーまたはファセットを形成する。 - 特許庁

Two-dimensional arrays of vertical-cavity-surface-emitting laser diodes (VCSELs) have been fabricated by an ion-milling etching-technique. 例文帳に追加

２次元アレイ面発光レーザ（VCSEL）ダイオードは、イオン・ミリング・エッチング技術で製造されてきた。 - コンピューター用語辞典

LASER BEAM STIMULATED ETCHING PROCESSING DEVICE, WHEREIN NEAR FIELD OPTICAL PROBE IS USED, AND PROCESSING METHOD THEREOF例文帳に追加

近接場光プローブを用いたレーザ光励起エッチング加工装置及び加工方法 - 特許庁

Thereafter, a desired fuse 19 is removed together with the etching stopper layer 24 with a laser blow.例文帳に追加

所望のヒューズ１９を前記エッチングストッパ層２４と同時にレーザブローで除去する。 - 特許庁

Since wet etching is accelerated in the area irradiated with the laser 14 as compared with other areas, the production of etching residue can be suppressed.例文帳に追加

レーザー１４が照射された領域は、他の領域に比べてウェットエッチングの進行が早まるため、エッチング残渣の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element forming method for forming a semiconductor laser element without using an etching mask comprising alumina.例文帳に追加

アルミナを含むエッチングマスクを用いることなく半導体レーザ素子を作製する半導体レーザ素子作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for gravure platemaking capable of satisfactorily etching an area laser ablated even if leavings are generated when a laser ablation is conducted.例文帳に追加

レーザアブレーションを行ったときに残滓が生じてもレーザーアブレーションしたエリアを良好にエッチングできるグラビア製版方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device which is equipped with an etching stop layer which a high etching-controllability and capable of preventing light absorption from an active layer.例文帳に追加

エッチング制御性が高く、かつ、活性層からの光吸収を生じさせないエッチングストップ層を備えた半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁

The photoresist 23 is directly irradiated with ultraviolet ray laser beams 24 to form an etching mask 23a.例文帳に追加

ホトレジスト２３に、直接紫外線レーザ光２４を照射してエッチングマスク２３aを形成する。 - 特許庁

To achieve clear etching print in an arbitrarily-colored region by using a low power laser beam.例文帳に追加

任意の色の領域に、低出力のレーザー光を使用して鮮明なエッチング印刷を施す。 - 特許庁

The resin film 45, the part of which comprises a bonding pad and a die pad is removed by laser etching.例文帳に追加

ボンディングパットおよびダイパットとなる部分の樹脂膜４５をレーザーエッチングにより除去する。 - 特許庁