「metal films」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The aluminum films may be thick or thin and may be aluminum films or may be mixed metal films with aluminum metal.例文帳に追加

アルミニウム膜は薄くても厚くてもよく、アルミニウム膜であってもアルミニウム金属を含む混合金属膜であってもよい。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metal films and a system for manufacturing the metal films by which the metal films can be efficiently made without causing decrease in a throughput when the metal films such as wiring patterns are made by a liquid drop discharging method.例文帳に追加

液滴吐出法を用いて配線パターンなどの金属膜を形成する際、スループットの低下を招かずに効率良く金属膜を形成できる金属膜の製造方法及び金属膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

The first and second gate insulating films include an adjustment metal.例文帳に追加

第１，第２のゲート絶縁膜は、調整用金属を含む。 - 特許庁

The metal films 11 are arranged mutually at intervals.例文帳に追加

金属膜１１は、相互に間隔をおいて配置されている。 - 特許庁

METAL-ENOLATE PRECURSORS FOR DEPOSITING METAL-CONTAINING FILMS例文帳に追加

金属含有膜を被着させるための金属エノラート前駆体 - 特許庁

Films made of metal, resin, etc., are usable as the thin films 11 and 12.例文帳に追加

この薄膜１１・１２としては、金属製や樹脂製等のものを使用できる。 - 特許庁

To provide scintillator panel that is more enhanced in the 3stability of metal thin films as reflecting films.例文帳に追加

反射膜としての金属薄膜の安定性をより向上させたシンチレータパネルを提供すること。 - 特許庁

The second metal films 221 and 222 are plating films having a film thickness thinner than that of the first metal films 211 and 221 and bonded onto the first metal films 211 and 221.例文帳に追加

第２の金属膜２１２、２２２は、めっき膜であって、第１の金属膜２１１、２２１の膜厚よりも小さい膜厚を有して、第１の金属膜２１１、２２１の上に付着されている。 - 特許庁

The oxide films 7, 9 have the oxide of the same metal element as the metal element of the metal films 6, 10.例文帳に追加

酸化物膜７、９は、酸化物膜７、９とそれぞれ接している金属膜６、１０が有する金属元素と同じ金属元素の酸化物を有する。 - 特許庁

The metal films 14 and 15 for electrode formation are gold (Au)/chromium (Cr) films, and the material of the metal foil 13 is platinum (Pt) or tungsten (W).例文帳に追加

電極形成用金属膜１４，１５は銀（Ａｕ）／クロム（Ｃｒ）膜であり、金属箔１３の材質は白金（Ｐｔ）またはタングステン（Ｗ）である。 - 特許庁

Then, metal thin films 240 and 250 are formed on both surfaces of the metal plate 210 where the photoresist films 220 and 230 are applied (step S104).例文帳に追加

次に、フォトレジスト膜２２０及び２３０が形成された金属板２１０の両面に、金属薄膜２４０及び２５０を形成する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

Holes in which metal thin-films are removed may be formed in the lands 16 and 16 as the metal thin-films in the reference-place marks 17 and 17.例文帳に追加

基準位置マーク１７，１７は、金属薄膜であるランド部１６，１６の中に、金属薄膜が除かれた穴であればよい。 - 特許庁

The first and second metal projection sections are formed as the laminated films of the first and second metal films 32 and 34.例文帳に追加

第１及び第２の金属突起部は第１の金属膜３２及び第２の金属膜３４の積層膜として形成されている。 - 特許庁

Metal films 4a to 4c are formed on the barrier metals 3a to 3c.例文帳に追加

バリアメタル３ａ〜３ｃ上には金属膜４ａ〜４ｃが形成されている。 - 特許庁

Common electrodes 15a and 1c are formed of metal thin films.例文帳に追加

コモン電極１５ａと１ｃは金属薄膜で形成されている。 - 特許庁

Scanning electrodes 125 are formed on the metal films 121 and the color filters.例文帳に追加

金属膜１２１及びカラーフィルタ上に、走査電極１２５を形成する。 - 特許庁

Metal oxide films, etc., such as an ITO film are suitable as the transparent electrodes.例文帳に追加

透明電極としては、ＩＴＯ膜等の金属酸化膜等が好適である。 - 特許庁

The metal films 121 are formed on gaps between the respective scanning electrodes 125.例文帳に追加

金属膜１２１は、走査電極１２５相互間の隙間に形成される。 - 特許庁

The metal films 4a to 4c are formed of aluminum copper alloy or the like.例文帳に追加

金属膜４ａ〜４ｃの材質はアルミニウム銅合金等である。 - 特許庁

The metal films 32 are silver with a positive standard electrode potential.例文帳に追加

金属膜３２は、標準電極電位が正の値である銀である。 - 特許庁

A driving IC is connected with the belt-like electrodes via these metal films.例文帳に追加

この金属膜を介して駆動ＩＣを帯状電極に接続する。 - 特許庁

The metal films 11 are formed on the first principal surface 10a.例文帳に追加

金属膜１１は、第１の主面１０ａの上に形成されている。 - 特許庁

The metal film 21 is held between the resin films 19a and 19b.例文帳に追加

金属フィルム２１は、樹脂フィルム１９ａ、１９ｂに挟み込まれる。 - 特許庁

To inhibit the staining of polishing pads at CMP(chemical mechanical polishing) of copper metal films.例文帳に追加

銅系金属膜をＣＭＰする際の、研磨パッド汚れを抑制する。 - 特許庁

The metal films of the same kind or different kinds are formed of thin metal films so that irregularity of the surface of the uppermost layer of the metal films that constitute the wiring structure can be reduced.例文帳に追加

その同種又は異種の金属膜は、配線構造を構成する最上層の金属膜表面の凹凸を低減するように、薄膜の金属膜で形成される。 - 特許庁

Metal films are laminated by using heat-resistant metal wires, the metal films are embossed to suppress contact of the films with each other to a minimum, and the heat insulation is enhanced.例文帳に追加

耐熱金属（例としてチタン）を薄くフィルム状に加工して積層した多層断熱材を用いる事で、質量、コスト、加工性の問題を改善できる。 - 特許庁

The metal oxide film 3 and the insulating film 6 including a metal, silicon and oxygen are amorphous films.例文帳に追加

金属酸化物膜３及び金属、シリコン及び酸素を含む絶縁膜６は非結晶膜である。 - 特許庁

Finally, upper layer metal films are laminated on the exposed surface of the lower layer metal film by plating and the like.例文帳に追加

そして、下層金属膜の露出面上に上層金属膜をメッキ等により積層する。 - 特許庁

To provide a coating which is used for forming metal reflection films and can easily form the metal reflection films having excellent metal gloss at low costs, to provide the metal reflection film using the coating, and to provide an article having the metal reflection film.例文帳に追加

優れた金属光沢を有する金属反射膜を容易にかつ低コストで形成することのできる金属反射膜形成用塗料とそれを用いた金属反射膜及びそれを備えた物品を提供する。 - 特許庁

In the substrate for the liquid crystal cell comprising the resin film, the substrate for the liquid crystal cell is a resin film having at least two layers of metal films selected from metal oxide films, metal nitride films or metal oxide nitride films on the resin film, and at least two layers of the metal films have the same composition, but have different shearing strengths.例文帳に追加

樹脂フィルムからなる液晶セル用基板において、該液晶セル用基板が樹脂フィルム上に、酸化金属膜、窒化金属膜または酸窒化金属膜から選ばれる少なくとも２層の金属膜を有する樹脂フィルムであって、該少なくとも２層の金属膜が同一組成であってかつ剪断強度が異なる金属膜であることを特徴とする液晶セル用基板によって達成された。 - 特許庁

After that, phosphorus-containing polysilicon films 25 and high-melting point metal silicide films 26 are respectively laminated selectively in order on said oxide films 24 to form polyside gate electrode films 27.例文帳に追加

その後、該ゲート酸化膜（２４）上にリンを含有したポリシリコン膜（２５）及び高融点金属シリサイド膜（２６）を順次選択的に積層して、ポリサイドゲート電極膜（２７）を形成する。 - 特許庁

In order to enhance transmissivity, catalyst metal films conventionally formed on the whole surface of the sensor are shaped into a three-dimensional structure comprising the metal oxide films which are detection films and having surfaces vertical to base materials such as orientational films, to form a catalyst metal layer only on the surfaces vertical to the base materials.例文帳に追加

透過率向上のため、従来全面に形成していた触媒金属膜を、検知膜である金属酸化膜を配向性膜等基材と垂直な面を有する３次元構造の形態とし、基材と垂直な面のみに触媒金属層を形成する。 - 特許庁

To provide a coating composition for the thin metal films, which can form coating films excellent in adhesiveness, heat resistance, and water resistance in good productivity, and to provide a bright resin product using the coating composition for the thin metal films.例文帳に追加

付着性、耐熱性、耐水性に優れた被覆膜を生産性よく形成できる金属薄膜用塗料組成物、および金属薄膜用塗料組成物を用いた光輝性樹脂製品の実現。 - 特許庁

Thermoplastic resin films 10a and 10b are formed on non- thermoplastic resin films 11a and 11b, and metal wiring 8 is formed on them.例文帳に追加

非熱可塑性樹脂フィルム１１_a、１１_b上に熱可塑性樹脂フィルム１０_a、１０_bを形成し、その上に金属配線８を形成する。 - 特許庁

At the time of forming each the film by sputtering, all the films that constitute the multilayer films are carried out patterning using the same metal mask.例文帳に追加

スパッタ法により各膜を成膜するに際し、多層膜を構成する全ての膜を同一のメタルマスクを使用してパターニングする。 - 特許庁

A negative electrode layer 14 is a multilayer film formed by alternately stacking metal films 14M_k and transparent conductive films 14T_m from the side of an organic EL layer 13.例文帳に追加

陰極層１４は、有機ＥＬ層１３の側より金属膜１４Ｍ_ｋ と透明導電膜１４Ｔ_ｍ とが交互に積層された多層膜である。 - 特許庁

A pair of conductive metal thin films 5 and 9 are formed so as to hold a first soft magnetic material film 7 therebetween from both sides thereof through insulating material films.例文帳に追加

第１の軟磁性体膜７を絶縁体膜を介して両側から挟み込むように、１対の導電性金属薄膜５、９を形成する。 - 特許庁

The pair of metallizing films (19, 20) are cut respectively at parts whereat the metal films (19b, 20b) on one side thereof are removed.例文帳に追加

上記一対の金属化フィルム（19,20）を、それぞれ、片面側の金属膜（19b,20b）が除去された部分で切断する。 - 特許庁

Side margins (14) in which the films (11) are exposed are formed at width-directional ends of the films (11) and between the metalicon electrodes (17, 17) and the metal film (12).例文帳に追加

フィルム（11）の幅方向の端部で、且つメタリコン電極（17,17）と金属膜（12）との間にフィルム（11）が露出したサイドマージン（14）が形成されている。 - 特許庁

Protective films 12-13 are attached to the mounting surface of the substrate 1 to bury a space produced around the metal films 51-71, 52-72.例文帳に追加

保護膜１２〜１３は、基板１の搭載面上に付着され、金属膜（５１〜７１）、（５２〜７２）の周囲に生じるスペースを埋めている。 - 特許庁

Or, the 1st and 2nd dielectric films are 37.5-47.5 nm, the metal film is 5.5-6.5 nm, total of both dielectric films is 77.5-92.5, the 2nd dielectric film/the 1st dielectric film is 0.85-1015.例文帳に追加

あるいは、第１及び第２誘電体膜：37.5〜47.5nm、金属膜：5.5〜6.5nm、両誘電体膜の合計：77.5〜92.5nm、第２誘電体膜厚／第１誘電体膜厚：0.85〜1.15とする。 - 特許庁

To provide a low-temperature calcination porcelain by burying metal films in porcelain of Ba-Ti-Zn-O system, or of Ba-Nd-Ti-Bi-O system, or of Ba-Al-Si-O system, which inhibits cracking developed between adjacent metal films or outside of a metal film in almost parallel with metal films.例文帳に追加

Ｂａ−Ｔｉ−Ｚｎ−Ｏ系、Ｂａ−Ｎｄ−Ｔｉ−Ｂｉ−Ｏ系、Ｂａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ系の磁器中に金属膜を埋設した低温焼成磁器において、隣接する金属膜の間、金属膜の外側に、金属膜と略平行に進展するクラックを抑制する。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film having a preferable color tone and suitable as a material for magnetic tapes, ferromagnetic thin film tapes, photographic films, packaging films, films for electronic parts, electric insulating films, metal laminate films, films to be stuck to glass surfaces such as glass display, protective films for various members, and the like.例文帳に追加

好適な色調を有し、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネートフィルム、ガラスディスプレイ等のガラス表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として好適な積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a crystal resonator includes forming metal films and resist films on both sides of a substrate; then patterning the outer form of the crystal resonator, respectively on the resist films on the front and rear sides of the substrate; and thereafter, removing the metal films exposed on both the sides of the substrate by etching, and then etching the crystal substrate.例文帳に追加

水晶振動子の製造方法において、基板の両面に金属膜、レジスト膜を形成した後、基板の表裏面のレジスト膜にそれぞれ水晶振動子の外形形状をパターニングし、その後、基板両面に露出した金属膜をエッチング除去、水晶基板のエッチングを行う。 - 特許庁

The light-absorbing films 3 and 5 are composed of a mixture of metal and a metal compound, and the metal material is selected from Ti, Cr, Ni, NiCr, NiFe and NITi.例文帳に追加

光吸収膜３，５は、金属と金属化合物の混合物からなり、金属原料が、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｉ，ＮｉＣｒ，ＮｉＦｅ及びＮｉＴｉから選択される。 - 特許庁