「metal films」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The electromagnetic wave shielding film 1 is provided with a substrate film 2 formed of resin, a metal layer 3 laminated on the upper face of the substrate film 2 and projection films 4 and 40 which are laminated on the upper face of the metal layer 3 and are formed of resin.例文帳に追加

電磁波シールドフィルム１は、樹脂からなる基材フィルム２と、基材フィルム２の上面に積層した金属層３と、金属層３の上面に積層した樹脂からなる保護フィルム４、４０とを有する。 - 特許庁

To provide a film thickness/film quality evaluating device for metal oxide insulating films by which the degree of deterioration in film quality, the level of a high dielectric ratio or the like can be checked by evaluating the film thickness and film quality of a metal oxide insulating film.例文帳に追加

金属酸化物絶縁膜の膜厚や膜質を評価して膜質劣化の程度や高誘電率の大きさ等を確認できる金属酸化物絶縁膜の膜厚および／または膜質評価装置を提供すること。 - 特許庁

Consequently, the metal inner wall can be so suppressed from being subjected to sputtering by the plasma expanded up to the outside of the plasma generating chamber 1 as to prevent metal elements from flying and coming to the film forming chamber 3 and polluting thereby films.例文帳に追加

これによりプラズマ生成室１外まで広がるプラズマによって金属内壁がスパッタされるのを抑止することができ、成膜室３への金属元素の飛来、それによる膜汚染を防止することが可能となる。 - 特許庁

The adhesion strength between the base material and the films can be improved by forming a contact/metal film layer between the surface of the base material and the film of the metal reactive with SH group.例文帳に追加

基礎部材の表面と、ＳＨ基と反応する金属の被膜の間にコンタクト・メタル被膜を形成すると、基礎部材及び各被膜の間の密着強度が優れたものとなる。 - 特許庁

A double-sided metallized film (19) with metal films (19b) formed at both sides of a film body (19a) and a one-sided metallized film (20) with the metal film (20b) formed only at one side of the film body (20a) are superposed and wound.例文帳に追加

フィルム体（19a）の両面に金属膜（19b）が形成された両面金属化フィルム（19）と、フィルム体（20a）の片面にのみ金属膜（20b）が形成された片面金属化フィルム（20）とを重ね合わせて捲回する。 - 特許庁

The interlayer insulating film 3, the wiring interlayer films 41, 42, 43, and the protecting film 8 are constituted out of a single metal-diffusion preventing material for preventing the diffusions of the metal wirings 51, 52, 53.例文帳に追加

層間絶縁膜３、配線層間膜４１、４２および４３、並びに、保護膜８を金属配線５１、５２および５３の拡散を防止する単一の金属拡散防止材料から構成する。 - 特許庁

One of the metal magnetic films across the magnetic gap 3 is inclined in the depth direction Dg of the magnetic gap, and the other metal magnetic film is set so as to be parallel to the depth direction of the magnetic gap.例文帳に追加

磁気ギャップを挟む一方の金属磁性膜が、磁気ギャップの深さ方向Ｄｇに対して傾斜し、他方の金属磁性膜が磁気ギャップの深さ方向に対して平行になるように形成されている。 - 特許庁

A housing 1 and a rotor 2 are formed from the same kind of non-ferrous metal, and hard surface-treated films 42, 43 are formed on at least one of the mutual contact surfaces of the non-ferrous metal housing 1 and rotor 2.例文帳に追加

ハウジング１およびロータ２を、共に同種の非鉄金属により形成し、かつこれら非鉄金属製のハウジング１とロータ２との互いの接触面の少なくともいずれか一方に、硬質の表面処理膜４２、４３を形成する。 - 特許庁

A laser beam is irradiated to a lamination 5 constituted by laminating plural metallization films 3 having depositing metals 2 so as to be faced to a depositing metal surface, the depositing metals 2 of the plural metallization films 3 are removed in the width direction of the metallization film 3, and thereby margins 6 are formed on the plural metallization films 3.例文帳に追加

蒸着金属２を有する金属化フィルム３を複数積層した積層体５に、レーザビームを蒸着金属面に対向するように照射して複数の金属化フィルム３の蒸着金属２を金属化フィルム３の幅方向に除去して複数の金属化フィルム３にマージン部６を形成する。 - 特許庁

On upper layers of each OUT-LINE100 and IN-LINE110, cover films 120, 130 to prevent oxidation consisting of an iridium based metal film are formed so that these may be covered and so that widths of the cover films may be wider by one to several micrometers at one side than the pattern widths of the OUT-LINE100 and the IN-LINE110 covered by the films.例文帳に追加

ＯＵＴ−ＬＩＮＥ１００，ＩＮ−ＬＩＮＥ１１０それぞれの上層にはこれらを覆うようにイリジウム系金属膜からなる酸化防止用のカバー膜１２０，１３０が，それぞれが覆うＯＵＴ−ＬＩＮＥ１００とＩＮ−ＬＩＮＥ１１０のパターン幅より片側で１〜数μｍ広い幅となるよう形成されている。 - 特許庁

On a field oxide film 2, there are a high-resistance polysilicon film 4b for constituting the resistance element; low-resistance polysilicon films 9a, 9b formed at both the ends of the film 4b; a silicon nitride film 5a formed on the high-resistance polysilicon film 4b; and high-melting-point metal polycide films 7b formed on the low- resistance polysilicon films 9b.例文帳に追加

フィールド酸化膜２上に抵抗素子を構成する高抵抗ポリシリコン膜４ｂ、その両端に低抵抗ポリシリコン膜９ｂ，９ｂ、高抵抗ポリシリコン膜４ｂ上にシリコン窒化膜５ａ及び低抵抗ポリシリコン膜９ｂの上に高融点金属ポリサイド膜７ｂが形成されている。 - 特許庁

To provide epoch-making active energy ray curable metal coating compositions which do not use a photopolymerization initiator which causes an offensive odor upon curing, yellowing of cured coated films, and an eluate from the cured coated films and are curable at a practical intensity of the energy rays with a practical exposed dose and give a high strength of the coated films and have excellent adhesion to metals and, in addition, excellent processability and retortability.例文帳に追加

硬化時の悪臭、硬化塗膜の黄変、硬化塗膜からの溶出物の原因となる光重合開始剤を使用せず、実用的な光強度、光照射量で硬化し、且つ、高い塗膜強度を与え、金属への密着性に優れ、更に加工性及び耐レトルト性に優れた画期的な活性エネルギー線硬化性金属被覆組成物を提供すること。 - 特許庁

The high barrier films or precursor fibers for the meso pore carbon materials are obtained by treating films or fibers using a polyvinylidene chloride or a copolyvinylidene chloride as whole or a part, with a solution containing an alkaline metal hydroxide and/or an amine solution to carry out a dehydrochlorination treatment.例文帳に追加

ポリ塩化化ビニリデンまたは塩化ビニリデン共重合体を一部または全部用いたフィルムまたは繊維を、アルカリ金属水酸化物を含む溶液及び／またはアミン溶液を用いて脱塩化水素反応（脱塩酸）処理して高バリアフィルムまたはメソ孔炭素前駆体繊維を得る。 - 特許庁

In this dielectric barrier discharge type low-pressure discharge lamp, continuous thin films of yttrium oxide as a metal oxide are disposed as thin films 12 and 13 in areas corresponding to arrangement parts of external electrodes 18 and 19 on the inside surface of a glass bulb 15, respectively.例文帳に追加

誘電体バリア放電型の低圧放電ランプにおいて、ガラスバルブ１５内面の、外部電極１８、１９の配設部分に対応する領域に、薄膜１２、１３として、金属酸化物としての酸化イットリウムの連続薄膜を配置する。 - 特許庁

The film deposition thickness for each operation is set to be ≤ 5 nm, and alumina films are intermittently deposited on a substrate a plurality of times when depositing alumina films on the substrate by sputtering an aluminum metal target in an atmosphere containing oxidizing gas.例文帳に追加

酸化性ガス含有雰囲気下でアルミニウム金属ターゲットをスパッタリングして基板上にアルミナ膜を形成するに当たり、１回あたりの成膜膜厚を５ｎｍ以下とし、基板上にアルミナ膜を複数回に分けて断続的に成膜する。 - 特許庁

Then, the substrate S is subjected to surface treatment before Zr(BH_4)_4 and nitrogen in an excitation state are supplied to the surface of the substrate S, thus forming the zirconium boronitride films, namely the first and second metal cap films MC1, MC2.例文帳に追加

そして、この表面処理が基板Ｓに施された後、基板Ｓの表面にＺｒ（ＢＨ_４）_４と励起状態の窒素とが供給されて、第１メタルキャップ膜ＭＣ１及び第２メタルキャップ膜ＭＣ２である硼窒化ジルコニウム膜が成膜される。 - 特許庁

To provide a non-chromium-based coating composition which can form coating films excellent not only in corrosion resistance of general portions but also in corrosion resistance of processed portions and end surface portions even when deterioration of the coating films is progressed due to photolysis or hydrolysis in outdoor environments in coated metal plates and the like.例文帳に追加

塗装金属板などにおける、塗膜が屋外環境で光分解や加水分解による劣化が進行していっても、一般部の耐食性のみならず、加工部や端面部の耐食性に優れた塗膜を形成できる非クロム系塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin-coated metal pigment excellent in preservation stability (storage stability) when used for water-based coatings, water-based inks and the like, as well as excellent in chemical resistance of coating films and able to impart good metallic tone appearance to the coating films.例文帳に追加

水性塗料、水性インキ等に用いた際の保存安定性（貯蔵安定性）に優れると共に、塗膜の耐薬品性に優れ、良好なメタリック調の塗膜外観を付与し得る樹脂被覆金属顔料の製造方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the silver reflective film 8, the respective oxide films, and the respective metal films are sequentially contacted with high adhesion, durability of the reflecting mirror 2 is maintained in the high temperature environment, gas to cause discoloration can be shut down surely, the silver reflective film 8 becomes hard to be discolored, and high reflectivity can be maintained.例文帳に追加

従って、銀反射膜８と各酸化物膜と各金属膜とが順に高い密着性で接すると共に、高温環境下で反射鏡２の耐久性を維持し、変色原因のガスを確実に遮断でき、銀反射膜８が変色し難くなり高い反射率を維持できる。 - 特許庁

The film capacitor (10) includes a metallized film (13) having metal films (12) formed on both surfaces of a pair of superposed films (11, 11), the metallized film (13) is formed by being wound, and metalicon electrodes (17, 17) are connected to respective both ends in a width direction of the wound metallized film (13).例文帳に追加

フィルムコンデンサ（10）は、重畳した一対のフィルム（11,11）の両面に金属膜（12）がそれぞれ形成された金属化フィルム（13）を備え、金属化フィルム（13）が巻回されて形成され、且つ巻回された金属化フィルム（13）の幅方向の両端のそれぞれにメタリコン電極（17,17）が接続されている。 - 特許庁

In an electrodepositing tool having a structure in which abrasive grains deposited on the surface of a tool axial material are held and fixed to the axial material by an electrodepositing metal, the abrasive grains are coated with electroless plating films on the surfaces and are electrodeposited and fixed via the electroless plating films.例文帳に追加

工具軸材の表面に付着させた砥粒を電着金属で該軸材に保持固定した構造からなる電着工具において、該砥粒は、表面に無電解メッキ膜を被覆され、該無電解メッキ膜を介して電着固定されてなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a selective etching method whereby, without raising the cost for selectively etching one of copper or copper-base films of a metal laminate 1 having an etching barrier layer 3 intervenient between copper films 2 and 3, the fear that the etching barrier layer 3 is corroded, resulting in the corrosion of the other copper film 4 or copper-base film, is eliminated.例文帳に追加

銅膜２・４膜間にエッチングバリア層３を介在させた金属積層板１の一方の銅膜又は銅系膜に対する選択的エッチングに要するコストを高めることなく、エッチングバリア層３が侵されて他方の銅膜４又は銅系膜までが侵される虞をなくす。 - 特許庁

To provide an easy slip metal laminate of which the base material comprises a polyimide film which can reduce the mutual adhesion of films in a hinge part at the time of lamination of a multilayered substrate by a heating press, can eliminate the "sounding" trouble caused by the mutual friction of the films and has excellent easy slip properties.例文帳に追加

多層の基板を加熱プレスにより積層した際のヒンジ部におけるフィルム同士の密着を低減し、フィルム同士が擦れ有っての「音鳴り」トラブルを解消することのできる易滑性に優れたポリイミドフィルムを基材とした易滑性金属積層体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method further comprises the steps of then, as shown in Fig. (D), forming metal thin films 60 and 70 on the gate insulation film 50, irradiating the films with a laser beam 80 from above to crystallize the amorphous silicon thin film 40 to a polycrystalline silicon thin film 90 and a single-crystal silicon thin film 100.例文帳に追加

つぎに、図１（Ｄ）に示すように、ゲート絶縁膜５０の上に金属薄膜６０および７０を形成し、その上からレーザー光８０を照射して非晶質シリコン薄膜４０を結晶化させ、多結晶シリコン薄膜９０および単結晶シリコン薄膜１００とする。 - 特許庁

To provide a configuration for achieving a uniform polishing rate without thickening of interlayer insulation films to be polished in a liquid crystal panel substrate having a layered film structure of the interlayer insulation films and metal layers alternately formed on a semiconductor substrate provided with a transistor element region for pixel selection thereon.例文帳に追加

画素選択用トランジタの素子領域を作り込んだ半導体基板の上に層間絶縁膜とメタル層を交互に繰り返して成膜した積層膜構造を有する液晶パネル用基板において、被研磨膜に係る層間絶縁膜を厚膜化せずに、研磨レートの均一化を達成できる構造を実現する。 - 特許庁

The electrode stack type battery 1 is so constructed that an electrode stack in which a positive plate and a negative plate are stacked with a separator in between is held from both surfaces between a pair of laminate films with a metal layer and a resin layer, and that the perimeters of the pair of laminate films are closely fixed together to provide a seal.例文帳に追加

電極積層型電池１は、正極板と負極板とをセパレータを間に挟んで積層する電極積層体の両面を、金属層と樹脂層とを備えた一対のラミネートフィルムで挟み、この一対のラミネートフィルムの周縁を互いに密着固定して内部を封止している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor apparatus by using chemical vapor deposition (CVD), especially metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) to form thin films, with ferroelectric films such as PZT having favorable characteristics as an example.例文帳に追加

化学気相成長（ＣＶＤ）法、特に有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法で良好な特性のＰＺＴなどの強誘電体膜を始めとする薄膜を形成することにより半導体装置を製造するための方法を提供すること。 - 特許庁

The piezoelectric element 12 has electrode films 14a and 14b formed on a Z-directional end surface of a piezoelectric body 13 polarized in an X direction, and the surface where the electrode films 14a and 14b are formed is bonded to the metal plates 11a and 11b.例文帳に追加

圧電素子１２はＸ方向に分極された圧電体１３のＺ方向端面に電極膜１４ａ・１４ｂが形成された構造を有し、電極膜１４ａ・１４ｂの形成された面が金属板１１ａ・１１ｂに接着されている。 - 特許庁

To provide a plastic optical member which can be obtained by molding a thermoplastic resin in a metal mold having a fluoropolymer layer formed on a transferring surface, which can be mass-produced and which excels in transferability, a mold release properties and further, in adhesion to inorganic dielectric films, such as antireflection films.例文帳に追加

転写面にフッ素系ポリマー層が形成された金型を使用して、熱可塑性樹脂を成形して得られた量産可能な光学系部材であって、転写性、離型性に優れ、さらには反射防止膜等の無機誘電体膜との密着性に優れるプラスチック光学系部材を提供する。 - 特許庁

A first and a second MI elements 22 and 23 constituted of conductive metal thin films 2 and 2' and soft magnetic body films 4, 5, 4' and 5' disposed on both surfaces thereof, respectively, are disposed in magnetic paths of ring type magnetic cores 1 and 1' on both sides of the surface of a gap 7, respectively.例文帳に追加

導電性金属薄膜２、２’及びその両面に配置された軟磁性体膜４、５、４’、５’により構成された第１及び第２のＭＩ素子２２、２３を、リング型磁気コア１，１’の磁路中に、ギャップ７面に対して両側に各々配備する。 - 特許庁

To provide an easy slip metal laminate of which the base material comprises a polyimide film and which can reduce the mutual adhesion of films in a hinge part at the time of lamination of a multilayered substrate by a heating press, can eliminate the "sounding" trouble caused by the mutual friction of the films and has excellent easy slip properties.例文帳に追加

多層の基板を加熱プレスにより積層した際のヒンジ部におけるフィルム同士の密着を低減し、フィルム同士が擦れあっての「音鳴り」トラブルを解消することのできる易滑性に優れたポリイミドフィルムを基材とした金属積層体を提供することにある。 - 特許庁

Reflection preventing films 16 against air are formed to one side of the two polarizing glasses 14, respectively and then the joining faces of the polarizing glasses 14 and those of the reflection preventing films 17 against glass of the Faraday rotator 13 are adjoined to form a jointed body 18 through alkali metal element-containing layers.例文帳に追加

別に２枚の偏光ガラス１４の片面に対空気反射防止膜１６を施した後、偏光ガラス１４の接合面とファラデー回転子の対ガラス反射防止膜１７の接合面同士をアルカリ金属元素含有層を介して接合体１８を製造する。 - 特許庁

The magnetic gap g is formed between end surfaces of the magnetic metal thin films 5 and 6, and the total film thickness of the metallic thin films 5 and 6 corresponds to a track width.例文帳に追加

あるいは、磁路が金属磁性薄膜のみにより形成され、各磁気コアの接合面にギャップ材として少なくともＣｒ又はＴｉからなる第１の金属層とＡｕからなる第２の金属層とが積層され、第２の金属層同士の熱拡散により磁気コアが接合されている。 - 特許庁

The laminated films 3, 4 are films laminating at least the heat-bonding resin layers 3d, 4d and the metal thin-film layers 3e, 4e, and seal the battery element 6 by pinching it with the heat-bonding resin layers 3d, 4d inside and heat bonding its peripheral edge part with heat-bonding heads 9a, 9b.例文帳に追加

ラミネートフィルム３，４は、少なくとも熱融着性樹脂層３ｄ，４ｄと金属薄膜層３ｅ，４ｅとを積層したフィルムであり、熱融着性樹脂層３ｄ，４ｄを内側として電池要素６を挟み、周縁部が熱融着ヘッド９ａ，９ｂで熱融着されることで、電池要素６を封止する。 - 特許庁

After a plurality of trenches 110 for wiring are formed in an FSG film 109 formed on a substrate 100, a barrier metal film (tantalum nitride film 111) and conducting films for wiring (copper films 112 and 113) are deposited in sequence on the FSG film 109, in such a manner that each of the trenches 110 is completely filled.例文帳に追加

基板１００上に形成されたＦＳＧ膜１０９に複数の配線用溝１１０を形成した後、各配線用溝１１０が完全に埋まるようにＦＳＧ膜１０９の上にバリアメタル膜（窒化タンタル膜１１１）及び配線用導電膜（銅膜１１２及び１１３）を順次堆積する。 - 特許庁

The oxide films which are usually formed on the metal sheets surfaces are destroyed to sufficiently fine debris by performing the cold pressure welding under such conditions and the debris is dispersed to wide spacings at a joint point, and thereby interatomic bonding of the metals having no oxide films is made possible.例文帳に追加

このような条件にて冷間圧接を行うことで、通常、金属板表面に形成されている酸化膜を十分に微細な破片に圧壊して、その破片を接合箇所で広い間隔に分散させることにより、酸化膜のない金属同士を原子間結合させることができる。 - 特許庁

The ND filter of thin-film constitution which controls the quantity of transmitted light is constituted by laminating at least a metal film 3 made of Al or Al alloy and Nb films 5 and 7 on a light-transmissive base material 1 across dielectric films 4, 6, and 8.例文帳に追加

透過光量を制御する薄膜型構成のＮＤフィルターにあって、光透過性の基材１の上に、少なくともＡｌもしくはＡｌ合金より成る金属膜３とＮｂ膜５及び７とを、誘電体膜４、６及び８を介して積層形成して構成する。 - 特許庁

Namely, by using a commercially available inexpensive OHP film for the photomask, the semiconductor wafer product, on which a drawing pattern is drawn with the contrast among the semiconductor substrate can be manufactured and sold, insulating films and metal films at a low cost and a short delivery time, using conventional OA equipment.例文帳に追加

即ち、フォトマスクとして市販の安価なＯＨＰシートを用いることにより、汎用のＯＡ機器を用いて低コスト且つ短納期で、半導体基板、絶縁膜と金属膜のコントラストで図柄を描いた半導体ウェハ装飾品を製造、販売できる。 - 特許庁

A configuration is set in such a manner that insulating films are located below the aligning mark, the aligning mark formed of an aligning mark and the multilayered insulating films having an enhanced level difference is previously formed in a mark hole in a self-aligned manner, and an object metal film is formed thereon.例文帳に追加

合わせマークの下に絶縁膜が位置する構成とし、マークホール内に合わせマークと絶縁膜の多層膜から成る、段差が拡大された合わせマークを自己整合で予め形成しておき、その上に対象とする金属膜を形成する。 - 特許庁

To provide a grease composition which is used for lubricating mechanical parts performing rolling movements and having steel portions to be lubricated, can prevent the peeling of the steel portions due to metal fatigues caused by the thinning of oil films without thickening the oil films, and can thereby elongate the peeling-resistant lives of the steel portions.例文帳に追加

転がり運動を行う鋼製の被潤滑部を有する機械部品の潤滑に使用するグリース組成物であって、油膜の薄膜化により発生する金属疲労による剥離を、油膜の厚膜化によらずに防止し、剥離寿命を延長することができるグリース組成物を提供すること。 - 特許庁

In a detection element 1, protective films 30a, 30b and 31a: insulating films 31b and 30c; a heating resistor 3; a temperature sensing resistor 4; a contact part 33; a drawn wiring part 34; a contact barrier metal film 36; and a strength reinforcing protective film 37 are formed in a flat substrate 32.例文帳に追加

検出素子１は平板基板３２に保護膜３０ａ、３０ｂ、３１ａ、絶縁膜３１ｂ、３０ｃ、発熱抵抗体３、温度検出抵抗体４、コンタクト部３３、引き出し配線部３４、コンタクトバリアメタル膜３６、強度補強保護膜３７を形成する。 - 特許庁

The mutual connection recessed part connecting upper and lower electrodes is filled with mutual connection conductors 3, consisting of metal whose resistance is lower than polycrystalline silicon including impurity; the diffusion-preventing films 4, consisting of electroless plating films are arranged between the inner walls of the mutual connection recessed part and the mutual connection conductors 3.例文帳に追加

上下の電極を接続する相互接続用凹部を不純物含有多結晶シリコンより低抵抗の金属からなる相互接続導体３で埋め込むとともに、相互接続用凹部の内側壁と相互接続導体３との間に無電解メッキ膜からなる拡散防止膜４を設ける。 - 特許庁

Conductive films 10, 13 are formed on a lower surface of the outer frame of the intermediate crystal plate, metal thin films 16, 18 are formed on an upper surface of the lower crystal substrate and airtightly joined together by diffused junction after being mutually sanctified and activated by plasm processing.例文帳に追加

中間水晶板の外枠下面には導電膜１０，１３が形成され、下側水晶基板の上面には金属薄膜１６，１８が形成され、互いにプラズマ処理により清浄化・活性化した後、拡散接合により気密に接合される。 - 特許庁

The buffer films 14 and 24 of an N-channel MOS transistor and a P-channel MOS transistor which are adjacent to each other are formed integrally, an intermediate metal film 16 is formed on the buffer film of integral structure, and ferroelectric films 12 and 22 and gate electrodes 13 and 23 are provided to the transistors respectively.例文帳に追加

隣接するｎチャネルＭＯＳトランジスタとｐチャネルＭＯＳトランジスタとのバッファ膜１４、２４を一体とし、そのバッファ膜上に中間金属膜１６を設け、それぞれのトランジスタの強誘電体膜１２、２２、ゲート電極１３、２３を設ける。 - 特許庁

On the surfaces of metal substrates 34, 37 arranged on the inner face of an outward passage 15a for a container at a preset space in the direction of transferring heat medium, material films 25a-25j and material films 26a-26j are provided, respectively, whose affinity with heat medium is changed with the application or not of predetermined voltage.例文帳に追加

コンテナの往路１５ａの内面に熱媒体の移送方向へ所定間隔をおいて配置された各金属基板３４，３７の表面にそれぞれ所定の電圧の印加の有無により熱媒体との親和力が変化する物質膜２５ａ〜２５ｊ及び物質膜２６ａ〜２６ｊを設けた。 - 特許庁