「n-R」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

In the formula, R^1 is a lower alkyl group, R^2 is a substituted or unsubstituted lower alkyl group, X is a nitroso group at 2-, 3- or 4-position, and Y is an atomic symbol N or NH.例文帳に追加

一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１は低級アルキル基、Ｒ^２は、置換若しくは非置換低級アルキル基、Ｘは２−、３−または４−位におけるニトロソ基、Ｙは原子記号Ｎ若しくはＮＨである。） - 特許庁

In the formula, R^1-R^4 represent hydrogen atom, alkyl group, alkoxyl group, or the like, Y represents oxygen atom, or the like, Z represents direct bond, aromatic heterocycle, or the like, and n represents 0 or 1.例文帳に追加

（式中、Ｒ^1〜Ｒ^4は水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を、Ｒ^5〜Ｒ^10は水素原子、アルキル基等を、Ｙは酸素原子等を、Ｚは直接結合や芳香族複素環等を、ｎは０または１を表す。） - 特許庁

The formula (1) is: C_6H_5-CH_2-O(AO)_n-C(O)-R [wherein, AO is oxyethylene or oxypropylene group; R is an 11-23C alkyl or alkylene; and (n) is an integer of 1-10].例文帳に追加

Ｃ_6Ｈ_5−ＣＨ_2−Ｏ(ＡＯ)_n−Ｃ（Ｏ）−Ｒ （１） 式（１）中、ＡＯはオキシエチレン基若しくはオキシプロピレン基を、Ｒは炭素数１１〜２３のアルキル基若しくはアルキレン基を、ｎは１〜１０の整数を示す。 - 特許庁

{R^1 to R^8 are each H, an alkyl, an aryl or the like; n is an integer of 2-10; and the units forming an oligo body may be same or different.}.例文帳に追加

（但し一般式［１］中、Ｒ^１〜Ｒ^８は水素原子、アルキル基、アリール基などを表し、ｎは２から１０の整数を表す。またオリゴ体を形成するユニットは同一であっても異なってもよい。） - 特許庁

In general formula (I), R^1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R^2 represents a hydrogen atom or a 1C-5C alkyl group; n represents an integer of 1-5; and m represents an integer of 1-7.例文帳に追加

前記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基であり、ｎは、１〜５の整数であり、ｍは、１〜７の整数である。 - 特許庁

In the formula, Q represents an aryl or an aromatic heterocycle group; R^A and R^B each represents a hydrogen atom, an alkyl, an aryl or the like; m represents 0 to 4; n represents 0 to 7; and X^- represents a pharmacologically acceptable anion.例文帳に追加

（式中、Ｑは、アリール、芳香族複素環基を、Ｒ^ＡおよびＲ^Ｂは、水素原子、アルキル、アリール等を、ｍは０〜４を、ｎは０〜７を、Ｘ^−は、薬理学的に許容されるアニオンを表す） - 特許庁

In the formula, R^1 represents one of 5-20 alkyl, alkenyl, cycloalkenyl or aromatic hydrocarbon groups; R^2 represents a 1-3C alkyl group; and n represents an integer of 1 to 3.例文帳に追加

ＳｉＲ^１_ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎ ……（１）（Ｒ^１は炭素数５〜２０のアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基のいずれか、Ｒ^２は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは１〜３の整数。） - 特許庁

The alkane thiol compound has the general formula of R(CH_2)_nSH; wherein, R denotes methyl, carboxyl, hydroxyl, formyl or amide, and n lies within the range of 7 to 21, preferably within the range of 12 to 18.例文帳に追加

アルカンチオール化合物は一般式Ｒ（ＣＨ_2）_nＳＨを有し、前記式でＲはメチル、カルボキシル、ヒドロキシル、ホルミル、またはアミドを示し、ｎは７乃至２１の範囲内、好ましくは１２乃至１８の範囲内である。 - 特許庁

A ratio R of the number Na of the discontinuous cords to the total number N of the carcass cords of the joint part is 40-70%.例文帳に追加

ジョイント部のカーカスコードの総本数Ｎに対して、不連続コードの本数Ｎａの比率Ｒは、４０％以上７０％以下である。 - 特許庁

When a key 13 is operated to rotate, positions are moved in the order of ON-R-N-D to change A/T ranges.例文帳に追加

キー１３が回動操作されたときにはＯＮポジション→Ｒポジション→Ｎポジション→Ｄポジションに移動し、Ａ／Ｔのレンジが切換えられる。 - 特許庁

Wherein, R(Dp): a cumulative oversize mass fraction (mass%), Dp: a sieve opening diameter (mm), De: a particle size (mm) at which cumulative sieving mass fraction becomes 36.8 mass%.例文帳に追加

Ｒ(Dp) ＝ 100・exp｛−(Dp/De)^n｝ ここで、Ｒ(Dp)：積算ふるい上質量分率（mass％） Dp：ふるい目径（mm） De：積算ふるい質量分率が36.8mass％となる粒径（mm） - 特許庁

The wireless base unit 10 includes radio control units 12 with an n+1 configuration, which process communication data to be exchanged by the radio units R.例文帳に追加

無線基地部１０には、無線部Ｒにて送受信する通信データを処理するｎ＋１構成の無線制御部１２を備える。 - 特許庁

According to this N-S-R characteristic, the target steering angle relative to the steering operation angle is set in response to the engine revolution speed.例文帳に追加

このＮ−Ｓ−Ｒ特性に従って、ステアリング操作角に対する目標転舵角がエンジン回転速度に応じて設定される。 - 特許庁

The compounds are described by the formula (II) (wherein M is Rh or Ir; X is halogen; Y is O, S or Se; R is an aromatic hydrocarbon; and a, b and n are each an integer).例文帳に追加

化合物は（式中、Ｍ：Ｒh,Ir、Ｘ：ハロゲン、Ｙ：Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｒ：芳香族炭化水素、およびａ，ｂ，ｎ：整数をあらわす。） - 特許庁

A response apparatus generates processed first data X, before signature by using a fictitious name N and random numbers r, and transmits the data to the server 1.例文帳に追加

回答装置は、仮名Ｎ及び乱数ｒを用いて第１の署名前処理データＸを生成し、サーバ装置１に送信する。 - 特許庁

An electrostatic discharge protection circuit is formed of a p-type MOS transistor Qp, an n-type MOS transistor Qn, and a protection resistance R.例文帳に追加

ｐ型ＭＯＳトランジスタＱｐ、ｎ型ＭＯＳトランジスタＱｎおよび保護抵抗Ｒによって静電気放電保護回路が形成される。 - 特許庁

The shape and quality of a weld of a welded steel pipe are controlled to set a n-value and a r-value showing plastic deformability at characteristic ranges.例文帳に追加

溶接鋼管の溶接部の形状および材質を制御し、塑性変形能を示すｎ値およびｒ値をを特性範囲にする。 - 特許庁

In the formula, R is a 6-22C aliphatic hydrocarbon group; -(C_3H_6O_2)- is a glycerol skeleton; and n is a number of 1-7.例文帳に追加

Ｒ−Ｏ−（Ｃ_3Ｈ_6Ｏ_2）_n−Ｈ （Ｉ）（式中、ＲはＣ_6-22の脂肪族炭化水素基、−（Ｃ_3Ｈ_6Ｏ_2）−はグリセリン骨格で、ｎは１〜７の数である。） - 特許庁

The surface number N and the circumradius R of the reflection surface 13a of the mirror 13 are decided so as to satisfy a following condition (1).例文帳に追加

ポリゴンミラー１３の反射面１３ａの面数Ｎ及び外接半径Ｒは、下記条件（１）を満足するように定められている。 - 特許庁

This deodorant composition contains a biguanidine polymer expressed by general expression (1) and an alkaline material and having the pH of 7.5-13, wherein, R is a 1-10C alkylene group, and n is a positive number of 20 or below.例文帳に追加

下記一般式（１）のビグアニジンポリマーと、アルカリ物質を含有し、かつｐＨが７．５〜１３である消臭剤組成物。 - 特許庁

The fluorine-containing compound is expressed by formula (A) or (B), wherein R^f is 1-20C polyfluoroalkyl group with not less than 60% of fluorine atoms in the group; Q is ≥1C alkylene group or the like; n and m are each independently an integer of ≥1.例文帳に追加

Ｒ^ｆＱＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ_２）ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２）Ｃ（Ｏ）ＯＱＲ^ｆで表される含フッ素化合物。 - 特許庁

In the formula, G represents a heterocyclic group, R, X, Y, Z and Q represent substituents, and n represents an integer of 1-3.例文帳に追加

一般式（Ｙ−１）：（式中、Ｇはヘテロ環基を表し、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＱは置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す） - 特許庁

The gelatin coating liquid contains a compound of formula 1 and ≥150 ppm of an alkaline earth metal, wherein R represents an aliphatic or aromatic group; M represents a cation; and n represents an integer of ≥1.例文帳に追加

下記一般式１の化合物と、アルカリ土類金属を１５０ｐｐｍ以上含有することを特徴とするゼラチン塗布液。 - 特許庁

In the formula (I), R represents hydrogen atom or a 1-4C hydrocarbon group, and n represents an integer of 1-200.例文帳に追加

一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子、又は、炭素原子数１〜４の炭化水素基を表し、ｎは１以上２００以下の整数を表す。 - 特許庁

The polyorganosiloxane particles are produced through hydrolysis and condensation of an alkoxide represented by R^1_n-Si-(OR^2)_4-n.例文帳に追加

ポリオルガノシロキサン粒子は、Ｒ^１_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎで表されるアルコキシドの加水分解及び縮合を通じて製造される。 - 特許庁

This peptide comprising an amino acid sequence: W-X1-N/T-P/R-W [wherein, X1 is 0 to 1 piece of arbitrary amino acid] is used.例文帳に追加

アミノ酸配列Ｗ−Ｘ１−Ｎ／Ｔ−Ｐ／Ｒ−Ｗ（Ｘ１は０〜１個の任意のアミノ酸である。）を含むペプチドを用いる。 - 特許庁

A multiplexer 24 separates image data into R, G and B data, and a block forming circuit 32 separates the G data in m×n unit blocks.例文帳に追加

画像データはマルチプレクサ２４でＲ，Ｇ，Ｂデータに分離され、Ｇデータがブロック化回路３２でｍ×ｎ個の単位ブロックに分割される。 - 特許庁

There is provided the large cyclic lactone compound represented by formula (1) [wherein, R is 1 to 3C alkyl; (n) is an integer of 1 to 6].例文帳に追加

下記式（１）（式中、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基を示し、ｎは１〜６の整数を示す。）で表される大環状ラクトン化合物。 - 特許庁

In the formula, R^1 is hydrogen, alkyl, or acyl; Rf is -CF_3 or -CF_2CF_3; and m, n, and p are natural numbers.例文帳に追加

（上記式中、Ｒ^１は、水素、アルキル基、又はアシル基であり、Ｒｆは、−ＣＦ_３、又は−ＣＦ_２ＣＦ_３であり、ｍ、ｎ、ｐは自然数である。） - 特許庁

The magnet 25 is relatively moved among positions P, F, D, N, R in respect of four hole ICs according to operation of the shift lever 2.例文帳に追加

マグネット２５はシフトレバー２の操作に応じて、４つのホールＩＣに対してＰ，Ｆ，Ｄ，Ｎ，Ｒの各位置の間で相対移動する。 - 特許庁

(In the general formula (1), R^1 independently denotes a halogen atom or a hydroxy group, respectively, and n denotes an integer of 0 to 4.).例文帳に追加

一般式（Ｉ） （一般式（Ｉ）中、Ｒ^１はそれぞれ独立にハロゲン原子または水酸基を表し、ｎは０〜４の整数を表す。） - 特許庁

The raw material precursor is expressed by the formula: Ta(I5-m-n-p)(Brm-p)(Cln-p)(Rp) [(m) is an integer of 0-5; (n) is an integer of 0-4; (p) is an integer of 0-4; R is selected from a group consisting of hydrogen and a lower alkyl).例文帳に追加

原料前駆体は以下の式（Ｉ）で表される： Ｔａ（Ｉ_5-m-n-p）（Ｂｒ_m-p）（Ｃｌ_n-p）（Ｒ_p） （Ｉ） （ｍは０から５までの整数、ｎは０から４までの整数、ｐは０から４までの整数、Ｒは水素と低級アルキルとからなる群より選択される。） - 特許庁

Formula (1) is expressed as RO-(AO)n-H, wherein R is a methyl group or an ethyl group; (AO)n is a polyoxyalkylene group constituted by polymerization of 1-7 mol of ethylene oxide with 0-4 mol of propylene oxide; and n is an integer of 1-11.例文帳に追加

ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ （１）（式中、Ｒはメチル基又はエチル基を表し、（ＡＯ）ｎは１〜７モルのエチレンオキシドと０〜４モルのプロピレンオキシドとの重合により構成されたポリオキシアルキレン基を表し、ｎは１乃至１１の整数を表す。） - 特許庁

Hydrophilic and hardly water-soluble coating film layers containing the hydrolysis condensate of the alkyl silicate expressed by formula: R1nSi(OR2)4-n (R1 is 1-8C organic group; R is 1-5C alkyl group and (n) is 0 or 1) are formed on the surfaces of the steel products existing in the atmosphere or the surfaces of the coated steel products.例文帳に追加

大気中に存在する鋼材表面又は塗装された鋼材表面に、次式： Ｒ^1_nＳｉ（ＯＲ^2）_4-n 〔式中、Ｒ^1は、炭素数１〜８の有機基であり、Ｒ^2は、炭素数１〜５のアルキル基であり、ｎは、０又は１である。 - 特許庁

The method for purifying the acetal compound comprises a step of distilling a feedstock containing the acetal compound represented by general formula (I) (wherein, R^1 is H, methyl or ethyl; R^2 is n-propyl or i-propyl; R^3 is H, n-propyl or i-propyl) at 80-170°C in the presence of an antioxidant.例文帳に追加

酸化防止剤の存在下、一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^1は水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ^2はｎ−プロピル基又はｉ−プロピル基を示し、Ｒ^3は水素原子、ｎ−プロピル基、又はｉ−プロピル基を示す。）で表されるアセタール化合物を含有する原料を８０〜１７０℃で蒸留する工程を有するアセタール化合物の精製方法。 - 特許庁

The ink composition comprises (a) a radical-polymerizable compound and (b) at least one pyrithione compound represented by general formula (I) (wherein R and R' are each a hydrogen atom or a monovalent group; n is an integer of 1-4; and when n is 2 or more, R' may be the same or different) as a photopolymerization initiator.例文帳に追加

（ａ）ラジカル重合性化合物、及び（ｂ）光重合開始剤として少なくとも１種の下記一般式（Ｉ）で表されるピリチオン化合物、を含有することを特徴とするインク組成物：（式中、Ｒ、Ｒ'は水素原子もしくは一価の基を表す。ｎは１〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｒ'は互いに同一でも異なっていてもよい。）。 - 特許庁

The resin removing agent is a solution which comprises a block polyether-modified silicone compound comprising a quaternary ammonium compound expressed by the general formula (R^1)_3-N^+-R^2-X^-, a quaternary ammonium compound expressed by the general formula (R^3)_4-N^+-X^-, a silicone moiety and a polyether moiety, and a solvent.例文帳に追加

一般式、（Ｒ^１）_３−Ｎ^＋−Ｒ^２・Ｘ^− で表される四級アンモニウム化合物と、一般式、（Ｒ^３）_４−Ｎ^＋・Ｘ^− で表される四級アンモニウム化合物と、シリコーン部分とポリエーテル部分とから少なくとも構成されるブロック型ポリエーテル変性シリコーン化合物と、溶媒と、を含有する溶液である樹脂除去剤である。 - 特許庁

In formula, n is 0 or 1, the group A is a substituted 2-naphthothiazolyl group etc., the group B is a substituted phenyl group etc., R^1 is a carboxy group etc., and R^2 to R^4 are each independently a hydrogen atom, an unsubstituted 1-4C alkyl group, a substituted 1-4C alkoxy group etc.例文帳に追加

（式中、ｎは０又は１、基Ａは置換２−ナフトチアゾリル基等、基Ｂは置換フェニル基等、Ｒ^1はカルボキシ基等、Ｒ^2からＲ^4はそれぞれ独立に水素原子、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル基、置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基等を、それぞれ表す。） - 特許庁

There are provided: an organic semiconductor material comprising a hexa-peri-hexabenzocoronene derivative having a group such as -C_6H_4O(-R^4-O-)nR^3 (R^3 represents an alkyl group, R^4 represents an alkylene group, and n represents 0 or a positive integer); and its manufacturing method.例文帳に追加

−Ｃ_６Ｈ_４Ｏ（−Ｒ^４−Ｏ−）ｎＲ^３（Ｒ^３はアルキル基を表し、Ｒ^４はアルキレン基を表し、ｎは０または正の整数を表す。）等の基を持つヘキサペリヘキサベンゾコロネン誘導体よりなる有機半導体材料、及びその製造方法で実現する。 - 特許庁

In general formula (1), R^1 is a 1-6C alkyl group; R^2 to R^6 are each independently a hydrogen atom, a 1-8C alkyl group, or a 6-14C aryl group; and n is a natural number of 1-50,000.例文帳に追加

（一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数１以上６以下のアルキル基を、Ｒ^２乃至Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１以上８以下のアルキル基、または炭素数６以上１４以下のアリール基を、ｎは１以上５００００以下の自然数を表す。） - 特許庁

The epoxy resin composition contains an epoxy resin represented by general formula (3) [wherein, R^1 is a methyl group or a hydrogen atom; R^2 is a hydrogen atom or an alkyl group; n or m is an integer of 0-2; and R^3 is a hydrogen atom or a group represented by general formula (3-2)] and a curing agent as essential components.例文帳に追加

下記一般式（３）（Ｒ^１はメチル基または水素原子、Ｒ^２は水素原子又はアルキル基を、ｎ又はｍは０〜２の整数であり、Ｒ^３は水素原子又は下記一般式）で表されるエポキシ樹脂及び硬化剤を必須成分とする。 - 特許庁

It is preferable that the fluorine organic matter have an end functional group, and it is also preferable that the fluorine organic matter contain a compound represented by the general formula, R-CF2-(OC2F4)m-(OCF2)n-OCF2-R (where R denotes a functional group).例文帳に追加

前記フッ素系有機物が、末端官能基を持つフッ素系有機物であることが好ましく、フッ素系有機物として、一般式Ｒ-ＣＦ_2-（ＯＣ_2Ｆ___4）_m-（ＯＣＦ_2）_n-ＯＣＦ_2-Ｒ（ただし、式中Ｒは官能基を示す。）で示される化合物を含んでなることが好ましい。 - 特許庁

In the formula, R^10 represents hydrogen atom, metal cation or quaternary ammonium cation, L^10 represents single bond or divalent organic group, R^11-R^13 each independently represent hydrogen atom, or substituted or unsubstituted alkyl, and n represents 1 or 2.例文帳に追加

（式（１）中、Ｒ^10は、水素原子、金属カチオン、または第四級アンモニウムカチオンを表す。Ｌ^10は、単結合、または、二価の有機基を表す。Ｒ^11〜Ｒ^13は、それぞれ独立して、水素原子、または置換若しくは無置換のアルキル基を表す。ｎは１または２を表す。） - 特許庁

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Then, only the group of the raw material alloy pieces in the lot in which the abundance ratio n/N satisfies the fixed value or below is fed to a pulverization stage, thus an R-T-B based permanent magnet having high coercive force is produced.例文帳に追加

そして、存在比率ｎ／Ｎが一定値以下のロットの原料合金片群のみを、粉砕工程に供することで、高い保磁力を有したＲ−Ｔ−Ｂ系永久磁石を製造する。 - 特許庁