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n.m.を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 14280



例文

A light emitting element having a luminous wavelength of 440 nm or higher can be fabricated by making the well layer have a thickness of 3 nm or higher.例文帳に追加

井戸層の厚みを3nm以上にすることによって、発光波長440nm以上の発光素子を作製することができる。 - 特許庁

Next, an electron transport layer 5 is formed in film thickness of about 20 nm, and an negative electrode 6 is formed in film thickness of about 100 nm.例文帳に追加

次に、電子輸送層5を膜厚約20nmに形成し、陰極6を膜厚約100nmに形成する。 - 特許庁

The lighting system includes a light-emitting part 11 with a peak wavelength existing between 470-505 nm, and a half width at half maximum B to its peak value of 20-40 nm.例文帳に追加

ピーク波長が470〜505nm間に存在し、そのピーク値に対する半値半幅Bが20〜40nmである発光部11が備えられる。 - 特許庁

Next, a hole implanting layer 17A is formed in the thickness of 1 nm or more and 30 nm or less just above the first electrode 14.例文帳に追加

次いで、第1電極14の直上に、正孔注入層17Aを1nm以上30nm以下の厚みで形成する。 - 特許庁

例文

The coating composition comprises a silicone emulsion having an average particle size ranging from 50 nm to 800 nm.例文帳に追加

エマルジョンの平均粒子径が50nm〜800nmの範囲にあるシリコーンエマルジョン溶液を含有することを特徴とするコーティング組成物。 - 特許庁


例文

An optically anisotropic layer has an Re retardation value in 10-100 nm range, and further inequalities (I) and (II) are satisfied, (I) 0.1<Re(40')/Re(632.8 nm)<2.0,例文帳に追加

(I) 0.1<Re(40゜)/Re(632.8nm)<2.0(II) 0.1<Re(−40゜)/Re(632.8nm)<1.0[各レターデーション値は、波長632.8nmの光で測定したもの。 - 特許庁

The first titanium oxide layer 3 has a thickness of 1 nm or more, and the total film thickness of the first and second titanium oxide layers 3 and 5 is less than 30 nm.例文帳に追加

第1の酸化チタン層3は、厚さが1nm以上であり、第1および第2の酸化チタン層3,5の合計膜厚が30nm未満である。 - 特許庁

The movable range of an indenter 1 is 100 μm and its resolution is 1 nm, and the movable range of a sample stage 5 is 20 nm and its resolution is 1 μm.例文帳に追加

圧子1の可動範囲は100μmで分解能は1nm、試料ステージ5の可動範囲は20mmで分解能は1μmとする。 - 特許庁

The second ferromagnetic layer is formed between the front end layer and the tunnel barrier layer, and has thickness of about 0.5 nm to about 2 nm.例文帳に追加

第2強磁性層が、前端層とトンネル障壁層との間に形成されていて、約0.5nm〜約2nmの厚さを有する。 - 特許庁

例文

In the reflection decreasing material, a maximum value for a difference in the amplitude of a reflection factor in a region from a light wavelength 500 nm to 650 nm is 1% or lower.例文帳に追加

この減反射材は、光の波長500nmから650nmの領域における反射率の振幅の差の最大値が1%以下である。 - 特許庁

例文

The active layer 25 is provided to generate light having a peak wavelength in a range of 480 nm or more and 600 nm or less.例文帳に追加

活性層25は波長480nm以上600nm以下の範囲にピーク波長を有する光を発生するように設けられる。 - 特許庁

The first exciting beam is defined as the light beam in the wavelength near 980 nm, while the second exciting beam is defined as the light beam in the wavelength near 790 nm.例文帳に追加

第一の励起光を980nm付近の波長帯域の光、第二の励起光を790nm付近の波長帯域の光とする。 - 特許庁

The thickness of the buffer layer 102 is formed into nearly 250 nm and that of the superconductor layer is formed into nearly 100 to 120 nm.例文帳に追加

緩衝層102は、膜厚250nm程度に形成され、超伝導体層103は、膜厚100〜120nm程度に形成されている。 - 特許庁

The particle size of the photo-active titanium oxide particle (TI) is preferably 3 to 200 nm, the particle size of the photo-active zinc oxide particle (ZN) is preferably 25 to 400 nm.例文帳に追加

光活性酸化チタン粒子(TI)の粒子径は3〜200nm、光活性酸化亜鉛粒子(ZN)の粒子径は25〜400nmが好ましい。 - 特許庁

The silicon oxide film 8 has a thickness of 15-40 nm while the silicon nitride film 9 has a thickness of 20-50 nm.例文帳に追加

酸化シリコン膜8は15nm〜40nmの厚さであり、窒化シリコン膜9は20nm〜50nmの厚さである。 - 特許庁

Sum frequency generation means 3 and 4 generate sum frequency light having the wavelength of 185 to 250 nm or 185 to 213 nm.例文帳に追加

和周波発生手段3,4は、波長が185〜250nmもしくは波長185〜213nmの和周波光を発生する。 - 特許庁

The illuminator 4 comprises an LED (light emitting diode) 4a emitting red light and LED 4b emitting green light of a wavelength some 500 nm to some 600 nm.例文帳に追加

照明4は、赤色を発光するLED4aと波長500nm程度〜600nm程度の緑色を発光するLED4bとからなる。 - 特許庁

The hologram 7 for detecting track exists at upper half part of the 650 nm beam and does not exist at lower half part of the 650 nm beam.例文帳に追加

トラック検出用ホログラム7は、650nmビームの上半分に有り、650nmビームの下半分にはない。 - 特許庁

The resulting bismuth vanadate fine particles have an average minor axis size of 1-100 nm, an average major axis size of 30 nm to 1 μm and an average aspect ratio of 5-50.例文帳に追加

得られたバナジン酸ビスマス微粒子は平均短軸が1〜100nm,平均長軸が30nm〜1μm、平均アスペクト比が5〜50である。 - 特許庁

The island-shaped structures 31, 33 are 400 to 900 nm in average pitch and are 2.0 to 7.0 nm in average height.例文帳に追加

島状構造体31,33は、その平均ピッチが400〜900nmであり、その平均高さが2.0〜7.0nmである。 - 特許庁

Preferably, the copper vapor deposition layer on the coating layer is 0.02-1 nm thick, and the metal oxide layer is 10-100 nm thick.例文帳に追加

樹脂系塗工層上に設ける銅蒸着層が、0.02〜1nmの厚さであり、金属酸化物層の厚さが、10〜100nmであることが好ましい。 - 特許庁

This percutaneous absorbent comprises a physiologically active component using a polymer (nonaparticle) having 1 nm to 500 nm particle diameter.例文帳に追加

本発明の経皮吸収剤は、1nm〜500nmの粒径を有する高分子(ナノ粒子)を用いて生理活性成分を含有することにより得られる。 - 特許庁

Layer thickness of at least one among the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer is within the range of 3 nm to 12 nm.例文帳に追加

フリー強磁性層及びピンド強磁性層の少なくとも一方の層厚は、3nm〜12nmの範囲内である。 - 特許庁

Preferably, the minor and major axes of the anisotropic rutile-type titanium oxide particle are designed to 5-100 nm and 60-300 nm, respectively.例文帳に追加

好ましくは、前記異方性のルチル型酸化チタン粒子の短軸の長さを5〜100nm、長軸の長さを60〜300nmに設計する。 - 特許庁

The average intermolecular distance L represented by formula (n is mol concentration [mol/L] of mixed fullerene; N_A is Avogadro's number; R is diameter [nm] of fullerene molecule) of fullerene in the resin composition is 3nm-12nm.例文帳に追加

式中、nはフラーレンの配合モル濃度[mol/L]を、N_A はアボガドロ数を、Rはフラーレン分子の直径[nm]を表わす。 - 特許庁

To provide a method for producing an aromatic polyether which is more improved to reduce discoloring around 400 nm and 600 nm and is excellent in transparency.例文帳に追加

400nm付近および600nm付近の着色をより一層低減せしめた、透明性に優れた芳香族ポリエーテルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The steel sheet has a coating having an average film thickness of 10 nm to 2,000 nm and containing crystalline lamellar material on the surface of the sheet.例文帳に追加

鋼板の表層には、平均膜厚が10nm〜2000nmである結晶性層状物を含有する皮膜を有する。 - 特許庁

To provide iron oxyhydroxide particles having a major axis length of 200 nm or less, preferably 100 nm or less, and having a narrow particle size distribution.例文帳に追加

200nm以下、好ましくは100nm以下の長軸長を有し、かつ粒度分布が狭いオキシ水酸化鉄粒子を提供することを目的とする。 - 特許庁

A needlelike structure composed of AlN with a height of 0.5 nm to 5 nm is formed on a main surface of a specified single crystal substrate.例文帳に追加

所定の単結晶基板の主面上に、高さが0.5nm〜5nmのAlNからなる針状構造を形成する。 - 特許庁

The ultraviolet ray film 2 is coated to have transmittance of 5 to 50% at 360 nm, and not more than 85% at 380 nm.例文帳に追加

紫外線吸収膜2は360nmの透過率が5〜50%、380nmの透過率が85%以下となるように塗布されている。 - 特許庁

Further, a particle size of the conductive particle is 10 to 100 nm, and that of the precious metal particulates is 1 to 10 nm.例文帳に追加

また導電性粒子の粒子径は10〜100nmであり貴金属微粒子の粒子径は1〜10nmである。 - 特許庁

The film thickness of the metal nitride film 106 at the bottom of the via-hole 105b is ≥4 nm and <8 nm.例文帳に追加

ビアホール105bの底部における金属窒化膜106の膜厚は、4nm以上であって且つ8nm未満である。 - 特許庁

The obtained nano-size silicon carbide tube has ≤100 nm outer diameter and ≤50 nm inner diameter.例文帳に追加

並びに、外径が100nm以下でありかつ内径が50nm以下であることを特徴とするナノサイズ炭化ケイ素チューブ。 - 特許庁

The dispersion compensating optical fiber is provided with negative dispersion and zero or a negative dispersion gradient within the wavelength range of 1520 nm to 1565 nm.例文帳に追加

分散補償光ファイバは、<半角始>1520<半角終>〜<半角始>1565nm<半角終>の範囲内で負の分散と、ゼロ又は負の分散勾配を有する。 - 特許庁

The film thickness of the gate electrode 106a is 50-250 nm, while that of the gate electrode 106b is 100-350 nm.例文帳に追加

ゲート電極106aの膜厚は50〜250nmであり、ゲート電極106bの膜厚は100〜350nmである。 - 特許庁

A P-type GaN layer 18 of at least 2 nm and at most 100 nm in thickness is formed on the P-type clad layer 16, and a metal film 20 is formed.例文帳に追加

P型クラッド層16上にP型GaN層18を2nm以上100nm以下の厚さで形成して金属膜20を形成する。 - 特許庁

The silica particles have an average primary particle diameter of 80 nm to 150 nm and a water content of not more than 1.5 wt.%.例文帳に追加

シリカ粒子は、平均一次粒子径が80nm以上150nm以下であり、かつ水分量が1.5重量%以下である。 - 特許庁

A NO_x occluding material comprises small particles below 100 nm in average particle size and large particles at least 100 nm in average particle size.例文帳に追加

NO_x 吸蔵材を、平均粒径が 100nm未満の小粒子と平均粒径が 100nm以上の大粒子とから構成した。 - 特許庁

The bearing resin material is obtained by mixing a rein with a fullerene.例文帳に追加

樹脂にフラーレン類を配合してなる軸受用樹脂材料であって、式(1)により表わされる樹脂中のフラーレン類の平均分子間距離Lが、3 nm〜12 nm - 特許庁

A positive electrode active material for the nonaqueous electrolyte battery uses iron compound consisting of nano particles having a particle size of 1 nm or more and 300 nm or less.例文帳に追加

非水電解質電池の正極活物質に粒子径が1nm以上300nm以下であるナノ粒子からなる鉄化合物を用いる。 - 特許庁

An active layer 17 is provided to generate light having a luminous wavelength of 440 nm to 550 nm.例文帳に追加

活性層17は、波長440nm以上550nm以下の範囲の発光波長の光を発生するように設けられる。 - 特許庁

In addition, the design film thickness of the oxide semiconductor film is set to 30 nm±15 nm, thus optimizing field effect mobility μ, On/Off ratio and S value.例文帳に追加

また、酸化物半導体膜の設計膜厚を30nm±15nmにすることにより、電界効果移動度μ、On/Off比、S値を最適化する。 - 特許庁

The thickness of the carbon coating film 22 is preferably 1 to 500 nm, more preferably 2 to 4 nm.例文帳に追加

カーボンコーティング膜22の膜厚は1〜500nmであることが好ましく、2〜4nmであることがより好ましい。 - 特許庁

The microcapsule 12 has a refractive index for UV-A light (320 nm to 400 nm) which is higher than that of the binder 11.例文帳に追加

マイクロカプセル12は、UV−A光(320nm〜400nm)に対する屈折率がバインダ11の屈折率以上のものが用いられている。 - 特許庁

To classify the superfine particles of nm level by excellent resolvality in a disk type superfine particles classifying device.例文帳に追加

円盤型超微粒子分級装置において、nmレベルの超微粒子を良好な分解能で分級することを目的とする。 - 特許庁

To effectively utilize an exhaust gas of a low heating value of 300 kcal/Nm^3 (1255.8 kJ/Nm^3) or less as a fuel gas of a burner.例文帳に追加

発熱量が300kcal/Nm^3 (1255.8kJ/Nm^3 )以下と低い排ガスを、バーナーの燃料ガスとして有効利用できるようにする。 - 特許庁

The third laser light source emits a green laser of about 532 nm, and the fourth laser light source emits a blue laser of about 476 nm.例文帳に追加

第3レーザ光源は、532nm程度の緑色レーザ、第4レーザ光源は、476nm程度の青色レーザを出射する。 - 特許庁

An MQW (Multiple Quantum Well) absorption layer 5 is constructed with eight layers of well layers 5A respectively with 10 nm thickness and barrier layers 5B respectively with 5 nm thickness.例文帳に追加

MQW吸収層5は、各々の厚さが10nmである8層の井戸層5Aと各々の厚さが5nmである障壁層5Bで構成される。 - 特許庁

The either one peak part of particle diameter distribution has a particle diameter of150 nm and the other peak part has a particle diameter of80 nm.例文帳に追加

粒子径分布の一方のピーク部が150nm以上であり、かつ他方のピーク部が80nm以下である。 - 特許庁

例文

The conductive layer 102 is constituted of a shapeless carbon layer which is formed by a sputtering method and whose thickness is 5 nm to 10 nm.例文帳に追加

導電層102は,スパッタ法により形成された5nm〜10nmの厚みの不定形炭素層から成る。 - 特許庁

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