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n.m.を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 14280



例文

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm.例文帳に追加

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が0.93乃至1.2である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

To provide a highly crystalline multiplayer carbon nano tube whose d-spacing, d002 of carbon hexagonal lattice faces of the tube is 0.3400 nm or less for which application development is in progress recently including application for a highly efficient electric conductor and an electron emitter for a plate display and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は多層炭素ナノチューブ及びその製造方法に関するもので、より詳しくは最近高性能導電材及び平板ディスプレー用電子放出機(電子源)(Electron emitter)等の用途開発が進められている、多層炭素ナノチューブの炭素六方格子面の面間距離(d−spacing、d_002)が0.3400nm未満である高結晶性多層炭素ナノチューブ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The chemically amplified positive resist composition for thermal lithography is for forming a resist film for thermal lithography, and the resist film, formed using the chemically amplified positive resist composition for thermal lithography, has absorbance of 0.08 or higher per 100 nm of the film thickness at the wavelength of the exposure light source, used in the thermal lithography.例文帳に追加

熱リソグラフィーに用いられるレジスト膜を形成するための熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、当該熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物を用いて形成されるレジスト膜が、前記熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長において、膜厚100nmあたり0.08以上の吸光度を有することを特徴とする熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method of producing polymer particles comprises heating an aqueous medium containing seed particles, in which an ethylenic monomer and a polymerization initiator are absorbed, and a dispersant, and polymerizing the ethylenic monomer absorbed in the seed particles, characterized in that the dispersant is a suspension containing calcium phosphate particles having the average particle diameter of at most 300 nm and polyphosphate.例文帳に追加

エチレン系単量体と重合開始剤とを吸収させたシード粒子と分散剤とを含む水性媒体を加熱して、前記シード粒子に吸収させたエチレン系単量体を重合させて重合体粒子を得る方法であって、前記分散剤が、平均粒子径が300nm以下のリン酸カルシウム粒子と重合リン酸塩とを含む懸濁液であることを特徴とする重合体粒子の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

例文

In the laminate obtained by forming and laminating at least a metal thin film layer on a film base material, the layer is made of metal or its alloy of indium or indium alloy and has a thickness of 10 to 30 nm, and the base material is a polyester film having a unit of 3 mol% or more except a polyethylene terephthalate having an ethylene terephthalate unit of 85 mol% or more.例文帳に追加

フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合金である金属または合金からなる厚さ10〜30nmの金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレート単位が85mol%以上でエチレンテレフタレート以外の単位が3mol%以上であるポリエステル系フイルムである成形用金属薄膜積層体。 - 特許庁


例文

This EL phosphor containing at least ZnS-based phosphor particles and a covering layer formed on their surfaces is provided by containing the particles having 0.1-15 μm main particle size and <35% coefficient of the variation of particle size distribution and containing30% particles containing10 pieces of laminated layer defects of ≤5 nm surface spacing in the whole particles.例文帳に追加

少なくともZnS系蛍光体粒子とその表面に形成した被覆層とを含むEL蛍光体であって、該粒子が、中心粒子サイズが0.1〜15μmであり、粒子サイズ分布の変動係数が35%未満であり、且つ、5nm以下の面間隔の積層欠陥を10枚以上含有する粒子を粒子全体の30%以上含有するEL蛍光体で、被膜層は、酸化物、窒化物、フッ化物、リン酸塩、有機化合物等である。 - 特許庁

The dielectric film 3 having an ABOx type perovskite crystal structure is formed by laminating the first thin film 31 having the ABOx type perovskite crystal structure having10 nm voids and the second thin film 32 which is formed on the first thin film 31 by applying a coating liquid of the thin film having the ABOx type perovskite crystal structure and firing and comprises the crystal particle smaller than that in the first thin film.例文帳に追加

10nm以上の空隙を有するABOx型ペロブスカイト結晶構造を有する第1の薄膜31と、この第1の薄膜31の上に、ABOx型ペロブスカイト結晶構造を有する薄膜の塗布液を塗布し更に焼成することにより形成した、その平均粒径が前記第1の薄膜の結晶粒子の平均粒径よりも小さい結晶粒子からなる第2の薄膜32と、を積層してABOx型ペロブスカイト結晶構造を有する誘電体膜3を形成する。 - 特許庁

The inkjet recording sheet provided with at least one ink receiving layer on a base material is characterized by the ink receiving layer having at least one porous ink receiving layer comprising a fine pigment and a binder resin and with two peaks or a wide peak with a shoulder in a range of fine pore diameter of 6-150 nm in a fine pore distribution curve measured by means of a mercury porosimeter.例文帳に追加

基材上に少なくとも1層のインク受容層を設けたインクジェット記録シートにおいて、該インク受容層が微細顔料とバインダー樹脂を含み、水銀ポロシメーターで測定した細孔分布曲線において細孔径6nm〜150nmの範囲に2つのピーク、または肩を有する1つの幅広いピークを有する多孔質インク受容層を、少なくとも1層有することを特徴とするインクジェット記録シート。 - 特許庁

The cleaning tape having a lower coating layer containing principally non-magnetic inorganic powder and a binder and a cleaning layer containing at least ferromagnetic inorganic powder and a binder in this order on a substrate made of an aromatic polyamide is characterized in that the surface of the cleaning layer has 3 to 6 nm surface roughness Ra and 0.4 to 2.0 mm projecting curl at room temperature.例文帳に追加

芳香族ポリアミド製支持体上に、主として非磁性無機粉末及び結合剤を含有する下層塗布層と、少なくとも強磁性粉末による無機粉末及び結合剤を含有するクリーニング層とをこの順に有してなるクリーニングテープにおいて、前記クリーニング層表面の表面粗さRaが3〜6nmであり、前記クリーニング層面が室温において凸向きに0.4〜2.0mmの範囲のカールを有していることを特徴とするクリーニングテープ。 - 特許庁

例文

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が0.93を越え1.0以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

例文

This aqueous emulsion (1) obtained by emulsion-polymerizing a monomer composition comprising at least one monomer selected from aromatic vinyl monomers and (meth)acrylate monomers, a hydroxyl group-containing vinyl monomer, and an unsaturated carboxylic acid monomer in the presence of a reactive surfactant is characterized in that the particle diameter of the aqueous emulsion (1) is 200 to 600 nm.例文帳に追加

芳香族ビニル系単量体、(メタ)アクリル酸エステル単量体から選ばれる1種以上の単量体、ヒドロキシル基含有ビニル単量体、及び不飽和カルボン酸単量体を含む単量体組成物を、反応性界面活性剤を用いて乳化重合することによって得られた水性エマルジョン(1)であって、その水性エマルジョン(1)の粒子径が200〜600nmであることを特徴とする接着剤用水性エマルジョン。 - 特許庁

The inkjet recording material performing a printing with the glycol-based ink containing60 parts mass of glycol ether per 100 parts mass of ink, has at least one porous ink receiving layer containing inorganic particulates having average secondary particle diameter of500 nm and a resin binder on a support and a surface layer containing urethane-based resin emulsion on the ink receiving layer.例文帳に追加

グリコールエーテルをインク100質量部に対して60質量部以上含有するグリコール系インクで印字するインクジェット記録材料であって、支持体上に平均二次粒子径が500nm以下の無機微粒子と樹脂バインダーを含有する多孔質のインク受容層を少なくとも一層有し、前記インク受容層上にウレタン系樹脂エマルジョンを含有する表面層を有するインクジェット記録材料。 - 特許庁

The ink jet recording material comprises an ink acceptive layer containing inorganic fine particles having primary particles of a particle size of 3 to 30 nm and provided on one side surface of a water resistant support and a back coating layer containing an organic polymer and provided on an opposite side surface of the support.例文帳に追加

耐水性支持体の片面に一次粒子の平均粒径が3〜30nmの無機微粒子を含有するインク受容層を設け、反対面に有機ポリマーを含有する裏塗り層を設けたインクジェット用記録材料において、該耐水性支持体の裏塗り層を設ける面のJIS−B−0601で規定されるカットオフ値0.8mmでの中心線平均粗さRaをA(μm)、該裏塗り層の有機ポリマーの密度をB(g/cm^3)、有機ポリマーの固形塗設量をC(g/m^2)とすると、Aが1〜5μmであり、A、B及びCが下記の式(1)を満足することを特徴とするインクジェット用記録材料。 - 特許庁

This polarizing plate includes a polarizer, and a cycloolefin polymer resin film bonded onto at least one surface of the polarizer, an average surface roughness Ra is 10 to 200 nm, in a bonded face of the cycloolefin polymer resin film onto the polarizer, and a transmission-axis-directional shrinkage rate of the polarizer is 20% or less, after standing for 10 hours under the atmosphere of 105°C.例文帳に追加

偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の表面に貼合される環状オレフィン系樹脂フィルムとを含み、該環状オレフィン系樹脂フィルムの前記偏光子との貼合面の平均表面粗さRaが、10nm以上200nm以下であり、及び前記偏光子を温度105℃の雰囲気中に10時間放置した後の偏光子の透過軸方向収縮率が20%以下であることを特徴とする偏光板である。 - 特許庁

This invention relates to use of a combination of sunscreening agents comprising suncreening agent of 2-(4-alkoxyanilino-methylene)malonic acid dialkyl ester and at least one kind of specific suncreening agent having absorption in UV-A area, UV-B area or these both areas as a photostable UV filter in cosmetic and pharmaceutical preparation for protecting human epidermis or human hair from ultraviolet light, particularly ultraviolet light having 320-400 nm area.例文帳に追加

UV-A領域に吸収をもつ2-(4-アルコキシアニリノ-メチレン)マロン酸ジアルキルエステルと、UV-A領域、UV-B領域またはその両方の領域に吸収をもつ少なくとも1種の特定のさらなるサンスクリーン剤とを含むサンスクリーン剤の組合せの、紫外線、特に320〜400nmの領域の紫外線からヒトの表皮または毛髪を防御するための化粧品および医薬製剤における光安定性UVフィルターの組合せとしての使用。 - 特許庁

The inkjet recording ink comprises a dispersion which has an average particle diameter of 50 to 300 nm and is prepared by dispersing a pigment with a polymer comprising50 wt.% of benzyl acrylate and ≤15 wt.% of methacrylic acid and/or acrylic acid as constituents, and fine fluorine element-containing polymer particles having a glass transition temperature of ≤0°C and an acid value of100 mgKOH/g.例文帳に追加

構成成分として50重量%以上のベンジルアクリレートと、15重量%以下のメタクリル酸および/またはアクリル酸とが重合されたポリマーを用いて顔料を水に分散可能とした、平均粒径が50nm以上300nm以下の分散体と、ガラス転移温度が0℃以下で、且つ酸価が100mgKOH/g以下であるフッ素元素を含む高分子微粒子とを含んでなるインクジェット記録用インク。 - 特許庁

The heat developable photosensitive material having an image forming layer containing organic silver salts, silver halides, a binder and a reducing agent on a the supporting body, is characterized in that the silver halides contain a silver halide having 5 to 35 nm average particle size, the reducing agent is a bisphenol derivative expressed by general formula (A), and the image forming layer contains at least two kinds or more of organic polyhalogen compounds.例文帳に追加

支持体上に、有機銀塩、ハロゲン化銀、バインダーおよび還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、前記ハロゲン化銀が平均粒子サイズが5〜35nmのハロゲン化銀を含有し、前記還元剤が下記一般式(A)で表されるビスフェノール誘導体であり、かつ前記画像形成層に少なくとも2種以上の有機ポリハロゲン化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁

The resist pattern miniaturization material is the material applied on the resist pattern formed by exposing and developing a photoresist film and miniaturizing the resist pattern by developing after the heat treatment, a liquid including alcohol of a straight-chain or forked alkyl group having one to twelve (12) carbon number filtered by a filter having a hole diameter of not more than 40 nm, and includes an interfacial active agent and/or water.例文帳に追加

フォトレジスト膜を露光および現像することによって形成されるレジストパターン上に塗布し、該レジストパターンを熱処理後現像することで微細化させるための材料であって、該レジストパターン縮小化材料は、孔径40nm以下のフィルターで濾過された炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状アルキル基のアルコールを含む液体であり、さらに界面活性剤および/または水を含有する。 - 特許庁

Amorphous strontium aluminate nanotubes are generated by heating the aqueous solution of the mixture of aluminum nitrate nonahydrate, strontium nitrate, urea, n-butanol and cetyltrimetylammonium bromide at 115-150°C and for 10 hours or more in a pressure vessel and then the crystalline strontium aluminate nanotubes having an outside diameter of 150-200 nm are produced by heating the nanotubes at 1,250-1,350°C and for 3-10 hours.例文帳に追加

硝酸アルミニウム九水和物、硝酸ストロンチウム、尿素、n−ブタノールおよび臭化セチルトリメチルアンモニウムの混合物の水溶液を圧力容器中で115〜150℃に10時間以上加熱して非晶質アルミン酸ストロンチウムナノチューブを生成させた後、さらに、該ナノチューブを1250〜1350℃に3〜10時間加熱して外径150〜200nmの結晶性アルミン酸ストロンチウムナノチューブを製造する。 - 特許庁

Thus, the light of the peak wavelength near 580 nm from the LED light emitting element does not so dazzling as compared to red light from a general red LED light emitting element, so that the user has no discomfort or is not tired from nervousness, and the code symbols in various colors currently on the market are imaged with contrast between the bard and the background required for the image processing in the image processor.例文帳に追加

これにより、LED発光素子からの580nm付近のピーク波長の光は、一般的な赤色LED発光素子からの赤色光に比べて人間の目に眩しくないので、ユーザを不快にさせることはなく、または緊張感からの疲労を与えることがなく、かつ、画像処理装置において現在の市場に存在する様々な色のコードシンボルを画像処理に必要なバーと下地とのコントラストを確保した撮像を得ることができる。 - 特許庁

This cathode-ray tube protecting laminated polyester film consists of at least three layers containing a pigment in the inside layer, and a coating deposited on the film has a light transmissivity in the range of 25-80% for a light of 550 nm, covered by a hard layer consisting of laminated polyester film for protecting cathode-ray tube, and a hardening layer originating from active energy ray hardening resin.例文帳に追加

染料または顔料を内層に含有する、少なくとも3層以上からなる積層ポリエステルフィルムであって、当該フィルムの製造工程内で設けられた塗布層を有し、550nmの光線透過率が25〜80%の範囲にあることを特徴とするブラウン管保護用積層ポリエステルフィルム、および当該フィルムの塗布層上に、活性エネルギー線硬化樹脂由来の硬化層を設けてなることを特徴とするブラウン管保護用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

An yttria coating 50 covering a chamber 11 that the substrate treatment apparatus performing plasma etching on the wafer has comprises: an yttria base layer 51 laminated on an internal wall; and an yttria upper layer 52 laminated on at least part of the yttria base layer 51, wherein the structure of the yttria upper layer 52 is coarser than the structure of the yttria base layer 51 since sizes of particles constituting the yttria layer is ≥250 nm.例文帳に追加

ウエハWにプラズマエッチングを施す基板処理装置が備えるチャンバ11を被覆するイットリア皮膜50は、内壁に積層されたイットリア基層51と、該イットリア基層51の少なくとも一部に積層されたイットリア上層52とからなり、イットリア上層52の構造は、イットリア層を構成する粒子の大きさが250nm以上であることによりイットリア基層51の構造よりも疎である。 - 特許庁

The cosmetic or dermatological compositions comprise at least one photoprotective system containing at least one inorganic insoluble UV-screening agent with a particle size ranging from 5 nm to 5 μm, capable of screening out UV rays, and also comprises at least one amphiphilic polymer having at least one ethylenically unsaturated monomer containing a sulfonic group in a free form or partially or totally neutralized form, and containing at least one hydrophobic portion.例文帳に追加

nm〜5μmの範囲の粒径を有する少なくとも一の無機不溶性のUV-遮蔽剤を含有し、UV線を遮蔽可能な少なくとも一の光保護系を含有する化粧品用又は皮膚用組成物において、少なくとも一の疎水性部分を含み、フリーの形態もしくは部分的又は全体的に中和された形態でスルホン基を含む少なくとも一のエチレン性不飽和モノマーを有する少なくとも一の両親媒性ポリマーをさらに含有することを特徴とする組成物。 - 特許庁

Furthermore, the method of manufacturing optical compensation element, having the optical anisotropic layer formed from the composition which contains at least the liquid crystalline compound, comprises a process of changing at least one of the in-plane retardations Re and the retardations Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer by 5 nm or larger, by making a part of liquid crystalline molecules in the optical anisotropic layer elute according to the solution treatment.例文帳に追加

また、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償素子の製造方法であって、溶液処理によって、前記光学異方性層中の液晶性分子の一部を溶出させて、前記光学異方性層の面内レターデーションRe及び厚み方向のレターデーションRthのうち少なくとも一方を5nm以上変化させることを含む光学補償素子の製造方法である。 - 特許庁

This kind of laminated structure improves the transmittance characteristics in the visible light region (for example, 400-800 nm) compared with a monolayer pixel electrode.例文帳に追加

即ち、ITO膜と光学薄膜の積層膜に入射する光のうち、積層膜を透過する光と、プラズマ窒化膜91,92と空気との界面で反射した光がプラズマ窒化膜91,92とITOとの界面で反射してプラズマ窒化膜91,92から空気中に出射される光とが干渉を起こして、強め合い、このような積層構造は、画素電極が1層の場合に比べて、可視項領域(例えば400・800nm)の透過率特性を改善することができる。 - 特許庁

The laminated film: includes a structure obtained by laminating 50 or more of layers (A layers) composed of polyester resin A wherein a sum of optical thicknesses of the adjacent layers is in a range of 140-700 nm and 50 or more of layers (B layers) composed of polyester resin B; and has at least one reflection band with 50% or more of a relative reflectance.例文帳に追加

隣り合う層の光学厚みの和が140〜700nmの範囲となるポリエステル樹脂Aからなる層(A層)とポリエステル樹脂Bからなる層(B層)を交互にそれぞれ50層以上積層した構造を含み、相対反射率が50%以上となる反射帯域を少なくとも1つ有する積層フィルムであって、ポリエステル樹脂Aからなる未延伸フィルムの平衡水分率をa、該積層フィルムにおける体積分率をxとし、ポリエステル樹脂Bからなる未延伸フィルムの平衡水分率をb、該積層フィルムにおける体積分率をyとしたときに、前記積層フィルムの平衡水分率cとしたとき、下記(1)式を満たすことを特徴とする積層ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by disposing on a support at least a photosensitive layer having a crosslinked surface layer, wherein the photosensitive layer has sensitivity to light having a wavelength of 400-450 nm, and the crosslinked surface layer is formed by crosslinking and curing at least a trifunctional or higher functionality radical polymerizable monomer having no charge transport structure and a monofunctional radical polymerizable monomer having a charge transport structure.例文帳に追加

少なくとも、電子写真感光体を帯電し、画像露光し、潜像を形成し、トナーによって潜像を現像してトナー像を形成し、転写材へ転写し、転写材上のトナー像を定着手段によって定着する画像形成方法において、電子写真感光体が支持体上に少なくとも架橋表面層を有する感光層を設けたものであり、該感光層が波長400nm〜450nmの光に感度を有し、且つ該架橋表面層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと1官能性の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとを架橋硬化することによって形成されたものである画像形成方法。 - 特許庁

The polyester film roll is obtained by winding the polyester film wherein the three-dimensional average surface roughness of one surface (A) of the polyester film is10 nm while the surface resistivity (Ω) of the other surface (B) is within the range represented by the formula 1: logΩ≥12.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの一方の表面(A)の三次元平均表面粗さが10nm以下であり、もう一方の表面(B)の表面固有抵抗値(Ω)が下記式1で示される範囲であるポリエステルフィルムを巻きとってなるポリエステルフィルムロールであって、前記ポリエステルフィルムロールから前記ポリエステルフィルムを0m/分を超え150m/分以下の巻き出し速度で巻き出した際の前記ポリエステルフィルムにおける巻き出し帯電量(E)が下記式2で示される範囲であって、かつ前記ポリエステルフィルム上の高低差3mm以上の隆起状欠点が5個/5000m^2以下であることを特徴とするポリエステルフィルムロール。 - 特許庁

The fine particle dispersion is obtained by dispersing primary fine particles, having the average particle diameter in a range of 50 nm to 10 μm and a Cv value of the particle diameter of 10% or less, in a medium.例文帳に追加

平均粒子径が50nm〜10μmの範囲にあり且つ粒子径のCv値が10%以下である第一微粒子が媒質中に分散してなる微粒子分散体であって、 前記分散体中における前記第一微粒子の配列構造が、アモルファス構造であり且つ下記条件(A)及び(B):[条件(A)] 前記分散体の走査型電子顕微鏡写真に基いて下記式:g(r)={1/〈ρ〉}×{dn/da}[式中、g(r)は動径分布関数を示し、〈ρ〉は平面内の平均粒子密度を示し、dnは任意の第一微粒子からの距離rの円と距離r+drの円との間の領域中に存在する第一微粒子の数を示し、daは前記領域の面積(2πr・dr)を示す。 - 特許庁

例文

or by a continuous process at a gas flowing rate not less than 1 Nm^3/kg; heat treating a polyvinyl alcohol based resin or its molding in a gas containing not less than 0.5 volume % to 15 volume % of oxygen.例文帳に追加

脱水剤を0.2重量%以上1重量%以下付着させたポリビニルアルコール系樹脂又はその成形物を原料とし、これを熱処理する、ポリビニルアルコール系樹脂又はその成形物を原料とし、該原料を酸素を含む雰囲気下で、原料投入量あたりのガス流量が1Nm^3/hr・kg以上のバッチ方式又は原料投入量あたりのガス流量が1Nm^3/kg以上の連続方式により熱処理する、ポリビニルアルコール系樹脂又はその成形物を原料とし、該原料を0.5容量%以上15容量%以下の酸素含有気体中で熱処理して炭素質物質を得、これを賦活して活性炭とする。 - 特許庁

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