「nd:yag」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

WELDING OF BELLOWS USING PULSE MODULATION TYPE Nd-YAG LASER HAVING PEAK ENERGY例文帳に追加

ピークエネルギーを有するパルス変調型Ｎｄ−ＹＡＧレーザーを用いたべローズ溶接 - 特許庁

The scanning speed is preferably ≥ 100 mm/s, and the ultraviolet ray laser beams are preferably 3-5 wave ultraviolet ray laser beams of Nd : YAG, ND : YLF, or Nd : YVO_4.例文帳に追加

スキャン速度は１００ｍｍ／ｓ以上が好ましく、紫外線レーザは、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦまたはＮｄ：ＹＶＯ_４ の３〜５倍波紫外線レーザが好ましい。 - 特許庁

CLEANING OF INK JET PRINTING HEAD USING ULTRAVIOLET LASER AND GREEN Nd-YAG LASER例文帳に追加

紫外線レーザー及び緑色Ｎｄ−ＹＡＧレーザーを使用したインクジェットプリントヘッドのクリーニング - 特許庁

METHOD OF FORMING CHAMFERED BLIND HOLE IN SURGICAL NEEDLE USING DIODE-PUMPED ND-YAG LASER例文帳に追加

ダイオードポンプＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いて外科用針に面取りされた止まり穴を形成する方法 - 特許庁

To provide a method of performing laser marking not on the surface but in the interior of transparent goods formed of polyamide resin, by Nd-YAG laser.例文帳に追加

Ｎｄ−ＹＡＧレーザーにより透明ポリアミド樹脂成形品の表面ではなく内部にレーザーマーキングを行うこと。 - 特許庁

After raising the temperature of a glass substrate up to a prescribed temperature, the glass substrate is irradiated with a condensed third harmonic wave of Nd:YAG laser.例文帳に追加

ガラス基材を所定温度まで昇温した後、当該ガラス基材に対してＮｄ：ＹＡＧレーザーの３倍波を集光照射する。 - 特許庁

In a resonator 22, a titanium sapphire luminous medium 21 and an Nd:YAG optical absorber 23 are provided.例文帳に追加

共振器２２の中にチタンサファイアよりなる発光媒質２１とＮｄ：ＹＡＧよりなる光吸収体２３を備える。 - 特許庁

Further, the impurity region of the thin-film transistor is activated, by irradiating it with the light of an Nd:YAG laser.例文帳に追加

さらに、薄膜トランジスタの不純物領域をＮｄ：ＹＡＧレーザーの光を照射することで活性化させる。 - 特許庁

In this method, laser beams of the wavelength of 532 nanometer to be obtained by extracting second higher harmonic of the Nd:YAG laser, or laser beams of the wavelength of 355 nanometer to be obtained by extracting third higher harmonic of the Nd:YAG laser are used for the marking laser beams.例文帳に追加

マーキング用レーザ光として、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波を取り出して得られる波長が５３２ナノメートルのレーザ光、又は同レーザの第３高調波を取り出して得られる波長が３５５ナノメートルのレーザ光のいずれかを用いる。 - 特許庁

A Raman cell 1, having collimate lens 2a and 2d at the incident part and outgoing part of laser beams with Nd: YAG laser fourth higher harmonics in which hydrogen gas is used as a medium, is divided into operating sections in two stages, that is, lens 2a-2b and lens 2c-2d by two calcium fluoride lens 2b and 2c.例文帳に追加

Nd：YAGレーザ第４高調波のレーザ光の入射部と出射部にコリメートレンズ２ａ，２ｄを有し、水素ガスを媒体とするラマンセル１の内部を、２枚の弗化カルシウムレンズ２ｂ，２ｃにより、レンズ２ａ−２ｂ間、及びレンズ２ｃ−２ｄ間の２段の作用区画を設ける。 - 特許庁

A YAG laser light 2 (wavelength of 1.06 μm) generated at a Nd: YAG laser oscillator 1 is totally reflected in a rectangle direction by a lens 6, an optical fiber 7, and a 45 degree total reflection mirror 51.例文帳に追加

Ｎｄ：ＹＡＧレーザ発振器１で発生したＹＡＧレーザ光２（波長１．０６μｍ）は、レンズ６、光ファイバ７、４５度全反射鏡５１により直角方向に全反射する。 - 特許庁

Excitation light 15 emitted from a semiconductor laser 1 is condensed by a lens 2 and cylindrical lenses 3 and 4 and then excites both an Nd:YAG crystal 8 and an Nd:YVO_4 crystal 9.例文帳に追加

半導体レーザ１から出力される励起光１５はレンズ２、シリンドリカルレンズ３、４によって集光され、Ｎｄ：ＹＡＧ結晶８とＮｄ：ＹＶＯ_４結晶９の両方を励起する。 - 特許庁

On the other hand, a Ti:SA laser beam source L3 is oscillated by the second higher harmonic of the laser beam radiated from an Nd:YAG on Nd:YLF laser beam source L2 as exciting light.例文帳に追加

一方、Ｎｄ：ＹＡＧもしくはＮｄ：ＹＬＦレーザ光源Ｌ２から放出されるレーザ光の第２高調波を励起光としてＴｉ：ＳＡレーザ光源Ｌ３を発振させる。 - 特許庁

To provide a method for putting, on a resin base material for a biomedical material, a marking fully visible and having no risk of having an adverse effect on a human body, by using a general purpose Nd:YAG laser or an Nd:YVO_4 laser, and also to provide a marked synthetic resin member to be buried in a living body.例文帳に追加

汎用のＮｄ：ＹＡＧレーザーまたはＮｄ：ＹＶＯ_４レーザーを用いて、十分な視認性を有し且つ人体に悪影響を及ぼす恐れのないマーキングを生体材料用樹脂基材に施すことができる方法およびマーキングされた生体埋植用合成樹脂部材を提供する。 - 特許庁

As a laser beam generating means in the laser perforating device, a means of generating a higher harmanic of Nd; YLF pulse laser or Nd; YAG pulse laser is provided, and the pulse width of the pulse laser is set at 100-300 (nsec).例文帳に追加

レーザ穴あけ加工装置におけるレーザ光の発生手段としてＮｄ；ＹＬＦパルスレーザあるいはＮｄ；ＹＡＧパルスレーザの高調波を発生する手段を備え、該パルスレーザのパルス幅が１００〜３００（ｎｓｅｃ）に設定されている。 - 特許庁

To provide a method which can prevent heterogeneous precipitation forming a Ce-enriched phase, a Nd-enriched phase or the like, without lowering production efficiency, in the growth of a garnet type oxide single crystal added with a luminescent element such as Ce:GGAG or Nd:YAG.例文帳に追加

Ｃｅ：ＧＧＡＧやＮｄ：ＹＡＧなど、発光元素を添加したガーネット型酸化物単結晶の育成において、生産効率を低下させることなく、Ｃｅリッチ相やＮｄリッチ相などの異相析出を防止できる方法を提供する。 - 特許庁

A normal output from an ultraviolet laser and a green Nd-YAG laser is frequency multiplied to enable removing particles and thin films from ink jet printer components.例文帳に追加

インクジェットプリンター構成要素から粒子及び薄膜を除去できるようにするため、紫外線レーザ及び緑色Ｎｄ−ＹＡＧレーザーからの通常の出力を周波数逓倍する。 - 特許庁

To provide a composite laser element which solves problems of a laser medium composed of a conventional Nd: YAG single crystal or a polycrystal, and displays excellent performance as the laser medium.例文帳に追加

従来のＮｄ：ＹＡＧ単結晶又は多結晶からなるレーザー媒質の問題点を解消し、レーザー媒質として優れた性能を発揮できる複合レーザー素子を提供する。 - 特許庁

The yttria ceramic substrate is obtained by irradiating a yttria ceramic substrate, obtained by firing yttria having a purity of ≥99.9 wt.%, with Nd:YAG laser light to form an oxygen defect area in the surface.例文帳に追加

本イットリアセラミックス基材は、純度９９．９重量％以上のイットリアを焼成して得られるイットリアセラミックス基材に、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光を照射し、表面に酸素欠陥領域が形成される。 - 特許庁

A portion between a first reflection mirror 5 and a third reflection mirror 7 serves as a laser resonator using the induced emission transition of a wavelength of 946 nm of the Nd:YAG crystal 8.例文帳に追加

第１の反射鏡５と第３の反射鏡７の間が、Ｎｄ：ＹＡＧ結晶８の波長９４６ｎｍの誘導放出遷移を利用したレーザ共振器となっている。 - 特許庁

The surface of the glass substrate by an optical system 54 is irradiated with the second harmonics of Nd:YAG laser as laser beam slantingly from the front side of the glass substrate 2 disposed on the stage 55a.例文帳に追加

載置されたガラス基板２に対して、光学系５４により表側の面からレーザ光としてＮｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波がガラス基板２の面に対して斜めに照射される。 - 特許庁

Laser beams generated from an Nd:YAG laser-beam source 8 arranged outside the vacuum chamber 7 are collected by a lens 9 and introduced into the vacuum chamber 7.例文帳に追加

真空チャンバー７の外に配置されたＮｄ：ＹＡＧレーザ光源８から発生したレーザ光は、レンズ９で集光されて真空チャンバー７内へ導かれる。 - 特許庁

A second harmonic wave of a Nd:YAG laser as a laser beam is applied to the placed glass substrate 2 from the front-side surface obliquely with respect to the surface of the glass substrate 2 by an optical system.例文帳に追加

載置されたガラス基板２に対して、光学系により表側の面からレーザ光としてＮｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波がガラス基板２の面に対して斜めに照射される。 - 特許庁

The medium 21 is made to emit light by making 532 nm pumping light L2 generated by using an Nd: YAG laser 11 and a secondary higher harmonic generator 12 incident on the medium 21.例文帳に追加

発光媒質２１にＮｄ：ＹＡＧレーザー１１および２次高調波発生装置１２を用いて発生させた５３２ｎｍの励起光Ｌ２を入射して発光させる。 - 特許庁

Pulse Nd:YAG laser operated with a parameter capable of avoiding delamination, crack or other damage of the ceramic film 20 surrounding the cooling hole 12 is used in this method.例文帳に追加

本方法は、冷却孔（１２）周囲のセラミック皮膜（２０）の層間剥離、亀裂その他の損傷も避けられるパラメータで動作させたパルスＮｄ：ＹＡＧレーザを用いる。 - 特許庁

The basic laser beam of 1000 to 1100 nm in wavelength radiated from an Nd:YAG laser beam source L1 is made incident on a nonlinear optical crystal C1 to generate second higher harmonic which is introduced to a nonlinear optical crystal C3 for first sum frequency generation.例文帳に追加

Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光源Ｌ１から放出される基本レーザ光を非線形光学結晶Ｃ１に入射して第２高調波を発生させ、第１の和周波発生用非線形光学結晶Ｃ３に導く。 - 特許庁

In the Raman spectroscopic measuring apparatus which is used to analyze a sample S, such as a living body sample, pulse-shaped near-infrared light at a wavelength of 1,064 nm from an Nd:YAG laser light source 10 is used as the excitation light, with which the sample is irradiated.例文帳に追加

生体試料などの試料Ｓの分析に用いるラマン分光測定装置において、試料に照射する励起光として、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光源１０からの波長１０６４ｎｍのパルス状の近赤外光を用いる。 - 特許庁

An optical harmonics generation equipment 10 excites an optical resonator by pumping an active medium 30 such as Nd: YAG rod, for instance, with an electric optical exciting apparatus 20.例文帳に追加

光高調波発生装置１０は、たとえばＮd：ＹＡＧロッドのような活性媒質３０を電気光学励起装置２０によりポンピングして光共振器を基本波長で励起する。 - 特許庁

To provide an insulated wire with an insulating film that facilitates peeling by thermally decomposing the insulating film by heat generated in absorption of Nd-YAG laser beam by an optical absorber, and also to provide a rotary device that is reduced in size even with the same output by using the insulated wire.例文帳に追加

Ｎｄ−ＹＡＧレーザー光を光吸収剤に吸収させたときに生じる発熱により絶縁皮膜を熱分解することで、絶縁皮膜を容易に剥離できる絶縁電線を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method is carried out in such a manner that an amorphous silicon film is formed above the surface of an insulating layer through a CVD method, hydrogen contained in the amorphous silicon film is eliminated through heating, and the amorphous silicon film is irradiated with an Nd:YAG laser to turn crystalline.例文帳に追加

絶縁表面の上方に、ＣＶＤ法でアモルファスシリコン膜を形成し、加熱してアモルファスシリコン膜内の水素を離脱させた後、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーを照射して結晶化する。 - 特許庁

The light is amplified by means of the resonator 22, and at the same time, selected according to the optical characteristics of the resonator 22 and the absorption spectrum of the Nd:YAG optical absorber 23.例文帳に追加

この光は共振器２２により増幅されると共に、共振器２２の光学特性およびＮｄ：ＹＡＧよりなる光吸収体２３の吸収スペクトルに応じて選択される。 - 特許庁

In the recording and reproducing apparatus 30, the optical recording medium 10 is irradiated with a laser beam from a Nd:YAG laser 33 via a dichroic mirror 34 and a lens 32.例文帳に追加

記録再生装置３０では、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ３３からのレーザ光が、ダイクロイックミラー３４およびレンズ３２を介して光記録媒体１０に照射される。 - 特許庁

This embodiment comprises a first solid laser medium 13A composed of Nd: YVO4 having an absorption wavelength of 808.9 nm, and a second solid laser medium 13B composed of Nd: YAG having an absorption wavelength of 808 nm; and first and second laser diodes 17, 18 for emitting laser beams of the same wavelength as the absorption wavelength of each of the first and second solid laser media 13A, 13B.例文帳に追加

808.9 ｎｍの吸収波長を有するＮｄ：ＹＶＯ４からなる第１の固体レーザー媒体１３Ａおよび808 ｎｍの吸収波長を有するＮｄ：ＹＡＧからなる第２の固体レーザー媒体１３Ｂと、第１および第２の各固体レーザー媒体１３Ａ，１３Ｂの吸収波長と同一の波長のレーザー光を発光する第１および第２のレーザーダイオード１７，１８とを備える。 - 特許庁

As laser light for marking, either laser light with a wavelength of 532 nm obtained by taking out second harmonic of Nd:YAG laser or laser light with a wavelength of 355 nm obtained by taking out third harmonic of the same laser is used.例文帳に追加

マーキング用レーザ光として、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第２高調波を取り出して得られる波長が５３２ナノメートルのレーザ光、又は同レーザの第３高調波を取り出して得られる波長が３５５ナノメートルのレーザ光の、いずれかを用いる。 - 特許庁

The thin film transistor 19 comprises a semiconductor film 4 comprising a source and drain region 3 and poly-crystalline silicon, processed by laser annealing method employing Nd:YAG (yttrium-aluminum-garnet) second high harmonics; and an interlayer dielectric 6 for covering the semiconductor film 4.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１９は、ソースおよびドレイン領域３を含み、Ｎｄ：ＹＡＧ（イットリウム−アルミニウム−ガーネット）第２高調波を用いたレーザアニール法により多結晶化されたシリコンを含む半導体膜４と、半導体膜４を覆う層間絶縁膜６とを有する。 - 特許庁

To provide a marking method of a nitride semiconductor substrate, which is capable of marking a surface of a nitride semiconductor substrate by a laser beam of a prescribed wavelength region including a fundamental wave and a second harmonic wave of Nd-YAG laser, and to provide a nitride semiconductor substrate.例文帳に追加

Ｎｄ−ＹＡＧレーザの基本波及び第２高調波を含む所定の波長領域のレーザ光により窒化物半導体基板の表面にマーキングすることを可能とする窒化物半導体基板のマーキング方法及び窒化物半導体基板を提供する。 - 特許庁

Light used in a crystal separation process is, e.g. light emitted from a Q-switched Nd:YAG laser apparatus or the like, and its irradiation conditions are, e.g. an emission wave length of 355 nm, irradiation intensity of 400-600 mJ/cm^2, and a temperature of the substrate of 1,150-600°C.例文帳に追加

結晶分離工程で用いる光は、例えばＱスイッチドＮｄ：ＹＡＧレーザ装置からの出力光等が有用で、照射条件は、例えば、発光波長：３５５ｎｍ、照射強度：４００〜６００ｍＪ／ｃｍ^２ 、下地基板の温度：１１５０℃〜６００℃で行う。 - 特許庁

The laser irradiation system 200 is composed by separately arranging an optical system 215 for marking from a laser optical system 212 for crystallization so that an axis of a laser beam of a laser for forming mark is identical axis of the laser for crystallization, and by use of a elatively low cost and easy-to-use Nd:YAG laser.例文帳に追加

マーク形成用レーザのレーザ光の光軸を結晶化用レーザと同軸になるようマーク用光学系２１５を結晶化用レーザ光学系２１２とは別に配置し、かつ、比較的安価で利用しやすいＮｄ：ＹＡＧレーザを用いてレーザ照射装置２００を構成した。 - 特許庁

A nano-level fine structure consisting of needle-like crystalline projections or dendrite crystalline projections is formed on a surface of a silicon substrate M by irradiating laser beams L on the surface of the silicon substrate M from the vertical direction by using Nd:YAG laser for a laser beam oscillation unit 1.例文帳に追加

レーザ発振部１としてＮｄ：ＹＡＧレーザを用いてレーザビームＬをシリコン基板Ｍの表面に垂直方向から照射することで、シリコン基板Ｍの表面に針状結晶突起又は樹枝状結晶突起からなるナノレベルの微細構造を形成する。 - 特許庁

The above material is desirable that R value =(I_1360/I_1580) defined with the ratio of D band/G band obtained in a Raman spectrum analysis, by using Nd:YAG laser beam having 532 nm wave-length after applying a heat-treatment at 2000°C, is ≥0.6.例文帳に追加

前記材料を、２０００℃で熱処理した後、前記材料について波長５３２ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザー光を用いたラマンスペクトル分析を行うことによって得たＤバンドとＧバンドとの比で定義されるＲ値＝（Ｉ_１３６０／Ｉ_１５８０）が、０．６以上となることが好ましい。 - 特許庁

A braze-welded joint is formed between workpieces using, for example an Nd:YAG, CO_2, ytterbium dope fiber, or diode type laser beam (1), a consumable wire (2) as filler metal, and a nozzle (3) for shielding a gas mixture.例文帳に追加

本発明は、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧ、ＣＯ_2、イッテルビウムドープファイバ又はダイオード型のレーザビーム(１）と、溶加材としての消耗ワイヤ（２）と、ガス混合物シールド用ノズル（３）とを使用し、ワークピース間にろう付け溶接継手を生成する。 - 特許庁

The transparent goods formed of polyamide resin is used as the object of working, and laser marking is performed by a pulse-like Nd-YAG laser with a Q switch, while matching laser strength, operating conditions, etc. with the sizes of marked characters, figures, symbols, etc to be marked.例文帳に追加

透明ポリアミド樹脂成形品を加工対象としQスイッチによるパルス状のＮｄ−ＹＡＧレーザーにおいて、マーキングする文字、図形、記号等の大きさにより、レーザー強度、操作条件等を適合させレーザーマーキングする。 - 特許庁

An Nd:YAP crystal 6 and Yb:YAG crystal 7 are arranged in a laser resonator as a gain medium by using a first reflecting mirror 5 and a second reflecting mirror 14, which are excited by a semiconductor laser 1 to obtain laser oscillation with wavelengths of 930 nm and 1,030 nm.例文帳に追加

第１反射鏡５と第２反射鏡１４によるレーザ共振器内に利得媒質としてＮｄ：ＹＡＰ結晶６、Ｙｂ：ＹＡＧ結晶７とを配置し半導体レーザ１で励起して波長９３０ｎｍ、及び波長１０３０ｎｍのレーザ発振を得る。 - 特許庁

In a solid-state laser where the lower surface 2a of an electronic cooling element 2 is secured onto the housing 1 and a part of a resonator comprising an Nd:YAG crystal 13 and a resonator mirror 14 is secured onto the upper surface 2b of the electronic cooling element 2, warp of the lower surface 2a is limited to 100 μm or less.例文帳に追加

筐体１の上に電子冷却素子２の下面２ａが固定され、この電子冷却素子２の上面２ｂに例えばＮｄ：ＹＡＧ結晶13と共振器ミラー14とで構成される共振器の部分が固定されてなる固体レーザにおいて、電子冷却素子２として、その下面２ａの反り量が100μｍ以下のものを用いる。 - 特許庁

To provide a compact laser annealing apparatus which can transmit laser power by an optical fiber having small diameter even if a green laser such as a second higher harmonic wave of a Q-switch operation Nd:YAG laser is used as a heating light source and therefore has a high-quality processing performance without using a laser amplifier or a higher harmonic wave generator.例文帳に追加

加熱光源としてＱスイッチ動作のＮｄ：ＹＡＧレーザ第２高調波等のグリーンレーザを使用しても細径の光ファイバによるレーザパワー伝送が可能であり、このためレーザの増幅器及び高調波発生装置を必要としない高品質な加工性能を有する小型のレーザアニーリング装置を提供する。 - 特許庁