「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

LIQUID EJECTOR AND FORMATION METHOD OF PATTERN FOR ADJUSTMENT例文帳に追加

液体吐出装置および調整用パターンの形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT ELEMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法および回路素子の製造方法 - 特許庁

MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD FOR RETICULE PATTERN POSITION ACCURACY例文帳に追加

レチクル、パターン位置精度の測定装置および測定方法 - 特許庁

PACHINKO MACHINE AND EXPECTED VALUE CHANGING METHOD FOR READY-TO-WIN PICTURE PATTERN THEREFOR例文帳に追加

パチンコ機およびそのリーチ図柄の期待値変更方法 - 特許庁

PARTIAL WARPING MACHINE FOR PATTERN WARP, ROTARY CREEL AND BOBBIN HOLDER例文帳に追加

柄経糸用部分整経機、回転式クリール及びボビンホルダ - 特許庁

METHOD OF CREATING MASK PATTERN DATA AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法およびマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GLASS MATERIAL HAVING CONCAVO-CONVEX PATTERN ON ITS SURFACE例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING MEDIUM HAVING FORMED FLAT PATTERN例文帳に追加

平坦なパターン形成済み媒体検査用の方法と装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MULTIPLYING MASK PATTERN PARTIALLY AND MASK STRUCTURE例文帳に追加

マスクパターン偏倍方法、偏倍装置及びマスク構造体 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM例文帳に追加

パターン形成方法及びレジスト下層膜形成用組成物 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CORRECTION VERIFICATION METHOD AND CORRECTION VERIFICATION PROGRAM FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正検証方法および補正検証プログラム - 特許庁

SLOT MACHINE FOR RADIATING SPECIAL LAMP TO FACILITATE PATTERN RECOGNITION例文帳に追加

特別なランプを照射し、絵柄を見易くしたスロットルマシン - 特許庁

To efficiently carry out detection by transferring a pattern for detection of color deviation and a pattern for density detection on a same page.例文帳に追加

同一ページ内に色ずれ検出用のパターンと濃度検出用のパターンを転写し、効率良く検出を行う。 - 特許庁

ENVIRONMENTAL TEST UNIT AND METHOD FOR SETTING TEST PATTERN例文帳に追加

環境試験装置及びこれの試験パターンの設定方法 - 特許庁

The method for forming resist pattern comprises using the positive type resist composition.例文帳に追加

該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

PATTERN EDITING DEVICE FOR EMBROIDERY MACHINE AND EMBROIDERY MACHINE例文帳に追加

刺繍縫いミシンの模様編集装置及び刺繍縫いミシン - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR HEAT TREATMENT, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

熱処理装置及びその方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PERIODICAL STRUCTURE PATTERN AND INTERFERENCE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR EXTRACTING HAZARDOUS PATTERN例文帳に追加

危険パターン抽出方法及び危険パターン抽出プログラム - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

樹脂組成物、それを用いたレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PATTERN EXPOSURE, METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING CIRCUIT, PATTERN EXPOSURE MASK, MANUFACTURE OF THE MASK, AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

パターン露光方法及び装置、回路製造方法及びシステム、パターン露光マスク、マスク製造方法、集積回路装置 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

微細パターン形成材料および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

Then, the pattern for color shift correction is detected (a step S14).例文帳に追加

そして、色ずれ補正用パターンを検出する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION BASED ON FEATURE PITCH例文帳に追加

フィーチャのピッチに基づくパターン分解を行うための方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN, AND COLOR FILTER例文帳に追加

パターン形成用の感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR FORMING BUMP ELECTRODE, METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN, METHOD FOR FORMING SPACER FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, METHOD FOR FORMING SPACER FOR TOUCH PANEL AND METHOD FOR FORMING BARRIER FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

パターン形成方法、パターン形成装置、バンプ電極形成方法、配線パターン形成方法、液晶表示装置用スペーサ形成方法、タッチパネル用スペーサ形成方法、及び、プラズマディスプレイパネル用障壁形成方法 - 特許庁

To achieve pattern data for output for surely specifying a pattern applied to a printed matter from the reading result of a pattern read by a reading device without changing any image other than the pattern.例文帳に追加

印刷物に付与されたパターン以外の画像を変化させることなく、読取り装置によって読取られたパターンの読取り結果において、このパターンを確実に特定できる出力用パターンデータを実現する。 - 特許庁

As a light distribution pattern for the high beam, not a pattern formed by directing a light distribution pattern for the low beam upward but a light distribution pattern which has relatively much upward illumination light and has good remote visibility is used.例文帳に追加

これによりハイビーム用の配光パターンとしてロービーム用の配光パターンを単に上向きにしたものではなく上方照射光が多めの遠方視認性に優れた配光パターンとする。 - 特許庁

The screen 20 is sectioned into a pattern area 27A including the pattern 22b for the coordinate recognition and a non-pattern area 27B not including the pattern 22b for the coordinate recognition in the view from the normal direction of the screen 20.例文帳に追加

このスクリーン２０は、スクリーン２０の法線方向から見て、座標認識用パターン２２ｂを含むパターン領域２７Ａと、座標認識用パターン２２ｂを含まない非パターン領域２７Ｂとに区画される。 - 特許庁

To make the conventional auxiliary servo pattern (dedicated pattern for head-positioning at the SSW beginning position) unnecessary when the head-positioning is performed with respect to the intermediate pattern for self servo writing (SSW) such as multi-spiral pattern etc.例文帳に追加

マルチスパイラルパターン等のセルフサーボライト（ＳＳＷ）用中間パターンに対しヘッド位置決めする際に、従来の補助サーボパターン（ＳＳＷ開始位置にヘッド位置決めするための専用パターン）を不要とする。 - 特許庁

The device and a method for natural language pattern generation disclosed generate a natural language pattern used for syntax analysis or syntax generation and composed of at least a pattern name and pattern constitution elements.例文帳に追加

本発明は、構文解析又は構文生成に利用される、少なくともパターン名及びパターン構成要素でなる自然言語パターンを作成する自然言語パターン作成装置及び方法に関する。 - 特許庁

A traceable pattern generating section 24 for generating a traceable pattern to be added and a traceable pattern adding section 26 for adding the traceable pattern to image data are provided at a front stage of a scan data generating section 27 of a carriage.例文帳に追加

キャリッジのスキャンデータ生成部２７の前段に、付加すべき追跡パターンを生成する追跡パターン生成部２４と、画像データに追跡パターンを付加する追跡パターン付加部２６とを備えた。 - 特許庁

To provide a resist pattern improving material capable of improving LWR of a resist pattern without varying the size of the resist pattern more than necessary, and a method for forming the resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

レジストパターンサイズを必要以上に変動させることなく、レジストパターンのＬＷＲを改善できるレジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and method for inspecting a pattern to-be-inspected by using an image of the pattern to-be-inspected and data for fabricating the pattern to-be-inspected such as design data.例文帳に追加

検査対象パターン画像と、設計データ等の検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置および方法を提供する。 - 特許庁

For this arpeggio pattern data generation system, source data OD for an arpeggio pattern representing a desired playing pattern are divided into groups by t racks 1 to M and prepared as partial pattern data OD11 to ODM (A).例文帳に追加

このアルペジオパターンデータ作成システムでは、所望の演奏パターンを表わすアルペジオパターン用元データＯＤが、トラック１〜Ｍ毎のグループに分けられて部分パターンデータＯＤ１〜Ｍとして用意される（Ａ）。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist pattern coating film, capable of forming the organic coating film on a resist pattern surface, and a method of forming the resist pattern coating film using the material for forming the resist pattern coating film.例文帳に追加

レジストパターン表面に有機の被覆膜を形成できるレジストパターン被覆膜形成用材料、該レジストパターン被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン被覆膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The control part switches to the passing light distribution pattern via the light distribution pattern for a basic low beam from the additional light distribution pattern, or returns to the additional light distribution pattern via the light distribution pattern for the basic low beam from the passing light distribution pattern, when receiving the passing signal when forming the additional light distribution pattern in the ADB mode.例文帳に追加

制御部は、ＡＤＢモードで付加配光パターンを形成しているときにパッシング信号を受けた場合には、付加配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由してパッシング用配光パターンに切り換えるか、またはパッシング用配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由して付加配光パターンに戻す。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes at least a resist pattern thickening step of applying and heating a resist pattern thickening material for covering the surface of a resist pattern, after the resist pattern is formed, and developing the material to thicken the resist pattern; and a heat treatment step of further heating the thickened resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、レジストパターン厚肉化材料を塗布し、加熱した後、現像することにより前記レジストパターンを厚肉化するレジストパターン厚肉化工程と、厚肉化後のレジストパターンを更に加熱する加熱処理工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming device for forming a finger line pattern 73 into a thick film and preventing the surface of a bus line pattern 71 on the intersection part of the finger line pattern 73 from becoming rugged when applying and forming the finger line pattern 73 which intersects the bus line pattern 71 formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されたバス配線パターン７１に交差するフィンガー配線パターン７３を塗布形成する際に、フィンガー配線パターン７３を厚膜に形成することができるとともに、その交差部におけるバス配線パターン７１の表面が凸凹になることを抑制する。 - 特許庁

A pattern by 2^n-1 bits of one period of the PN pattern from the least significant bit of the PN pattern generated at an m-th reference clock (hereinafter this pattern is called 'A pattern') is employed for a pattern in 2^n-1 bits from the most significant bit of the pattern generated at an (m+1)th reference clock.例文帳に追加

第ｍ番目の基準クロックで発生したＰＮパターンの最下位ビットからＰＮパターンの１周期分の２^ｎ−１ビット分のパターン（以下、このパターンを「Ａパターン」という）を、第ｍ＋１番目の基準クロックで発生させるパターンの最上位ビットから２^ｎ−１ビット分のパターンとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an original plate for pattern alignment layers for stereoscopic display for highly accurately, easily, and massively manufacturing pattern retardation films for stereoscopic display devices.例文帳に追加

３次元表示装置用パターン位相差フィルムを高精度で容易かつ大量に製造するための３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

DIE FOR PLATING WITH FINE PATTERN, FINE METAL STRUCTURE, DIE FOR FINE WORKING, METHOD FOR PRODUCING DIE FOR PLATING WITH FINE PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING FINE METAL STRUCTURE例文帳に追加

微細パターンを有するメッキ用型、微細金属構造体、微細加工用型、微細パターンを有するメッキ用型の製造方法、および微細金属構造体の製造方法 - 特許庁

METHOD OF CREATING PATTERN FOR CALIBRATION OF LENS, PATTERN FOR CALIBRATION OF LENS, METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING LENS UTILIZING PATTERN FOR CALIBRATION, AND METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING IMAGING APPARATUS例文帳に追加

レンズのキャリブレーション用パターン作成方法、レンズのキャリブレーション用パターン、キャリブレーション用パターンを利用したレンズのキャリブレーション方法、レンズのキャリブレーション装置、撮像装置のキャリブレーション方法、および撮像装置のキャリブレーション装置 - 特許庁