「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

A first color shift detection pattern is formed on a transfer medium by adding the first out of color registration detection pattern to the printing object image at a normal time.例文帳に追加

通常時においては、印刷対象画像に第１の色ズレ検出パターンを付加して転写媒体上に形成する。 - 特許庁

Then, intensity distribution is calculated based on the geometry characteristics and illumination mode characteristics and mask pattern data of a pattern feature 154.例文帳に追加

次に、パターンフィーチャのジオメトリ特徴及び照明モード特徴及びマスクパターンデータに基づき、強度分布が計算される１５４。 - 特許庁

An inspection through hole 1 is provided within a range surrounded by the inner layer solid pattern 6 on the outside of the surface layer solid pattern 3.例文帳に追加

表層ベタパターン３の外側に位置し、内層ベタパターン６に囲まれた範囲内の位置に検査用スルーホール１を設ける。 - 特許庁

To a demonstration pattern 80 displayed on a display screen, an additional pattern 81 which does not report a big winning only by itself is attached.例文帳に追加

表示画面に表示されるデモ図柄８０には、それだけでは大当たりを報知しない付加図柄８１が付設されている。 - 特許庁

To provide a coating method which enables coating of a straight stripe pattern or a meandering stripe pattern also on the surface of an object to be coated.例文帳に追加

被塗装物の表面に真っ直ぐなストライプ模様又は蛇行したストライプ模様も塗装できる塗装方法を提供する。 - 特許庁

The back- tacking pattern differing from the needle rocking pattern can offer reliable back-tacking depending on the fabric and thread.例文帳に追加

止め縫いパターンを針振りパターンと異なるパターンにすることにより生地、糸に応じた確実な止め縫いを実現することができる。 - 特許庁

By the constitution, the uneven pattern 32 corresponding to a pattern of the decorated surface is formed on the concrete surface 31a of a foundation 31.例文帳に追加

これにより、基礎３１のコンクリート表面３１ａに、装飾面の模様に対応する凹凸模様３２が形成される。 - 特許庁

By pressing the panel before being cured onto the pressing mold, and the panel having the primary pattern and the secondary pattern on the surface is obtained.例文帳に追加

硬化する前のパネルを、押し付け型に押し付け、表面に一次模様と二次模様を有した本発明のパネルが得られる。 - 特許庁

The process bias Δ represents a reduction amount of a pattern to be actually formed on a drawing object with respect to the irradiation pattern.例文帳に追加

プロセスバイアスΔは、実際に被描画体に形成される形成パターンの前記照射パターンに対する縮小量である。 - 特許庁

Accordingly, the change in the detection cycle width of the on-off pattern signals is monitored to judge the abnormality of the cyclic pattern.例文帳に追加

したがって、オン・オフパターン信号の検出周期幅の変化を監視することで、周期性パターンの異常を判定できる。 - 特許庁

Then, on the pattern displaying device 21, a pattern combination by which the big jackpot state can be recognized just like the announcement is displayed.例文帳に追加

そして、図柄表示装置２１では、その予告通りに大当り状態を認識できる図柄組み合わせが表示される。 - 特許庁

To provide a printed wiring board having a uniform height of a circuit pattern on an area required in the uniformity of the circuit pattern height.例文帳に追加

回路パターンの高さの均一性を必要とする箇所において、回路パターンの高さが均一なプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A pattern is printed on the surface of a heat-resistant, extension-resistant first base material sheet 2, then, a printed pattern layer 3 is formed.例文帳に追加

熱耐性及び耐延伸性を有する第１基材シート２の表面に絵柄を印刷して印刷絵柄層３を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming device capable of enhancing convenience while accurately and efficiently performing pattern formation on a work.例文帳に追加

ワークに対するパターン形成を正確に効率良く行いつつ、利便性を高めることができるパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus performs the registration correction by using the adjustment pattern if the adjustment pattern is not overlapped on the flaw.例文帳に追加

また、本画像形成装置は、調整パターンと傷とが重ならない場合に調整パターンを用いてレジストレーション補正を行う。 - 特許庁

A pattern is detected from reproduced signals and an amount of correction for waveform deviation generated, depending on the pattern, is computed from a prescribed equation.例文帳に追加

再生信号からパターンを検出して、パターンに依存して生じる波形ずれの補正量を所定の式から算出する。 - 特許庁

The photomask has a product pattern and a mask size checking mark 3 disposed on the periphery of the product pattern.例文帳に追加

フォトマスクは、製品パターンと、この製品パターンの周辺に配置されるマスク寸法検査マーク３とが描画されたものである。 - 特許庁

The surface protective layer 3 can be formed on the wiring pattern 2 as it is preventing the top surface edges of the wiring pattern 2 from being exposed.例文帳に追加

このような形状の配線パタ−ン２では、その上端縁部でも露出しない表面保護層３を形成できる。 - 特許庁

A CAD system, etc., is used to generate 1st pattern data corresponding to an original pattern to be formed on the reticle.例文帳に追加

まず、ＣＡＤシステムなどを用いて、レチクル上に形成しようとする本来のパターンに対応する第一パターンデータを作成する。 - 特許庁

A mask pattern covering film material for covering a pattern formed on a mask base is also provided which contains a silicone polymer.例文帳に追加

また、シリコーンポリマーを含有する、マスク基盤上に形成されたパターンを被覆するためのマスクパターン被覆膜材料を提供する。 - 特許庁

Since the pattern 13 on the sheet-like material 12 is formed by laser machining, the formed pattern 13 is original.例文帳に追加

シート状物１２の模様１３は、レーザ加工によって形成されるので、斬新な模様１３を形成することが可能となる。 - 特許庁

A user can alter the stop control pattern by checking the stop control pattern altered on the screen A.例文帳に追加

ユーザは、この画面Ａにおいて変更する停止制御パターンにチェックを付すことで停止制御パターンの変更を行うことができる。 - 特許庁

A first mask pattern is formed on the antireflection film 114, the antireflection film 114 is etched to form a second mask pattern.例文帳に追加

反射防止膜１１４上に第１マスクパターンを介在させ、反射防止膜１１４をエッチングして、第２マスクパターンを形成する。 - 特許庁

The image forming apparatus includes an image forming part for forming a first dot pattern on a recording material using first dot pattern data.例文帳に追加

本画像形成装置は、第１のドットパターンデータを用いて第１のドットパターンを記録材に形成する画像形成部を含む。 - 特許庁

A predetermined label pattern is formed by a mold and silicone rubber mixed with desired pigment is injected in the label pattern on the mold.例文帳に追加

所定のラベル文様を金型で形成し，所望の顔料と混合したシリコンゴムを金型上のラベル文様に注入する。 - 特許庁

The color filter pattern 31 of the first color having an arrangement that surrounds a pattern non-formation region is formed on a substrate 1 to be treated.例文帳に追加

被処理基板１上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ１色目のカラーフィルタパターン３１を形成する。 - 特許庁

On the substrate 50, a detection circuit for detecting whether either of the first contact pattern and the second contact pattern is connected is provided.例文帳に追加

基板５０には、何れの第一接点パターンと第二接点パターン間が導通しているかを検出する検出回路を設ける。 - 特許庁

To provide a method for dividing a pattern, by which a dense pattern is formed on a substrate with high accuracy.例文帳に追加

密集パターンを精度よく基板上に形成することが可能となるパターン分割方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern sheet to which the fine uneven pattern shape formed on a traveling belt is transferred almost perfectly.例文帳に追加

走行ベルトに形成された微細凸凹のパターン形状が略完全に転写されたパターンシートを製造することができる。 - 特許庁

To properly form a pattern approximate to a grating form on a substrate while discharging a pattern forming material from a plurality of discharge openings.例文帳に追加

パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板上に格子状に近いパターンを適切に形成する。 - 特許庁

In an alignment method, a beam with a first pattern is irradiated to a first target portion of a substrate to form the first pattern on the substrate.例文帳に追加

基板の第１ターゲット部分に第１パターン付きビームを照射して、基板上に第１パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating apparatus of a substrate which has a pattern design faithfully reproducing a pattern on an object surface.例文帳に追加

対象物の表面の模様を忠実に再現した柄模様を有する基板の塗装方法及び塗装装置を提供する。 - 特許庁

To improve precision of alignment when forming an upper layer pattern by overlaying it on a lower layer pattern using a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

スキャン露光装置を用いて、下層のパターンに重ね合わせて上層のパターンを形成する際、重ね合わせ精度向上を図る。 - 特許庁

The pattern, formed in order to detect misregistration, is developed on a photoreceptor drum 12 by a registration control pattern developing apparatus 42.例文帳に追加

レジコンパターン用現像装置４２によって、位置ずれ検出用に形成されたパターンが感光体ドラム１２に現像される。 - 特許庁

The block pattern having many polygonal closed areas is generated to generate a pasted image 11 having a pattern pasted on the respective closed areas.例文帳に追加

多角形の閉領域を多数有するブロックパターンを作成し、各閉領域に絵柄を貼り付けた貼込画像１１を作成する。 - 特許庁

A connection pattern for the flexible printed board is installed and the pattern is arranged on a substrate face opposite to the light emitting/receiving unit mounting part.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板に対する接続パターンを備え、該パターンを、受発光ユニット実装部とは反対の基板面に設ける。 - 特許庁

In the pattern-forming method for forming an uneven pattern on a substrate P, a roller mold 10 with the surface formed with an inverse uneven pattern which is an inverted version of the uneven pattern to be formed on the substrate P is pressed against the substrate P and rolled over the substrate P, to form the uneven pattern.例文帳に追加

基板Ｐに凹凸パターンを形成するパターン形成方法であって、上記基板Ｐに形成される上記凹凸パターンが反転された反転凹凸パターンが表面に形成されたローラ型１０を上記基板Ｐに対して押圧した状態で回転駆動することによって上記凹凸パターンを形成する。 - 特許庁

To solve the problem that the deformation of a conductor pattern becomes significant due to a stress applied to the conductor pattern at the time of printing insulator paste on an insulator layer on which the conductor pattern is formed, or laminating an insulator sheet upon the layer when the film thickness of the conductor pattern becomes thicker, because the conductor pattern is protruded from the surface of the insulator layer.例文帳に追加

導体パターンが絶縁体層表面から突出しているため、導体パターンの膜厚が厚くなると、この導体パターンが形成された絶縁体層上に、絶縁体ペーストを印刷したり、絶縁体シートを積層する際に加わる応力によって、導体パターンの変形が著しくなる。 - 特許庁

Jetting is performed such that a jetting amount of liquid from a jetting head for jetting the liquid used for forming a later pattern is larger than that for forming a former pattern when the later pattern formed on the former pattern is larger than the former pattern on account of constitution of the electronic device or the electronic circuit.例文帳に追加

電子デバイスあるいは電子回路の構成上、先に形成したパターンよりそのパターンの上に後から形成するパターンが大きい場合の、先と後のパターン形成に使用する液体を噴射する噴射ヘッドの単位時間あたりの液体の噴射量を、後のパターン形成に使用する方が大となるようにして噴射する。 - 特許庁

This method of forming a carbon nanotube pattern contains patterning process in which a desired pattern is printed on the surface of the substrate with a carbon nanotube dispersion in which the carbon nanotube is dispersed in a dispersant and the dispersant is vaporized to form a pattern layer, and a pattern fixing process in which the pattern layer is fixed on the surface of the substrate.例文帳に追加

カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、パターン層を基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。 - 特許庁

The pattern data generator generating a test pattern based on register data forming a pattern comprises means for setting the register data forming a pattern being generated, and means for generating pattern data based on the register data set by the setting means.例文帳に追加

本発明のテストパターンの生成装置は、パターン作成用のレジスタデータに基づいてパターンデータを生成する装置であって、生成しようとするパターンの作成用のレジスタデータの設定手段と、上記設定手段により設定したレジスタデータに基づいてパターンデータを生成するパターンデータ生成手段とで構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The nanoimprint mold comprises a substrate 1, the fine pattern 2 formed on the surface of the substrate, and a chip preventing pattern 3 which is formed on the surface of the substrate and in a vicinity of the fine pattern 2, does not contribute to the formation of the pattern shape to be intended, and prevents the fine pattern from being chipped occurred in cleaning.例文帳に追加

当該ナノインプリントモールドは、基板１と、上記基板表面に形成された微細パターン２と、上記基板表面かつ上記微細パターン２の近傍に形成され、目的とするパターン形状の形成に寄与せず、洗浄時に生じる上記微細パターンの欠けを防止する欠け防止パターン３とを有する。 - 特許庁

The device for correcting layout pattern data is provided with a pattern dividing means with which a layout pattern of a circuit is divided into plural regional patterns on the basis of a predetermined dividing rule, and a pattern classifying means with which plural regional patterns formed by being divided by the pattern dividing means are classified at every different mask on the basis of a predetermined classifying rule.例文帳に追加

回路のレイアウトパターンを、所定の分割ルールに基づいて、複数の領域パターンに分割するパターン分割手段と、該パターン分割手段により分割されてなる複数の領域パターンを、所定の分類ルールに基づいて、異なるマスク毎に分類するパターン分類手段とを設ける。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン１３ｘにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン６０を基板２０ｘ上に形成した後、成膜工程において、基板２０ｘ上にタンタル膜１３を成膜する。 - 特許庁

After simultaneously forming a resist pattern 22A for ion implantation and a resist pattern 22B for an alignment mark on a semiconductor film 13, ion implantation 23 is applied to the whole surface of that patterns, and after applying ashing 24 to an altered layer 16 formed on a resist pattern 22A' other than a resist pattern forming part B' for the alignment mark, the resist pattern 22A' is removed.例文帳に追加

半導体膜１３上にイオン注入用レジストパターン２２Ａとアライメントマーク用レジストパターン２２Ｂを同時に形成した後、その全面にイオン注入２３し、アライメントマーク用レジストパターン形成部Ｂ’以外のレジストパターン２２Ａ’を、表面に形成された変質層１６をアッシング２４した後レジストパターン２２Ａ’を除去する。 - 特許庁