「plasma generation」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an AC type plasma display panel wherein the generation of electromagnetic noise is extremely little.例文帳に追加

電磁波ノイズ発生の極めて少ないＡＣ型プラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generation device capable of increasing overload capacity and enhancing the degree of operation freedom.例文帳に追加

過負荷耐量を増大させることができ、運転自由度を拡大できるプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

IN-CAPILLARY PLASMA GENERATION METHOD, THIN FILM DEPOSITION METHOD USING IT, AND CAPILLARY INSIDE WALL SURFACE REFORMING METHOD例文帳に追加

細管内プラズマ発生法とこれを用いた薄膜堆積方法及び細管内壁面改質方法 - 特許庁

To provide a plama CVD device in which the generation of plasma is not influenced by substrate fittings.例文帳に追加

プラズマ生成が基板取付け金具に影響されないプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel capable of restraining the generation of a quality defect.例文帳に追加

品質不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma gas generation device capable of expanding a control range of a high-temperature gas flow rate and a temperature.例文帳に追加

高温ガスの流量及び温度の制御範囲を拡大できるようにする。 - 特許庁

To provide plasma treatment apparatus enhancing the reliability by suppressing the generation of a foreign matter.例文帳に追加

異物の発生を抑制して信頼性を向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA GENERATION METHOD, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

プラズマ発生方法およびこのプラズマ発生方法を用いた極端紫外光光源装置 - 特許庁

POWER SUPPLY METHOD TO DISCHARGE ELECTRODE, HIGH- FREQUENCY PLASMA GENERATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR- MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

放電電極への給電方法、高周波プラズマ発生方法および半導体製造方法 - 特許庁

In this plasma display panel, the generation of discharge in a non-display area is prevented.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレーパネルは非表示領域で放電が発生するのを防止した。 - 特許庁

To improve generation efficiency of microwave plasma and to provide a discharge device with low cost.例文帳に追加

マイクロ波プラズマの生成効率向上および低コストの放電装置の提供。 - 特許庁

This enables operation of the etching processing using lower power application for plasma generation.例文帳に追加

このため、プラズマ発生のため、低い電力を適用して、エッチング処理を行うことが出来る。 - 特許庁

To predict or quickly detect the generation of abnormal discharge in a plasma treatment apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置における異常放電の発生を予測し、あるいはその発生を速やかに検出する。 - 特許庁

The device sucks the gas in a downstream direction of the flow of the gas by generation of the plasma.例文帳に追加

このプラズマの生成により、前記ガスの流れの下流方向に前記ガスを吸引する。 - 特許庁

To provide a chamber apparatus capable of allowing a droplet to reach a plasma generation region.例文帳に追加

ドロップレットをプラズマ生成領域に到達させることができるチャンバ装置を提供する。 - 特許庁

DISCHARGE ELECTRODE, HIGH-FREQUENCY PLASMA GENERATION SYSTEM, POWER FEED METHOD, AND SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD例文帳に追加

放電電極、高周波プラズマ発生装置、給電方法および半導体製造方法 - 特許庁

To prevent plasma generation in a waiting chamber of a treatment apparatus including a load lock chamber.例文帳に追加

ロードロック室を備えた処理装置の待機室内でのプラズマの発生を防止する。 - 特許庁

PLASMA GENERATION UNIT, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD例文帳に追加

プラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法 - 特許庁

To provide a generation method and a generation device of thin line-like atmospheric discharge plasma capable of processing the inside of an elongated tube.例文帳に追加

細長い管の内部を処理することが可能な細線状大気圧放電プラズマの生成方法および生成装置の提供。 - 特許庁

A projecting part 3 projecting into a plasma generation chamber 2 is installed on an end face of the generation chamber 2.例文帳に追加

プラズマ生成チャンバ２の端面に、プラズマ生成チャンバ２内に突出する突出部３を設ける。 - 特許庁

First, the helium gas is led into the reaction tube, and a high-frequency power supply 50 is turned on to start the generation of plasma, and then, after the generation is stabilized, the introduction of an argon gas is stopped and oxygen is led.例文帳に追加

アルゴンガスによるプラズマが安定したならば、ヘリウムガスの導入を停止し、それから、酸素ガスを導入する。 - 特許庁

To generate plasma jet by generating plasma with a lower voltage applied on gas (argon gas) with a higher ionization potential than helium gas, in an LF plasma jet generation method.例文帳に追加

ＬＦプラズマジェット生成方法において、ヘリウムガスより電離電圧の高いガス（アルゴンガス）をより低い電圧でプラズマを発生してプラズマジェットを生成すること。 - 特許庁

It is available that, prior to the generation of the nitrogen plasma, prescribed microwaves are radiated to gaseous argon to generate argon plasma, and the gaseous argon is substituted for the gaseous nitrogen, so as to generate the nitrogen plasma.例文帳に追加

前記窒素プラズマを発生させる前に、アルゴンガスに所定のマイクロ波を放射してアルゴンプラズマを発生させ、該アルゴンガスを前記窒素ガスに置換することで前記窒素プラズマを発生させるものであってもよい。 - 特許庁

A positive voltage is applied across the electrodes 52 and 63 just before generation of a plasma is stopped to attract particles in the plasma to the electrodes 52 and 63 when the plasma is destroyed.例文帳に追加

プラズマの発生を停止する直前に前記電極５２、６３に正電圧を印加し、プラズマが消失したときにその中のパーティクルを電極５２、６３に引き込む。 - 特許庁

A plasma chamber is supplied with oxygen and helium gas from a gas inlet port 7 for plasma generation, and a resonator 6 is supplied with high frequency so as to generate a plasma.例文帳に追加

プラズマチャンバ内には、プラズマ生成用ガス導入口７から酸素とヘリウムガスとを供給し、レゾネータ６に高周波電力を供給してプラズマを生成する。 - 特許庁

To provide a shower plate which can prevent generation of backflow of plasma or firing of plasma excitation gas at a longitudinal hole more perfectly, and can ensure efficient plasma excitation.例文帳に追加

プラズマの逆流の発生、若しくは縦孔部分でのプラズマ励起用ガスの着火をより完全に防止でき、効率の良いプラズマ励起が可能なシャワープレートを提供すること。 - 特許庁

Since the plasma generating container 6 can be cooled from the close vicinity thereof by the cooling medium 48, the temperature of the plasma generating container 6 upon generation of plasma can be controlled low.例文帳に追加

この冷媒４８によってプラズマ生成容器６をそのすぐ近傍から冷却することができるので、プラズマ生成時のプラズマ生成容器６の温度を低く抑えることができる。 - 特許庁

Thereby, plasma lighting in the waveguide is prevented and occurrence of a fault due to plasma lighting in the waveguide such as wear and tear of the receiving antenna in the plasma generation nozzle 31 can be suppressed.例文帳に追加

これによって、導波管内でのプラズマ点灯を防止し、プラズマ発生ノズル３１における受信アンテナの損耗などの前記導波管内でのプラズマ点灯による不具合の発生を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a microwave plasma generation device detecting plasma discharge generated in a waveguide and surely preventing sure destruction of vacuum window due to plasma discharge.例文帳に追加

導波管内で発生するプラズマ放電を検出してプラズマ放電による真空窓の破壊を確実に防止でき、安全性の向上と監視作業コストの低減化を図ったマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

When carrying out the PECVD reaction in the source gas plasma, the catalyst surface is treated with the reducing gas plasma prior to generation of the source gas plasma so as to maintain the catalytic activity in a high state.例文帳に追加

原料ガスのプラズマ中でＰＥＣＶＤ反応を行う際、原料ガスのプラズマの発生に先立ち、触媒表面を還元ガスのプラズマにより処理して、触媒活性を高い状態に保持する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device which can reduce charged-up damages on a semiconductor chip during plasma treatment, depending on the composition of plasma generation gas.例文帳に追加

プラズマ生成用ガスの組成によって、プラズマ処理時に半導体チップに加わるチャージアップダメージを低減することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which ensures uniform plasma density in a plasma generation container without the need for a special container of a specific shape.例文帳に追加

特定の形状を有する専用の容器を必要とすることなく、プラズマ生成容器内のプラズマ密度を均一化できるようにしたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

METHOD, DEVICE AND PROBE FOR PLASMA DENSITY INFORMATION MEASUREMENT, METHOD AND DEVICE FOR PLASMA GENERATION, AND METHOD AND DEVICE FOR PLASMA TREATMENT例文帳に追加

プラズマ密度情報測定方法及びその装置並びにプラズマ密度情報測定用プローブ、プラズマ発生方法及びその装置、プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method, in which plasma generation density is uniformalized with a simple structure and uniform processing can be applied to a large area.例文帳に追加

簡単な構成によってプラズマ発生密度を均一化し、大面積に対して均一な処理を施すことのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a power supply device for generating plasma inducing plasma by generating glow discharge in gas, prevented from generation of arc discharge by creating a stable plasma environment.例文帳に追加

気体中でグロー放電を起こしてプラズマを発生させるプラズマ発生用電源装置において、安定したプラズマ環境を生成することによってアーク放電の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a plasma processing equipment, by which volume of a region where plasma is generated is made smaller than the conventional volume, while securing conductance with respect to gas flow, and restraining generation of plasma leakage and deposits.例文帳に追加

ガス流に対するコンダクタンスを確保しつつプラズマ発生領域の容積を従来に比べて小さくすることができ、かつ、プラズマリークの発生や堆積物の発生を抑制することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device in which electron temperature of plasma can be held down, in the plasma generation method and device generating inductively coupled plasma.例文帳に追加

誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The torch traveling device longitudinally, laterally and vertically travels the tip of the plasma torch 4 to move the plasma arc generation place, when the plasma torch 4 is inserted into the furnace body 3.例文帳に追加

また、トーチ移動装置は、プラズマトーチ４を炉体３内に挿入する時、該プラズマトーチ４の先端を前後、左右、上下に移動させ、プラズマアークの発生場所を移動することができる。 - 特許庁

To provide a dry etching device where plasma density in the direction of a diameter is made uniform for the whole wafer area without plasma induction damage at the initial stage of plasma generation.例文帳に追加

プラズマ生成初期におけるプラズマ誘導ダメッジのないウエハー全面積に渡ってプラズマ密度の径方向に均一にするドライエッチング装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a plasma processing system realizing a high density, high uniformity plasma over a wide parameter region in a plasma generation system employing a high frequency of VHF or UHF band and a magnetic field.例文帳に追加

ＶＨＦもしくはＵＨＦ帯の高周波と磁場とを用いてプラズマを生成する方式において、広いパラメータ領域で、高密度，高均一のプラズマを実現するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a structure of a plasma exhaust gas treatment tower which brings the inside of the plasma exhaust gas treatment tower into a homogeneous plasma generation state to prevent the dispersion from occurring in the decomposition of a passing gas.例文帳に追加

プラズマ排ガス処理塔内を均一なプラズマ発生状態にして通過ガスの分解にばらつきが起こらないようにするプラズマ排ガス処理塔の構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

Plasma treatment can be performed, by conducting a generation electric power operation part 11 and a treatment electric power operation part 13, based on plasma density information such as plasma absorption frequency.例文帳に追加

また、プラズマ吸収周波数といったプラズマ密度情報に基づいて、生成用電力操作部１１や処理用電力操作部１３等を操作してプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which uses an inductive coupling electrode for plasma generation to prevent etching of the inner wall surface of a plasma formation box.例文帳に追加

プラズマ発生のために誘導結合型の電極を用いることにより、プラズマ形成ボックス内の壁面がエッチングされることを防止することが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ignition device for a plasma jet spark plug inhibiting the generation of electric noise while applying sufficiently large current for forming plasma to a spark discharge gap when igniting the plasma jet spark plug.例文帳に追加

プラズマジェット点火プラグの点火時に、プラズマを形成するのに十分な大きさの電流を火花放電間隙に流しつつも、電雑ノイズの発生を抑制することができるプラズマジェット点火プラグの点火装置を提供する。 - 特許庁

The plasma processing device includes: a processing chamber 1 for processing a processing object 2; a plasma generation chamber 11 for generating plasma by a process gas to extract a radical component; and a transport chamber 21 for transporting the radical component to the processing chamber 1.例文帳に追加

被処理体２を処理するための処理室１と、プロセスガスによりプラズマを生成しラジカル成分を抽出するためのプラズマ生成室１１と、そのラジカル成分を処理室１に輸送する輸送室２１を備える。 - 特許庁