「plasma generation」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

Plasma 5 is formed through generation of discharge within the reaction chamber 2 under the condition evacuated to about atmospheric condition by applying voltage across the electrodes 3 and 4.例文帳に追加

電極３、４間に電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下で反応容器２内に放電を発生させてプラズマ５を生成する。 - 特許庁

To obtain a highly reliable plasma display panel by suppressing the generation of remaining bubbles in a dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層における残留気泡の発生を抑え、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得ることを目的とする。 - 特許庁

By the generation of the plasma, the desorption of unreacted adsorption gas is promoted, and the reduction of the introduction of purge gas and the reduction of exhaust time are attained.例文帳に追加

プラズマ発生より、未反応の吸着ガスの脱離を促進させて、パージガスの導入時間及び排気時間の短縮を図る。 - 特許庁

A power source 41 is connected between a cathode 11 and a nozzle 12 surrounding the cathode 11 and conducting gas for plasma generation.例文帳に追加

カソード１１と、カソード１１を取り囲み、プラズマ発生用のガスを通すノズル１２との間に電源４１を接続する。 - 特許庁

A stationary plasma generation device principally comprises a discharge tube 10, an antenna part 20, and a current type inverter circuit 30.例文帳に追加

本発明による定常プラズマ生成装置は、放電管１０と、アンテナ部２０と、電流型インバータ回路３０とから主に構成される。 - 特許庁

To prevent the damage of a welding torch by preventing the generation of a series arc when starting the arc in plasma arc welding.例文帳に追加

プラズマアーク溶接において、アークスタート時にシリーズアークの発生を防止して、溶接トーチの損傷を防止する。 - 特許庁

To provide a laser plasma X ray source that improves the X ray generation efficiency with a gaseous target.例文帳に追加

ターゲットがガスなどの気体の場合、Ｘ線発生効率を向上できるレーザプラズマＸ線源を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma generation method in which high processing control of a precision is possible in etching processing or padding.例文帳に追加

エッチング加工や埋め込みにおいて精度の高い加工制御が可能なプラズマ生成方法を提供すること。 - 特許庁

The microwave generator 14 radiates microwaves to the cavitation generation area in the liquid to generate discharge plasma.例文帳に追加

マイクロ波発生装置１４は、液体におけるキャビテーション発生領域にマイクロ波を照射して放電プラズマを発生させる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for stabilizing the source location of generation of extreme ultraviolet (EUV) radiation based on discharge plasma.例文帳に追加

放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置を提供する。 - 特許庁

A B-doped diamond ultraviolet generation layer is formed on a low resistance conductive substrate 1 by a plasma CVD method or the like.例文帳に追加

低抵抗導電性基板１上に、プラズマＣＶＤ法等により、紫外線発生層であるＢドープダイヤモンド層２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for electromagnetically casting a silicon ingot, which can reduce generation of flameout of plasma arc in casting.例文帳に追加

鋳造中にプラズマアークの失火が発生するのを低減することができるシリコンインゴットの電磁鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress generation of impurities into plasma caused by sputtering from a region definition body.例文帳に追加

領域規定体からのスパッタリングによって、プラズマ中に不純物が発生するのを抑制することができるようにする。 - 特許庁

It causes that the outer electric field increases more than the inner electric field of the dielectric body 1 and reactive power is reduced, and the plasma generation efficiency improves.例文帳に追加

これにより、誘電体１内部の電界に比して外部の電界を増やすことができ無効電力が低減され、プラズマの生成効率が向上する。 - 特許庁

To provide a structure of an electrode having a high plasma generation efficiency and a means (manner) for voltage application to the electrode.例文帳に追加

プラズマの発生効率のよい電極の構造や、該電極への電力圧印手段（方式）を提供することである。 - 特許庁

An electrical property tuning section 20 is arranged for an upper electrode 4 countering a lower electrode 3 to which high frequency power for plasma generation is supplied.例文帳に追加

プラズマ生成用の高周波電力が供給される下部電極３に対向する上部電極４に対し，電気特性調整部２０を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma processing method capable of preventing the generation of an etching stop without causing damage to a photoresist film layer.例文帳に追加

フォトレジスト膜層を損傷することなくエッチストップの発生を防止することが可能なプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To enable the generation of powerful EUV radiation rays which make it possible to excite radiation discharge plasma by an economical gas laser.例文帳に追加

経済的な気体レーザによって放射線放出プラズマの励起を可能にする強力なＥＵＶ放射線を生成する。 - 特許庁

To achieve excellent ignitability by improving the plasma generation efficiency while considerably reducing the production cost.例文帳に追加

生産コストの大幅な低減を可能としつつ、プラズマ生成効率の向上を図ることで、優れた着火性を実現する。 - 特許庁

A film layer 18 of Y_2O_3 is formed on an inner wall surface of the dome 4 as a site corresponding to a plasma generation region P in the chamber 5.例文帳に追加

チャンバ５におけるプラズマ生成領域Ｐに対応する部位であるドーム４の内壁面には、Ｙ_2Ｏ_3からなる皮膜層１８が形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR SUPPRESSING PLASMA GENERATION OUTSIDE REACTION CHAMBER, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING GAS BARRIER PROPERTY PLASTIC CONTAINER例文帳に追加

反応室外でのプラズマ発生の抑制方法並びにガスバリア性プラスチック容器の製造方法及びその製造装置 - 特許庁

To provide a method and apparatus for driving a plasma display panel for preventing the generation of an over current in the panel.例文帳に追加

パネルに過電流が発生することを防止するようにしたプラズマディスプレイパネル）駆動方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The emission intensity of a processing gas correlated with the surface temperature of inner wall of the vacuum processing chamber is measured to control the intermittent generation of plasma 402.例文帳に追加

また、真空処理室の内壁表面温度と相関のある処理ガスの発光強度を測定して間欠的なプラズマ生成４０２を制御する。 - 特許庁

To provide a normal pressure plasma treatment apparatus capable of facilitating the maintenance of dielectrics of electrodes and preventing the generation of arcs.例文帳に追加

電極の誘電体のメンテナンスを容易化でき、かつアーク発生を防止できる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The doubly concentric rf electrode is used for generation of the plasma by the capacitive coupling-mechanism or the capacitive and the inductive coupling mechanism.例文帳に追加

二重同心ｒｆ電極は、容量的結合機構または容量的および誘導的な結合機構によるプラズマの生成に用いられる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for plasma processing by means of a vacuum arc discharge which controls the generation of a droplet.例文帳に追加

ドロップレットの発生を抑制した真空アーク放電によるプラズマ加工方法及びプラズマ加工装置を提供することである。 - 特許庁

To accurately measure composition constituents even if the generation timing of plasma light that is generated from each composition constituent differs.例文帳に追加

各組成成分から発生するプラズマ光の発生タイミングが異なっていても、正確に組成成分計測をする。 - 特許庁

To provide a discharge plasma treatment method and a device using a round pole electrode with generation of arc discharge suppressed.例文帳に追加

アーク放電の発生を抑えた丸棒状電極を用いた放電プラズマ処理方法及び装置の提供。 - 特許庁

The number of holes of the plural gas diffusion plates 11 and 12 is larger on the side of the substrate processing region more than on the side of the plasma generation region.例文帳に追加

複数のガス拡散板１１，１２の孔の数は、プラズマ生成領域側よりも前記基板処理領域側の方が多い。 - 特許庁

The invention is directed to the method and apparatus for stabilizing a source location during the generation of EUV radiation based on discharge plasma.例文帳に追加

本発明は、放電プラズマに基づいたＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel with high productivity which is not broken due to heat generation by discharge during aging.例文帳に追加

エージング中の放電による発熱で割れることがなく、生産性の高いプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

Laser generation plasma (LPP) is formed by using an LPP target system 40 having a light source portion 41 and a target portion 42.例文帳に追加

レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）は、光源部４１およびターゲット部４２を備えるＬＰＰターゲットシステム４０を使用して形成される。 - 特許庁

To suppress electrification as small on the base plate surface during the period of an ion beam radiation while HF(High Frequency) discharge-type plasma generation equipment is in use.例文帳に追加

高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。 - 特許庁

The exhaust hole exhausts a plasma generation space between the first electrode 120 and the second electrode 140 via the hole of the flexible substrate 10.例文帳に追加

排気孔は、フレキシブル基板１０の孔を介して第１電極１２０及び第２電極１４０の間のプラズマ生成空間を排気する。 - 特許庁

Two microwave transmission windows, namely a first microwave transmission window 16 and a second microwave transmission window 17, are provided in a plasma generation chamber S.例文帳に追加

プラズマ生成室Ｓに、第１マイクロ波透過窓１６と第２マイクロ波透過窓１７の２つを設ける。 - 特許庁

To provide a substrate processing device suppressing generation of plasma in a space between a mobile electrode and one end wall of a cylindrical container.例文帳に追加

移動電極と筒状容器の一方の端壁の間の空間におけるプラズマの発生を抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In this condition range, the generation of the fence is controlled even when plasma etching is performed mainly using the chlorine gas.例文帳に追加

この条件範囲であれば、塩素ガスを主としたプラズマエッチングを行ってもフェンスの発生が抑えられる。 - 特許庁

To provide a plasma generation apparatus having an improved arc flash prevention mechanism with improved response time and enhanced cost efficiency.例文帳に追加

応答時間が改善され、費用効果の高い改善されたアークフラッシュ防止機構を有するプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

An electric characteristic adjustment part 50 is installed in an upper electrode 4 opposed to a lower electrode to which high-frequency power for plasma generation is supplied.例文帳に追加

プラズマ生成用の高周波電力が供給される下部電極３に対向する上部電極４に対し，電気特性調整部５０を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of preventing the generation of an attachment and arcing in a treatment vessel while simplifying a temperature control facility.例文帳に追加

温度調節設備を簡素化しながら、処理容器内での付着物やアーキングの発生を防止できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To control the intensity distribution of high frequency electric field consumed for plasma generation by using an electrode of homogeneous material and a driven body.例文帳に追加

均質素材の電極及び被駆動体を用いてプラズマ生成に消費される高周波の電界強度分布を制御する。 - 特許庁

To control the intensity distribution of high frequency electric field consumed for plasma generation by using an electrode of homogeneous material.例文帳に追加

均質素材の電極を用いてプラズマ生成に消費される高周波の電界強度分布を制御する。 - 特許庁

Combination of the frequency of a high frequency power supply (36) for plasma generation and the specific dielectric constant of a dielectric member (30) is designed to satisfy this condition.例文帳に追加

この条件を満たすようプラズマ生成用高周波電源(36)の周波数と誘電体部材（30）の比誘電率の組合せが設計される。 - 特許庁

Namely, a part of the gas passage 20 is formed of the plasma generation portion 30 and the oxidative decomposition treatment portion 40.例文帳に追加

すなわち、ガス流路２０の一部は、プラズマ発生部３０および酸化分解処理部４０で構成されている。 - 特許庁

To provide a plasma display panel (PDP) which can prevent the generation of audio noise and the occurrence of crosstalk by keeping constant the gap between a front substrate and a rear substrate.例文帳に追加

前面基板と背面基板との間隔を一定に保持し、聴感ノイズの発生やクロストークの発生を抑制したＰＤＰを実現する。 - 特許庁