「plasma generation」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

In the plasma processing method, a dummy substrate D having, on a surface thereof, organic matter similar to that on the surface of the substrate W is disposed in front of the substrate W with respect to the entering direction of the substrate W, and the dummy substrate D is entered into the plasma generation area P before entering the substrate W into the plasma generation area P.例文帳に追加

このプラズマ処理方法では、基板Ｗの表面における有機物と同様の有機物が表面にあるダミー基板Ｄを、基板Ｗの進入方向に対して、基板Ｗの前方に置き、基板Ｗにおけるプラズマ発生領域Ｐ内への進入に先立って、ダミー基板Ｄをプラズマ発生領域Ｐ内に進入させる。 - 特許庁

The resist trimming method includes: a plasma generation step of generating plasma of a reaction gas; a removing step of removing ions and electrons from the generated plasma to selectively extract a radical; and a trimming step of trimming a resist pattern by irradiating the plasma, from which the ions and the electrons have been removed, to the resist pattern.例文帳に追加

反応ガスのプラズマを生成するプラズマ生成工程と、生成したプラズマからイオン及び電子を除去し、ラジカルを選択的に取り出す除去工程と、イオン及び電子が除去されたプラズマをレジストパターンに照射することで、レジストパターンをトリミングするトリミング工程と、を含む。 - 特許庁

For plasma cleaning in the processing container 10 in which a semiconductor wafer W is absent, a control unit 68 controls the first high-frequency power source 32 so that a first high frequency contributing to plasma generation alternates between a first period having a first amplitude for generating plasma and a second period having a second amplitude for substantially not generating the plasma in predetermined cycles.例文帳に追加

制御部６８は、半導体ウエハＷの無い処理容器１０内で行われるプラズマクリーニングに際して、プラズマ生成に寄与する第１の高周波が、プラズマを生成させる第１の振幅を有する第１の期間と、プラズマを実質的に生成させない第２の振幅を有する第２の期間とを所定の周期で交互に繰り返すように、第１高周波電源３２を制御する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus having a cathode electrode provided with a plurality of recesses or exhaust holes in which plasma is generated only in the vicinity of the cathode electrode and generation of plasma is minimized in the vicinity of a substrate, unnecessary substance is prevented from being mixed into a film, and plasma can be generated uniformly in all recesses or exhaust holes of the cathode electrode.例文帳に追加

複数の凹部または複数の排気孔を設けたカソード電極を備えるプラズマ処理装置において、カソード電極の近傍のみにプラズマを発生させて基板近傍のプラズマ発生を抑制し、膜中への不要物質の混入を防ぐとともに、カソード電極の全ての凹部または全ての排気孔に均一にプラズマを生成することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device capable of generating plasma having uniform plasma density in the vertical direction to a suction face for the substantially whole face of the attraction face without any wrap-around of the plasma on the outer peripheral part of the electrostatic chuck even when a metal base member provided on the lower part of the electrostatic chuck is used for a plasma generation electrode.例文帳に追加

静電チャックの下部に備える金属ベース部材をプラズマ発生用電極として用いたとしても、静電チャックの外周部においてプラズマの回り込みがなく、吸着面のほぼ全面に対して吸着面に垂直な方向に、プラズマ密度が一様なプラズマを発生させることが可能な静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

In the plasma treatment device 100 which continuously performs plasma irradiation to a workpiece W such as a glass substrate for flat panel display by carrying the object to be treated W by a carrying roller 80 just under plasma generating nozzles 31 aligned in a line in a plasma generation part 30, a photocatalyst is applied to the carrying roller 80, or a photocatalyst net is wound on the carrying roller 80.例文帳に追加

プラズマ発生部３０において一直線上に配列されたプラズマ発生ノズル３１の直下を、搬送ローラ８０によって、フラットパネルディスプレイのガラス基板などの被処理物Ｗを搬送してゆくことで、前記被処理物Ｗに連続してプラズマ照射を行うプラズマ処理装置１００において、搬送ローラ８０に光触媒を塗布し、或いは搬送ローラ８０に光触媒ネットを巻付ける。 - 特許庁

In plasma etching for the purpose of forming a plug having the end of a copper electrode embedded in a silicon substrate protruding from the surface of the silicon substrate by removing the surface of the substrate by the plasma etching, a mixture gas mainly containing sulfur hexafluoride is used as the plasma generation gas, and plasma etching is done while the surface temperature of the silicon substrate is kept at 65°C or lower.例文帳に追加

シリコン基板の表面をプラズマエッチングによって除去することにより、シリコン基板に埋設された銅電極の一端をシリコン基板の表面から突出させてプラグを形成する目的で行われるプラズマエッチングにおいて、プラズマ発生用ガスとして六フッ化硫黄を主成分とする混合ガスを使用し、シリコン基板の表面温度を６５℃以下に保ちながらプラズマエッチングを行う。 - 特許庁

This plasma generation equipment 30 houses the plasma producing container 32 extended as the axis 33 along the direction towards the scanning direction X of ion beam 2, the plasma discharge exit 34 which is partitioned at the side walls and extends along the axis 33 and the magnet 36 which is partitioned at exterior sides of the plasma producing container 32 and generates the magnetic field of the direction along with the axis 33.例文帳に追加

このプラズマ発生装置３０は、イオンビーム２の走査方向Ｘに沿う方向を軸３３として延びているプラズマ生成容器３２と、その側面部に設けられていて軸３３に沿って延びているプラズマ放出口３４と、プラズマ生成容器３２の外部に設けられていて軸３３に沿う方向の磁界を発生させる磁石３６とを備えている。 - 特許庁

The plasma light source includes a pair of coaxial electrodes 10 disposed opposite each other, a radiation environment holding device 20 supplying the plasma medium into the coaxial electrodes and holding it at temperature and pressure suitable for plasma generation, and a voltage application device 30 applying discharging voltages of the opposite polarities to the coaxial electrodes, wherein a tubular discharge 4 is generated between the pair of coaxial electrodes to axially confine plasma 3.例文帳に追加

対向配置された１対の同軸状電極１０と、同軸状電極内にプラズマ媒体を供給しかつプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持する放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、１対の同軸状電極間に管状放電４を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込める。 - 特許庁

The radio frequency generator 400 supplies radio frequency power for plasma generation to the plasma reactor 300, wherein upon power interruption within a predetermined time while the plasma reactor 300 is in operation, the radio frequency generator 400 re-supplies the radio frequency power, without discontinuing the operation of the plasma reactor, after power returns.例文帳に追加

周波数発生器４００はプラズマ反応器３００にプラズマ発生のための無線周波数電力を提供し、プラズマ反応器３００の動作中に発生する所定の時間内の電源遮断に対して、電源復帰後にプラズマ反応器が動作を中断することなく無線周波数電力を再び供給する。 - 特許庁

To provide a plasma reactor suitable to soft etching treatment advantageous in supplying more electric power to ion generation than free radical generation.例文帳に追加

自由ラジカルの生成よりもイオンの生成に多くの電力を供給することが有利となるソフトエッチングプロセスに好適なプラズマ反応装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce Pb content in generated molten slug and NOx generation amount while suppressing generation of CO when incineration residue etc. of waste is molten by using plasma.例文帳に追加

廃棄物の焼却残渣等をプラズマにて溶融処理するにあたり、ＣＯの発生を抑えながら、生成される溶融スラグ中のＰｂ含有量及びＮＯｘ発生量の低減を達成することを可能にする。 - 特許庁

To prevent generation of voids in sealing resin and avoid generation of imperfect connection and deterioration of sealing strength, in a printed wiring board with a heat sink, which is used for a driver module of a plasma display panel or the like.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのドライバモジュールなどに用いられる放熱板付きプリント配線板において、封止樹脂内のボイド発生を防ぎ、接続不良の発生や封止強度の低下を避ける。 - 特許庁

To provide a plasma etching device provided with a lower electrode having a structure capable of securely preventing the generation of abnormal discharge and the generation of the unevenness of the film to be etched.例文帳に追加

異常放電発生と被エッチング膜のムラ発生とを共に確実に防止できる構造を有する下部電極を備えたプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To restrain the generation of defect in a process for forming a phosphor of a plasma display(PDP), improve the yield ratio of material of the phosphor and decrease the generation of waste.例文帳に追加

プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の蛍光体形成工程における不良発生を抑制し、蛍光体材料の歩留を向上するとともに、廃棄物の発生量を低減すること。 - 特許庁

The plasma processing device 11 includes a container 12 capable of introducing cleaning water W, an ultrasonic generation device 13, a microwave generation device 14, and a pressure reduction device 15.例文帳に追加

プラズマ処理装置１１は、洗浄水Ｗを導入可能な容器１２と、超音波発生装置１３と、マイクロ波発生装置１４と、減圧装置１５とを備える。 - 特許庁

To provide a plasma display panel (PDP) which can lessen unevenness of a gap between a front panel and a back panel resulting in generation of a gap between a front substrate and a partition, thereby can restrain generation of noises.例文帳に追加

前面基板と隔壁との間の隙間が発生する原因となる、前面パネルと背面パネルの間のギャップの不均一が軽減され、もって、ノイズの発生が抑制されたＰＤＰを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a driving device and a driving method of a plasma display panel, capable of executing stable write, capable of aiming uniformity of heat generation by suppressing local heat generation, and capable of realizing reduction of power consumption.例文帳に追加

安定した書き込みを行い、局所的な発熱を抑えて発熱の均一化を図ると共に、低消費電力化を実現したプラズマディスプレイパネルの駆動装置および駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor production device capable of inhibiting the generation of particles resulting from a shaving by the plasma of a member or the like constituting a chamber and the pollution of a wafer due to the generation of the particles, and to provide a manufacturing method for the semiconductor production device.例文帳に追加

チャンバーを構成する部材等がプラズマによって削られることに起因するパーティクルの発生や、それによるウェハの汚染を抑制し得る半導体製造装置、及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To greatly improve feeding efficiency by reducing transmission loss and heat generation in a high frequency feed for plasma generation, and to enhance flexibility in designing a chamber side by miniaturizing/reducing the capacity of a matching device.例文帳に追加

プラズマ生成のための高周波給電において伝送損失や発熱を少なくして給電効率を大幅に向上させ、整合器の小容量化ないし小型化を図り、チャンバ側の設計の自由度を高めること。 - 特許庁

To provide a plasma display apparatus which takes countermeasures for heat generation suppression while reducing cost by suppressing the heat generation while reducing the number of elements of a drive circuit.例文帳に追加

本発明は、駆動回路の素子数を減少させつつ発熱を抑制し、コスト低減を図りつつも発熱抑制の対策がなされたプラズマディスプレイ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To suppress the generation of plasma at the part other than a vacuum chamber upon the production of a gas barrier property plastic vessel, and further, to suppress the generation of foreign matter derived from a gaseous starting material.例文帳に追加

本発明の目的は、ガスバリア性プラスチック容器を製造するに際して、真空チャンバ以外でのプラズマの発生を抑制し、さらには原料ガス由来の異物の発生を抑制することである。 - 特許庁

A plasma generator 1 has a plurality of microplasma generation sources that are disposed linearly, and the generation of microplasma in respective microplasma generation sources can be controlled independently on-off by a controller 2.例文帳に追加

プラズマ発生装置１は、複数のマイクロプラズマ発生源が直線状に配置された装置であり、各マイクロプラズマ発生源におけるマイクロプラズマの発生は、制御装置２によってそれぞれ独立にオンオフ制御することができる。 - 特許庁

To provide an air current generation device, an air current generation method and an air current generation unit capable of generating an air current stably even under a high temperature or under a dusty environment by an air current induction phenomenon by discharge plasma, and of performing aerodynamic characteristic control and the like.例文帳に追加

放電プラズマによる気流誘起現象により高温下や含塵環境下においても安定して気流を発生させることができ、空気力学的特性の制御などを行うことが可能な気流発生装置、気流発生方法および気流発生ユニットを提供する。 - 特許庁

An opening as an electromagnetic wave introduction opening 112 is formed in a part of a rectangular waveguide 106 transmitting microwaves for ECR plasma generation, and electrons for generating plasma by the electromagnetic waves introduced from the opening are supplied.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマ生成のためのマイクロ波を伝搬する矩形導波管１０６の一部に電磁波導入口１１２としての開口部を設け、この開口部より導入した電磁波によりプラズマを生成するための電子を供給するようにする。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus which is suitable for use in a discharge plasma source of extreme ultraviolet ray or a laser generation plasma source and restricts that gas in the source or near the source enters the other portion of the apparatus.例文帳に追加

本発明は、極紫外線の放電プラズマソースあるいはレーザー生成プラズマソースとの使用に適し、かつ、ソース内のあるいはソース付近のガスが、装置のさらに別の部分に入り込むのを制限するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To supply only hydrogen radicals to a processing chamber by blocking ultraviolet rays and hydrogen ions generated from plasma generated in a plasma generation chamber, and to properly capture the hydrogen ions while preventing metal atoms and a material constituting a plate-like member from scattering and intruding into the processing chamber.例文帳に追加

プラズマ生成室で生成されたプラズマから発生する紫外光と水素イオンを遮蔽して水素ラジカルのみを処理室に供給できるとともに，金属原子や板状部材を構成する材料が飛散して処理室内に入り込むことを防止しながらも，的確に水素イオンを捕獲する。 - 特許庁

The plasma generation module 40 comprises a hearth 42 to function as an anode, magnets 44 arranged around the hearth 42, and a plasma gun 46 arranged above a return flux F formed within a chamber 20 by the magnets 44.例文帳に追加

プラズマ生成モジュール４０は、陽極として機能するハース４２と、ハース４２の周囲に配置された磁石４４と、磁石４４によってチャンバ２０内に形成されるリターンフラックスＦ上に配置されたプラズマガン４６と、を備える。 - 特許庁

The hyper plasma reactor develops a high effect on the generation of a plenty of aldehyde when the consumption of an ultra low output and NOx are not present by applying a plasma power to only the gas flow of the side flow including air and hydrocarbon.例文帳に追加

ハイパープラズマ反応器は、空気及び炭化水素を含む側流れのガス流れにのみプラズマパワーを印加することにより、超低出力消費及びNOが存在しないときのアルデヒドの豊富な生成の観点で、非常な効果を有する。 - 特許庁

A prepared defatted plasma subject set by a fixed form, and having a prothrombin concentration of a value lower or higher than a concentration of normal human plasma is suitable for reduction, standardization and collation for the thrombin activity tests, such as ETP test and thrombin generation test.例文帳に追加

定められた様式で設定され、かつ正常なヒト血漿の濃度に比べてより低いかまたは高い値であるプロトロンビン濃度を有する、脱脂化血漿調製物は、ＥＴＰ試験のようなトロンビン活性試験およびトロンビン生成試験の、換算用、標準化および対照に適している。 - 特許庁

After the insulating layer 14x is formed and before or after hydrogen is introduced, plasms is generated by introducing gas containing nitrogen to a plasma generation chamber, and nitrogen is introduced to the insulating layer 14x by irradiating the insulating layer 14x with that plasma.例文帳に追加

絶縁層１４ｘを形成した後、水素を導入する前あるいは後に、プラズマ発生室に窒素を含有するガスを導入してプラズマを発生させ、かかるプラズマを絶縁層１４ｘに照射して絶縁層１４ｘに窒素を導入する。 - 特許庁

To offer a member as a weight for semiconductor wafers which is used in a semiconductor manufacturing device used in a process using a plasma of corrosion gas in the manufacture of semiconductor devices, which can improve resistance to corrosion against the plasma and restrain generation of particles.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、腐食ガスのプラズマを用いる工程で使用される半導体製造装置に用いられる半導体ウェハ用ウェイトについて、プラズマに対する耐腐食性を向上させ、かつパーティクルの発生を抑制する部材を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator and a low-vacuum scanning electron microscope which are compact, seldom affected by noises and not influenced by light due to plasma generation on an image detecting system.例文帳に追加

本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an yttria ceramic sintered compact having excellent corrosion resistance against a halogen-based corrosive gas and its plasma, capable of suppressing the generation of particle and dust, and is suitably used as a member for a semiconductor/liquid crystal device or the like, particularly for plasma treatment device.例文帳に追加

ハロゲン系腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐食性に優れており、パーティクルやダストの発生を抑制することができ、半導体・液晶製造装置等、特に、プラズマ処理装置部材として好適に使用することができるイットリアセラミックス焼結体を提供する。 - 特許庁

A vacuum ultraviolet source 19 and cylindrical lens 20 are installed on the side face of the chamber 10, and when the high frequency power for plasma generation remains off, vacuum ultraviolet rays are cast onto a plasma generating region 18 from the ultraviolet source 19 through the cylindrical lens 20.例文帳に追加

チャンバー１０の側面には真空紫外光源１９及びシリンドリカルレンズ２０が設けられており、プラズマ発生用の高周波電力がオフであるときに、シリンドリカルレンズ２０を介して真空紫外光源１９からプラズマ発生領域１８に真空紫外光が照射される。 - 特許庁

The plasma processing device controls the state of electric energy generated by electromagnetic waves emitted into a plasma and magnetic fields, and the state of capacitive coupling discharge, of inductive coupling discharge, and of electronic cyclotron resonance discharge, thereby controls the generation of active species.例文帳に追加

プラズマ中に放射する電磁波と磁場による電子エネルギ状態制御、及び容量結合放電、誘導結合放電、電子サイクロトロン共鳴放電の各放電状態制御により、電子エネルギ状態を制御し、活性種発生を制御する。 - 特許庁

To provide a small plasma generator hardly affected by noise and preventing bad effect on an image detecting system by light in plasma generation and to provide a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

The plasma processing system 100a performing specified processing of a substrate 11 comprises a chamber 1 in which a plasma generation region 13 is formed and the substrate 11 is introduced, and an electron generating member 201 disposed in the chamber 1.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００ａは、基板１１に所定の処理を施すためのプラズマ処理装置であって、プラズマ生成領域１３を発生させ、基板１１を導入するチャンバ１と、チャンバ１内に設けられ、電子を発生させることが可能な電子発生部材２０１とを備える。 - 特許庁

To provide a remote-type discharge plasma having an electrode structure capable of sufficiently enlarging a discharge space, inhibiting the generation of streamer discharge, performing the discharge capable of generating plasma of high density with small power, and inhibiting the deterioration of solid dielectric covering the electrode.例文帳に追加

放電空間を十分に大きくでき、ストリーマー放電の発生を抑え、小電力で高密度のプラズマを発生させる放電が可能であり、かつ電極を被覆する固体誘電体の劣化を抑えることのできる電極構造を有するリモート型の放電プラズマ処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a film formation apparatus that forms a film while conveying a lengthy substrate in the longitudinal direction, prevents generation of plasma in an unnecessary region, and thereby stably produces high-quality products free of damages or the like on the substrate caused by unnecessary plasma.例文帳に追加

長尺な基板を長手方向に搬送しつつ成膜行なう成膜装置であって、不要な領域にプラズマが生成されることを防止し、この不要なプラズマに起因する基板の損傷等の無い高品質な製品を安定して作製できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a hole-processing process to form the plurality of the through-holes by performing hole-processing and a spray process to form a sprayed film by performing a plasma spray treatment against a supply surface on the side facing to the plasma generation region after the hole-processing process.例文帳に追加

穴あけ加工を行なって、前記複数の貫通穴を形成する穴加工工程と、 前記穴加工工程の後に、プラズマの生成領域に対面する側の供給面に、プラズマ溶射処理によって、溶射膜を形成する溶射工程とを有することで上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel having a front filter disposed on a plasma display panel body, in which generation of residual bubbles caused by an adhesive layer adhering and laminating the front filter is eliminated, thereby, an autoclave process is made unnecessary, mass productivity can be improved while reducing the cost of manufacturing.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル本体に前面フィルタを配置したプラズマディスプレイパネルについて、前面フィルタを密着積層する接着剤層に起因する残留気泡発生を無くし、またオートクレーブ処理も不要化して、量産性向上、低コスト化を図る。 - 特許庁

The pressure in a coil chamber (33a) is reduced to discharge limit pressure at which no plasma is generated, a thickness of the dielectric plate (34) is made thinner than before, and attenuation of an electromagnetic wave generated by the induction coupling coil(4), by the dielectric plate (34) is reduced to improve efficiency of the plasma generation.例文帳に追加

コイル室（３３ａ）の内部はプラズマが発生しない放電限界圧力に減圧されており、誘電板（３４）の厚みを従来に比べて薄くでき、誘導結合コイル（４）で生成する電磁波の誘電板（３４）での減衰を低減して、プラズマ発生の効率を向上させる。 - 特許庁

To provide an apparatus that enables a measurement in a diagonal direction with high sensitivity and less degradation of the apparatus, utilizing the respective advantages of a measurement in axial direction of plasma generation that enables high-sensitivity measurement but accelerates degradation of the apparatus and a measurement in a lateral direction of plasma that results in less degradation but has low sensitivity.例文帳に追加

高感度測定が出来るが装置の劣化を早めるプラズマの発生軸方向測定と、装置劣化は少ないが感度が低下するプラズマの横方向測定の、それぞれの特徴を生かした高感度かつ、装置の劣化を軽減させた斜め方向測定を行える装置。 - 特許庁

To provide a plasma generating device and a surface cleaning method using this, which keeps the temperature of an electrode and its periphery at an appropriate temperature where a high-temperature plasma current is always normally generated and at which a burnout caused by generation of overheating of the electrode can be avoided.例文帳に追加

電極およびその周辺の温度を高温プラズマ流が常時正常に生成されるとともに、電極の過熱の発生による焼損を回避できる適正温度に保持できるプラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法を提供する。 - 特許庁