「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce measurement errors caused by principles of pattern-projection-type three-dimensional shape measurements.例文帳に追加

パターン投影型の三次形状測定の原理に起因する測定誤差を抑えること。 - 特許庁

The pattern display devices 50a, 50b and 50c stop projection operation during reel rotation.例文帳に追加

図柄表示器５０ａ，５０ｂ，５０ｃは、リールが回転する間は、投影動作を停止している。 - 特許庁

A pattern is imparted to the projection beam, for example by an array of individually controllable elements.例文帳に追加

パターンは、例えば個別に制御可能な要素のアレイによって投影ビームに付与される。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD IN GRID PATTERN PROJECTION METHOD, MEASURING DEVICE AND IMAGE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

格子パターン投影法における画像処理方法、計測装置及び画像処理装置 - 特許庁

An image of a mask pattern in transferred on a wafer W1 through a projection optical system PL.例文帳に追加

投影光学系ＰＬを介してマスクパターンの像がウエハＷ１上に転写される。 - 特許庁

FINE APERIODIC PATTERN PROJECTION DEVICE AND METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細非周期パターン投影装置および方法とそれを用いた三次元計測装置 - 特許庁

A projection system is configured to project a radiation beam with a pattern onto the substrate.例文帳に追加

投影システムは、基板上にパターン付放射ビームを投影するように構成される。 - 特許庁

To form a resist pattern which allows a projection part of a resist pattern after a process of etching a remaining film to have a desired width equal to or larger than a width of the projection part of the resist pattern before the process of etching the remaining film.例文帳に追加

レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。 - 特許庁

If the projection area projects from the projection object after vertexes of the projection object meet the edge of the projection object, a portion of the outline of the test pattern image in a picked-up image matches a portion of the edge of the projection object.例文帳に追加

投写対象物の頂点が投写対象物の縁に一致した後、投写領域が投写対象物からはみ出した場合には、撮像画像に写っているテストパターン画像の輪郭の一部は投写対象物の縁の一部に一致する。 - 特許庁

A test pattern formed by a pattern forming part 20 is projected to a screen 2 by the projection lens 12 and its image is picked up by the sensor camera 14.例文帳に追加

パターン生成部２０が生成したテストパターンを投射レンズ１２によってスクリーン２に投射し、センサカメラ１４で撮像する。 - 特許庁

To surely detect a pattern when measuring a three-dimensional shape by projecting the projection pattern having a plurality of levels.例文帳に追加

複数レベルの投影パターンを投影して３次元形状を測定する際に、パターン検出を確実に行なえるようにする。 - 特許庁

When performing imaging for the purpose of 3D modeling, pattern projection is performed by a pattern projecting unit 130 during finder imaging.例文帳に追加

３Ｄモデリングを目的とした撮像をおこなう際、ファインダ用撮像時にパターン投影部１３０でパターン投影をおこなう。 - 特許庁

A modulation pattern signal generating unit 42 figures out from a projection pattern a laser beam emission intensity matching the scanning angle that has been figured out.例文帳に追加

変調パターン信号生成部４２は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。 - 特許庁

A test pattern formed by a pattern forming part 20 is projected to a screen 2 by the projection lens 12 and image-picked up by the sensor camera 14.例文帳に追加

パターン生成部２０が生成したテストパターンを投射レンズ１２によってスクリーン２に投射し、センサカメラ１４で撮像する。 - 特許庁

To form an arbitrary pattern by means of a projection aligner without requiring an expensive reticle in which a pattern can not be modified nor altered.例文帳に追加

高価でパタン修正や変更ができないレチクルを用いなくても、投影露光による任意パタンの形成を可能とする。 - 特許庁

The electrode pattern layer 61 is provided with a projection 611, and elliptic holes 241 area bored in electrode pattern layers 24a and 24b.例文帳に追加

電極パターン層６１に突起６１１を設けると共に、電極パターン層２４ａ、２４ｂには楕円形穴２４１を設ける。 - 特許庁

An auxiliary light projection part 302 includes a telephoto lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a prescribed magnification and a wide-angle lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a projection magnification higher than that of the telephoto lens projection member.例文帳に追加

補助光投影部３０２は、所定の投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する望遠レンズ用投影部材と、望遠レンズ用投影部材よりも高い投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する広角レンズ用投影部材とを備える。 - 特許庁

A trapezoidal projection 18 covering the outer panel 13 correspondingly to the projection 20b of the irregular pattern 13b is formed on the outer member 14.例文帳に追加

外側材１４に外装パネル１３の凹凸パターン１３ｂの凸部２０ｂに対応して覆う台形状の凸部１８が形成される。 - 特許庁

To provide a lithography projection equipment including an assembly which determines the position of pattern forming means relative to projection system more accurately.例文帳に追加

投影系に対するパターン形成手段の位置をより正確に決定するアセンブリを含むリソグラフィ投影装置を提供すること。 - 特許庁

The projection lens 13 is placed out of focus so that an image of the projection pattern 12 is not formed on the object under measurement 200.例文帳に追加

ここで、投影レンズ１３は、投影パタン１２の像が計測対象２００に結像しないようにピントをずらして配置されている。 - 特許庁

To provide an X-ray projection aligner which can compensate for the magnification of projection and enables a desired fine pattern to be laid, with high accuracy on the circuit pattern on a wafer, prior to exposure.例文帳に追加

投影倍率の補正ができ、所望の微細パターンをウエハ上の回路パターンに高精度に重ねて露光することができるＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of forming a desired device pattern on a substrate, by removing unnecessary liquid during pattern projection and exposure on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a pattern forming mold which is good in adhesion between a substrate and a projection having a desired pattern and excellent in durability and can form the pattern exactly, and the pattern forming mold.例文帳に追加

基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。 - 特許庁

The imaging apparatus 3 performs imaging at a state that the pattern projection device 2 projects a predetermined projection pattern to a subject to acquire first image data, and performs imaging at a state that the predetermined projection pattern is not projected to the subject to acquire second image data.例文帳に追加

撮像装置３はパターン投射装置２が被写体に所定の投射パターンを投射した状態で撮像を行って第１画像データを取得するとともに、被写体に対して所定の投射パターンが投射されていない状態で撮像を行なって第２画像データを取得する。 - 特許庁

An occupancy of the total area with the first projection pattern 24 and the second projection pattern 26 to the area of the top face 12a is 85% or more, and a ratio of the area of the overlapped part to that of the second projection pattern 26 on the top face 12a is 5% or more.例文帳に追加

上面１２ａの面積に対する第１投影パターン２４と第２投影パターン２６との面積の合計の占有率が８５％以上であり、上面１２ａにおける第２投影パターン２６の面積に対する重複部の面積の割合が５％以上である。 - 特許庁

Luminous flux reflected by a pattern of a variable pattern generation section VPG forms an image of a mask pattern on a plate PL as a photosensitive substrate via a projection lens 6.例文帳に追加

可変パターン生成部ＶＰＧのパターンで反射された光束は、投影レンズ６を介して、感光性基板であるプレートＰＬ上にマスクパターンの像を形成する。 - 特許庁

To correct a mask pattern while considering the position of a projection pattern formed on a substrate upon designing the mask pattern for forming a diffusion area in a substrate.例文帳に追加

基板に拡散領域を形成するときのマスクパターンを設計するときに、基板に形成された凸状のパターンの位置を考慮して補正を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

While projecting visible radiation, a DMD projects a first projection pattern 400 whose brightness varies gradually in a vertical direction of the projection plane and a second projection pattern 410 whose brightness varies gradually in a horizontal direction of the projection plane, by wavelengths other than visible radiation, such as infrared radiation.例文帳に追加

可視光の投影動作中に、投影面の縦方向に明るさが階調的に変化する第１の投影パターン４００と、投影面の横方向に明るさが階調的に変化する第２の投影パターン４１０を、可視光以外の波長、例えば、赤外光を用いてＤＭＤにより投影する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

The exposure device has a projection optical system which projects a specific pattern on the body to be processed and the projection optical system has a lens which has three projection parts and projects the pattern and a lens holding member which supports the lens at three points through the projection parts.例文帳に追加

所定のパターンを被処理体上に投影する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系は、３つの凸部を有して前記パターンを投影するするレンズと、当該レンズを前記凸部を介して３点支持するレンズ保持部材とを有する。 - 特許庁

The mask means 80 is supported freely forwards and backwards between a projection position on the projection optical axis and a retreat position toward a photographing means from the projection optical axis, and has a pattern transmitting the light.例文帳に追加

マスク手段８０は、投影光軸上の投影位置と、投影光軸より撮影手段側の退避位置との間を進退可能に支持され、光を透過するパターンを有する。 - 特許庁

To obtain a projection optical system in which the birefringence property of an optical element, included in the projection optical system, is corrected to obtain a pattern of high resolution, and a projection aligner using it.例文帳に追加

投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正し、高解像度のパターンが得られる投影光学系及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 - 特許庁

The projector comprises a test pattern projection part for projecting a prescribed test pattern to the projection surface, a focus changing part for moving the focus of the projector, and an imaging part for imaging the projected test pattern and generating a photographic image.例文帳に追加

プロジェクタは、所定のテストパターンを投写面上に投写するテストパターン投写部と、プロジェクタの焦点を移動させるフォーカス変更部と、投写されたテストパターンを撮像して撮影画像を生成する撮像部とを備えている。 - 特許庁

The diffracted light of the circuit pattern generated by illumination forms the image of the circuit pattern on the surface of a wafer 14 again through a projection optical system 12.例文帳に追加

照明により発生する回路パターンの回折光は、投影光学系１２によりウェハ１４面上で再結像している。 - 特許庁

A control circuit part 3 provides an irradiation period during which a light pattern is projected from the projection device 1 and a non-irradiation period during which the light pattern is not projected.例文帳に追加

制御回路部３は、投影装置１から光パターンを投影する照射期間と投影しない非照射期間とを設ける。 - 特許庁

A projection part 16 is provided at a location which is apart from a circuit pattern part 12, in the same surface as a circuit pattern arrangement surface of an insulating resin layer 11.例文帳に追加

絶縁樹脂層１１の回路パターン配置面と同一面に、回路パターン部１２とは離れた箇所に突起部１６を設ける。 - 特許庁

The control part 210 specifies a pattern that a pattern projection part 130 projects to the object in the images that constitute the acquired pair of images.例文帳に追加

制御部２１０は、得られた画像ペアを構成する画像において、パターン投影部１３０が被写体に投影したパターンを特定する。 - 特許庁

A holographic pattern is formed as a pattern forming means which produces an image almost coincident with the optimum objective plane of a projection system.例文帳に追加

パターン形成手段として投影システムの最良目標平面にほぼ一致する像を提供するホログラフィックパターン形成を準備する。 - 特許庁

The pattern projection apparatus is provided with a plurality of light sources 1 and 2, and a pattern board 3 where a light transmission section in a specific shape is provided.例文帳に追加

本パターン投影装置は、複数の光源１、２と、所定の形状の光透過部を設けたパターン板３とを具備している。 - 特許庁

Then a projection pattern is changed to a lateral direction pattern (S13), and the situation is photographed with a first camera 20 and a third camera 35 (S14).例文帳に追加

次に投影パターンを横方向パターンに変更し（Ｓ１３）、その様子を第１カメラ２０および第３カメラ３５で撮影する（Ｓ１４）。 - 特許庁

Also, a three- dimensional image is detected from the image data obtained by the first or second projected pattern by using a pattern projection method.例文帳に追加

また第１または第２の投影パタ−ンによって得られた画像デ−タから、パタ−ン投影法によって３次元画像を検出する。 - 特許庁

This projection optical system reductively projects a pattern on the object surface MS on the image surface W.例文帳に追加

投影光学系は、物体面ＭＳ上のパターンを像面Ｗ上に縮小投影する。 - 特許庁

The projection optical system is constituted to form the pattern image of a first object (R) on a second object (W).例文帳に追加

第１物体（Ｒ）のパターン像を第２物体（Ｗ）上に形成する投影光学系。 - 特許庁

The exposure apparatus has a projection optical system OP which projects a pattern of an original 1 on a substrate 11.例文帳に追加

露光装置は、原版１のパターンを基板１１に投影する投影光学系ＰＯを有する。 - 特許庁