「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the exposure mask having a mask pattern to be transferred onto a substrate by means of the projection optical system of the aligner, the mask pattern includes a pattern group consisting of a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

In an exposure mask having a mask pattern which is to be transferred onto a substrate by a projection optical system of an exposure apparatus, the mask pattern contains a pattern group comprising a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

Subsequently, the resist pattern for forming the projection is removed to expose the projection including the second silicon and carbon films.例文帳に追加

続いて、突起形成用レジストパターンを除去し、第２シリコン膜及び第２カーボン膜からなる突起を露出させる。 - 特許庁

The projection exposure apparatus 100 projects a pattern of an original plate 6 onto a substrate 7 through the projection optical system PL.例文帳に追加

投影露光装置１００は、投影光学系ＰＬを介して原版６のパターンを基板７に投影する。 - 特許庁

Consequently, the water repellent protective film is easily formed on the projection pattern surface, and the projection pattern is prevented from being collapsed.例文帳に追加

これにより、凸形状パターン表面に撥水性保護膜が形成され易くなり、乾燥処理時の凸形状パターンの倒壊を防止することができる。 - 特許庁

A variation calculating part 11 calculates a variation in the projection pattern as a feature quantity by applying differential processing to this formed projection pattern.例文帳に追加

変化量算出部１１はこの生成された射影パターンに対し微分処理を施すことにより射影パターンの変化量を特徴量として算出する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a distance detecting device 6 equipped with a test pattern irradiating part 21 for irradiating a test pattern prepared for detecting the projection distance between the projection lens 11 and the projection screen, and also, equipped with an imaging part 22 for imaging the test pattern irradiated on the projection screen, for detecting the projection distance based on the test pattern imaged by the imaging part 22.例文帳に追加

投射レンズ１１と投射面との間の投射距離を検出するためのテストパターンを照射するテストパターン照射部２１と、投射面上に照射されたテストパターンを撮像するための撮像部２２とを有しこの撮像部２２によって撮像されたテストパターンから投射距離を検出するための距離検出装置６を備える。 - 特許庁

The apparatus is provided with a distance detecting device 6 equipped with a test pattern irradiating part 21 for irradiating a test pattern prepared for detecting the projection distance between the projection lens 11 and the projection screen, and also, equipped with an imaging element 28 for imaging the test pattern irradiated on the projection screen, for detecting the projection distance based on the test pattern.例文帳に追加

投射レンズ１１と投射面との間の投射距離を検出するためのテストパターンを照射するテストパターン照射部２１と、投射面上に照射されたテストパターンを撮像するための撮像素子２８とを有し撮像素子２８で撮像されたテストパターンから投射距離を検出するための距離検出装置６を備える。 - 特許庁

An image-pickup means photographs a projection pattern formed on an object in a photographing area by a pattern light projected by a projection means and photographs the object, in a state such that the projection means does not project the pattern light onto the object.例文帳に追加

撮像手段は、投影手段が投影したパターン光により撮影領域内の被写体に形成された投影パターンの撮影と、投影手段がパターン光を投影しない状態で行う被写体の撮影とを行う。 - 特許庁

When a test pattern image is projected on the projection object, the size of the projection area is expanded bit by bit by adjusting a zoom lens for projection and the projection area is imaged at each time.例文帳に追加

テストパターン画像を投写対象物に投写する際、投写用ズームレンズを調整して、投写領域の大きさを少しづつ拡大させ、その都度、投写領域を撮像する。 - 特許庁

Engagement projection parts 51 and 52 are projected on a load side common wiring pattern 29 and a ground wiring pattern 31, respectively.例文帳に追加

ローサイド側コモン配線２９及びグランド配線３１には係合凸部５１，５２が同方向に凸設されている。 - 特許庁

The pattern of a mask M is exposed on a base plate G through a projection optical system 3.例文帳に追加

投影光学系３を介してマスクＭのパターンを基板Ｇに露光する。 - 特許庁

STRIPE IMAGE ANALYTICAL METHOD, INTERFEROMETER DEVICE, AND PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

縞画像解析方法、干渉計装置、およびパターン投影形状測定装置 - 特許庁

A projection system projects the radiation beam with a pattern to a target of the substrate.例文帳に追加

投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

To securely detect pattern-formed scabby defects without having remarkable projection and recession shape.例文帳に追加

顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出する。 - 特許庁

PATTERN-INDEPENDENT HYBRID MATCHING/TUNING INCLUDING LIGHT MANIPULATION BY PROJECTION OPTICS例文帳に追加

投影光学系による光操作を含むパターン非依存のハイブリッド整合／調整 - 特許庁

A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.例文帳に追加

投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

PATTERN DEPENDENT MATCHING/ADJUSTMENT OF NEIGHBORHOOD INCLUDING OPTICAL OPERATION BY PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

投影光学系による光操作を含むパターン依存の近傍の整合／調整 - 特許庁

The exposure device performs the projection transfer of a pattern drawn on a reticle 6 via a reduction projection lens 3 at a wafer 4A.例文帳に追加

露光装置は、レチクル６上に描かれたパターンを縮小投影レンズ３を介してウエハ４Ａに投影転写する。 - 特許庁

One optical path is provided with a pattern generation element for generating the optical pattern of a stripe pattern, and light passing through the optical path is the optical pattern of the stripe pattern to be projected from the projection lens 56.例文帳に追加

一方の光路には縞模様の光パターンを生成するためのパターン生成素子を設けてあり、当該光路を通過した光は縞模様の光パターンとなって投影レンズ５６から投影される。 - 特許庁

To provide an edge blending device which can easily carry out a switching of a light shielding pattern corresponding to a change in a pattern of an overlap area in which projection lights projected from projection units overlap each other and to provide a multi-projection system which can quickly set a light shielding pattern corresponding to a pattern of an overlap area.例文帳に追加

投写部からの投写光が重なり合う重複領域のパターンの変化に対応した遮光パターンの切り替えを容易に行えるエッジブレンディング装置、および重複領域のパターンに対応した遮光パターンを素早く設定することができるマルチプロジェクションシステムを提供する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus is configured to transfer a pattern onto a substrate.例文帳に追加

基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

A photographing device 2 photographs the measured object 4 on which the projection pattern is projected.例文帳に追加

撮像装置２は、投影パターンが投影された計測対象４を撮影する。 - 特許庁

This projection pattern is projected to the detection object, and the reflected lights are received by a line sensor 12, so that images of the projection pattern in the detection object are detected.例文帳に追加

この投影パターンは検出対象に投影され、その反射光がラインセンサ１２に受光されて検出対象での投影パターンの画像が検出される。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加

図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法 - 特許庁

A pattern projection part 120 projects annular patterns to the measuring object 240.例文帳に追加

パターン投影部１２０は、計測対象２４０に対して、円環パターンを投影する。 - 特許庁

To improve a charged particle beam projection exposure in pattern transfer accuracy.例文帳に追加

パターン転写精度を向上できる荷電粒子線投影露光方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD OF DETERMINING IMAGE FIELD AND REDUCTION PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

回路パタ—ン転写方法、イメ—ジフィ—ルド決定方法及び縮小投影露光装置 - 特許庁

The projection part irradiates an object to be measured with pattern light of certain illuminance.例文帳に追加

投影部は、測定対象物に対して一定照度のパターン光を照射する。 - 特許庁

Second metal projection sections 30A and B are present on the other surface of the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの他方の面上には第２の金属突起部３０Ａ、Ｂがある。 - 特許庁

The projection histogram includes a constant pattern correlating with the printed text line.例文帳に追加

上記投影ヒストグラムは、上記印刷テキスト行と相関する一定のパターンを含む。 - 特許庁

The imager (30) is composed to obtain the image data of projection phase shift pattern.例文帳に追加

イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。 - 特許庁

To form pattern data suitable for the CP(Character Projection) aperture and an aperture block.例文帳に追加

所有するＣＰアパーチャおよびアパーチャブロックに適したパターンデータの作成を行う。 - 特許庁

A mask projection part 42 projects the mask pattern 28 to respective pattern irradiation images 30 on the basis of the approximate shape data 34.例文帳に追加

マスク投影部４２は、概略形状データ３４にもとづいてマスクパターン２８をパターン照射画像３０に投影する。 - 特許庁

To provide a vertical fringe interference pattern projection lens having high light intensity and capable of projecting a vertical fringe interference pattern at a wide angle.例文帳に追加

光強度が大きく縦縞干渉模様を広角に投影可能な縦縞干渉模様投影レンズを提供する。 - 特許庁

The relationship of the dictionary images is positional relationship on a characteristic space used for pattern identification or a positional relationship on a projection space on which the characteristic amount used for pattern identification is projected.例文帳に追加

もしくは、パターンの識別に用いる特徴量を射影した射影空間上での位置関係である。 - 特許庁

To obtain a pattern image and a texture image simply and quickly in a three-dimensional image detector using a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法を用いた３次元画像検出装置において簡単・迅速にパターン画像とテクスチャ画像を得る。 - 特許庁

If being multi-projection, the control part (101) makes a liquid crystal part (104) project a test pattern according to the configuration of multi-projection.例文帳に追加

マルチ投影の場合、制御部（１０１）は、マルチ投影の構成に応じたテストパターンを液晶部（１０４）により投影させる。 - 特許庁

A projection system PL projection exposes the image of a prescribed pattern formed on a reticle R on a photosensitive substrate W.例文帳に追加

レチクル（Ｒ）に形成された所定パターンの像を感光性基板（Ｗ）に投影露光するための投影系（ＰＬ）を提供する。 - 特許庁

A mask pattern to be transferred onto a substrate through the projection optical system of a projection exposure apparatus is provided on an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク上には、投影露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられている。 - 特許庁

To provide a projection type kaleidoscope which can efficiently use luminous flux from a light source as light for projection and consequently project a pattern with uniform brightness.例文帳に追加

光源からの光束を効率よく投影用の光として利用することができ、均一な明るさで模様を投影する。 - 特許庁

A mask and the substrate 2 are moved synchronously in the X-direction, while a part of the mask pattern on a part of the pattern projection region 28 is projected via a projection optical system for each pattern projection region 28, thereby moving the exposed region from one end to the other end of the pattern projection region 28 in the X-direction.例文帳に追加

パターン投影領域２８毎に、投影光学系を介してマスクパターンの一部をパターン投影領域２８の一部に投影しながらマスクと基板２とを同期してＸ方向に移動させることによって、露光領域を、パターン投影領域２８におけるＸ方向の両端部のうちの一方から他方に向かって移動させる。 - 特許庁

To provide a projection exposure method of exposing a radiation-sensitive substrate by at least one image of a mask pattern, to provide a projection exposure system, and to provide a projection objective.例文帳に追加

放射線感応基板をマスクパターンの少なくとも１つの像によって露光する投影露光方法、投影露光システム、及び投影対物系を提供する。 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND APPARATUS USING COLOR PATTERN LIGHT PROJECTION例文帳に追加

カラーパターン光投影を用いた三次元形状計測法および三次元形状計測装置 - 特許庁

The pattern is arranged on a mask, and the image is made by using a part of a projection system.例文帳に追加

パターンはマスク上に配置してあり、その像を投影システムの一部を使って作る。 - 特許庁