「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a multi-scanning type exposure device capable of carrying out satisfactory projection exposure using a plurality of projection optical units while suppressing difference in the line width of a pattern image formed in a superposed exposure region via two projection optical units adjacent to each other.例文帳に追加

互いに隣接する２つの投影光学ユニットを介して重複露光領域に形成されるパターン像の線幅差を小さく抑え、複数の投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。 - 特許庁

The plurality of kinds of light patterns is projected onto the surface of the object in a specified order by a projection means 11, and the surface of the object is imaged from a direction different from a projection direction for every projection of the light pattern, by an imaging means 12.例文帳に追加

対象物の表面に投影手段１１により複数種類の光パターンを規定の順で投影し、投影方向とは異なる方向から光パターンの投影毎に撮像手段１２により対象物の表面を撮像する。 - 特許庁

Illumination can be achieved by projection of a pattern of color or gray scale distribution to the surface of the SLM panel and registering the pattern to corresponding pixels groups, or can be implemented by applying a proximity pattern close to the SLM surface.例文帳に追加

照明は、カラーまたはグレースケール分布パターンを、ＳＬＭパネルの表面に投写し、ピクセルグループに対応するパターンに位置合わせするか、またはＳＬＭ表面に近接する近接パターンを応用することによって達成可能である。 - 特許庁

To decrease nonuniformity of an irradiation range or intensity distribution of light in projection exposure using a graded index lens array, to form a pattern having a uniform line width of the pattern or a smooth side wall, and to form a finer pattern.例文帳に追加

分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。 - 特許庁

The exposure apparatus comprises an original pattern stage RS, an illumination optical system IL for illuminating an original pattern R, a wafer stage WS, a projection optical system UL, and a TTR detector 104.例文帳に追加

露光装置は、原版ステージＲＳと、原版Ｒを照明する照明光学系ＩＬと、基板ステージＷと、投影光学系ＵＬと、ＴＴＲ検出器１０４とを備える。 - 特許庁

The pattern obtained as a result can be used within a projection lithography device provided with a pattern forming means possible to program and fit to generate three or more strength levels.例文帳に追加

その結果得られるパターンは、３つ以上の強度レベルを生成するように適合されたプログラム可能なパターン形成手段を備える投影リソグラフィ装置内で使用することができる。 - 特許庁

To provide an exposure device which can form a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

An optical distance measuring device 1 includes: a pattern projection device 2 which intermittently projects a predetermined pattern; one imaging apparatus 3 which performs imaging with an image sensor; and a controller 4.例文帳に追加

光学式距離計測装置１は、所定のパターンを断続的に投射するパターン投射装置２と、イメージセンサにより撮像を行う１台の撮像装置３と、制御装置４を備える。 - 特許庁

To allow the projectiong of a wiring pattern and the next wiring pattern adjacently exist without causing any crack in the projection or in the neighborhood.例文帳に追加

配線パターンの突出部と隣の配線パターンが近接して存在する場合に、凸部及びその付近でクラックが発生するのを防止することが可能な半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can form a desired device pattern on a substrate by removing unnecessary liquid, when exposing the substrate by projecting the pattern on the substrate via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The average reflective index of the pattern structure of the different cycle can be changed by gradually changing the width a of the projection 3 in a pattern structure of a different cycle.例文帳に追加

異なる周期のパターン構造内における凸部３の幅ａを徐々に変化させることにより、異なる周期のパターン構造の平均屈折率を変化させることができる。 - 特許庁

The adjustment is arranged to reduce the effect of aberrations due to lens heating on the projected pattern during projection of the pattern onto one or more subsequent substrates.例文帳に追加

この調整は、１つまたは複数の後続する基板上へのパターンの投影中の投影されたパターンに対するレンズ加熱による収差の影響を低減するように構成されている。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can remove unnecessary liquid when exposing a substrate by projecting a pattern onto a substrate through a projection optical system and liquid, and to form a desired device pattern on the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The auxiliary substrate 31 is fixed so as to stand on the main substrate 1 by pressing the projection part 35 into the inserting part 39 and soldering the auxiliary circuit pattern 37 and the connection pattern 41.例文帳に追加

補助基板３１は突出部３５を挿入部３９へ圧入し、補助回路パターン３７と接続回路パターン４１を半田付けしてメイン基板１に立てるように固定する。 - 特許庁

The ratio of the width of a tip section of a projection 4 to that of a recess 5 including an inclination section 6 at both the sides of an irregular pattern 3 in comformity to a servo pattern provided in a substrate 2 is set to not more than 0.4.例文帳に追加

基体２に設けたサーボパターンに応じた凹凸形状パターン３の両側の傾斜部６を含めた凹部５の幅に対する凸部４の先端部の幅の比を０．４以下にする。 - 特許庁

To measure a line width, while detecting only a pit, by discriminating the pit generated on the surface of a pattern from a projection, in an inspection device and a method of the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの検査装置および方法において、パターンの表面に生じているピットと突起を区別し、ピットのみを検出しながら線幅の測定をできるようにすること。 - 特許庁

To provide a method and a device for pattern image generation which can generate a pattern image after endless processing by describing depth-of-field effect by using orthogonal projection.例文帳に追加

正射影を用いて被写界深度効果を表現することによりエンドレス処理の施された模様画像を作成することが可能な模様画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

From this cause, a projector 10 generates a transform expression Φ of projection transform which is used for trapezoidal distortion correction processing by using a correction pattern image 210 and the photography correction pattern image 230.例文帳に追加

プロジェクタ１０は、補正パターン画像２１０と、撮影補正パターン画像２３０を用いて、台形歪み補正処理において用いる射影変換の変換式Φを生成する。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate by removing an unnecessary liquid when projecting and exposing a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide mask blanks capable of suppressing the generation of a skirt shape projection portion generated at a pattern bottom after resist pattern formation in mask blanks to which chemistry amplification type resist is applied.例文帳に追加

化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。 - 特許庁

To quantitatively evaluate a pattern formed on a resist film on a processed substrate or a pattern formed by processing the substrate through the resist film as a mask by using a projection exposure device.例文帳に追加

投影露光装置を用いて被処理基板上のレジスト膜に形成されるパターン、或いは該レジスト膜をマスクに該被処理基板を加工して形成されるパターンを定量的に評価する。 - 特許庁

To provide an exposure device that forms a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate and exposing the substrate by removing an unnecessary liquid when projecting a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The method includes: controlling an emission beam; imparting a pattern to the emission beam by a reticle having a pattern image area and a reticle mark so as to form an emission beam with the pattern; and projecting the emission beam with the pattern on a target part of a substrate through a projection system.例文帳に追加

方法は、放射ビームを調節すること、パターン付き放射ビームを形成するためにパターン像領域及びレチクルマークを有するレチクルによって放射ビームにパターンを与えること、及び、投影システムによってパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを含む。 - 特許庁

When an original pattern profile 1 which is to be transferred by the use of an electron beam projection exposure mask is divided into a plurality of pattern profiles that are complementary to each other, the original pattern profile 1 is divided into demarcations by the use of grids 2 whose size is determined on the basis of the minimum line width of the original pattern profile 1.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクを用いて転写すべき原パターン形状１を、相補的な複数のパターン形状に分割するのにあたって、先ず、前記原パターン形状１を、その最小線幅を基準に一区画の大きさが決定された格子２を用いて分割する。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

When the article 10 is moved and scanned between the stress luminescence optical guide member 110 and a roller 106 so as to be in contact with them, the stress-luminescent member 120 emits light, according to the projection pattern, and the projection pattern on the surface of the article 10 is read after the photoelectric transducing.例文帳に追加

物品１０を応力発光導光部材１１０、ローラー１０６間に接触させて移動、走査させた時に突起パターンと対応して応力発光部材１２０が発光し、光電変換されて物品１０の表面の突起パターンを読み取る。 - 特許庁

This iron cover is provided with a projecting part 3 for a pattern formed by projecting to a reference bottom surface 2 of an iron cover upper surface and nonslip projections 4 (a main projection 4A and a sub- projection 4B) dispersively projected in large numbers on the reference bottom surface 2 and an upper surface of the projecting part 3 for the pattern.例文帳に追加

鉄蓋上面の基準底面２に対して突出して形成された絵柄用突部３と、基準底面２および絵柄用突部３の上面に多数分散して突設された滑り止め用突起４（主突起４Ａ、副突起４Ｂ）とを備えている。 - 特許庁

SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING METHOD AND ITS DEVICE, SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR RECORDING MEDIUM WITH RECORDED LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING PROGRAM例文帳に追加

立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成方法とその装置、並びに立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

In the substrate inspection method, phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate is acquired by successively irradiating the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts with pattern illumination, and height data classified by the projection parts in relation to the substrate is extracted by using the acquired phase data classified by the projection parts.例文帳に追加

本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。 - 特許庁

This exposure device has an illumination optical system (IL) for illuminating a mask (M) formed with prescribed patterns and the projection optical system (PL) having the plural projection optical units (PL1 to PL5) arranged along a prescribed direction and subjects the pattern images of the mask to projection aligning on a photosensitive substrate (P) by means of the projection optical system.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスク（Ｍ）を照明するための照明光学系（ＩＬ）と、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニット（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する投影光学系（ＰＬ）とを備え、投影光学系を介してマスクのパターン像を感光性基板（Ｐ）へ投影露光する露光装置。 - 特許庁

The engraved pattern is composed of a projection 1 formed on injection molding of a preform used for a blow molding and a groove 2 formed in the surrounding of the projection 1 on the blow molding using the preform.例文帳に追加

彫刻模様を、ブロー成形に用いるプリフォームの射出成形時に形成される凸部1と、該プリフォームを用いたブロー成形に際して該凸部1の周りに形成される溝部2にて構成する。 - 特許庁

A lithography equipment has a lighting system for providing a radical projection beam and a support structure for supporting pattern-forming equipment for giving patterns to the cross-section surface of the projection beam.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射の投影ビームを提供するための照明系、及び投影ビームの断面にパターンを与えるパターン形成装置を支持するための支持構造体を有する。 - 特許庁

An exposure apparatus fills a liquid in at least one part of a space between a projection optical system and a substrate, projects the image of a pattern via the projection optical system and the liquid onto the substrate, and exposes the substrate.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁

In this exposure apparatus, at least a portion of a space between a projection optical system and a substrate is filled with a liquid, the image of the pattern is projected on the substrate via the projection optical system and the liquid to expose the substrate.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁

The present invention relates to the coated building plate in which the coating is applied to a surface of the building plate 1 having the recession/projection pattern formed so as to be provided with a projection 6 and a recessed groove 7 by an ink jet type coating machine 2.例文帳に追加

凸条６と凹溝７とを備えて形成される凹凸模様を有する建築板１の表面に、インクジェット式塗装機２によって塗装が施された塗装建築板に関する。 - 特許庁

A plurality of stripe patterns are projected to the object 10 by a projector 11, and a pattern projection image on the object 10 is imaged by a camera 12 arranged at a position having a main point differing from a projection system.例文帳に追加

プロジェクタ１１により複数のストライプパターンを対象物１０に投光し、投光系と主点を異なる位置に配置したカメラ１２にて、対象物１０上のパターン投影像を撮像する。 - 特許庁

Hole patterns 400 as an alignment evaluation pattern are arranged in four corners of a TFT array substrate 10 forming a photoelectric device, through a projection alignment step using a projection optic system.例文帳に追加

電気光学装置を構成するＴＦＴアレイ基板１０の四隅には、投影光学系を用いた投影露光工程を経て形成された露光評価パターンとしてのホールパターン４００が配置される。 - 特許庁

There is provided an exposure apparatus which exposes a substrate with a pattern formed on a reticle, and includes a projection optical system including an optical element and a reflecting surface which reflects light toward the projection optical system.例文帳に追加

本発明は、レチクルに形成されたパターンで基板を露光する露光装置であって、光学素子を含む投影光学系と、投影光学系に向けた光を反射する反射面とを備える。 - 特許庁

The projection aligner includes an illumination lighting system ILS for illuminating the illumination light from an exposure light source 1 to a reticule R, and a projection light system PL for projecting the image of the pattern of the reticule R onto a wafer W.例文帳に追加

露光光源１からの照明光をレチクルＲに照射する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲのパターンの像をウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬとを有する。 - 特許庁

In this exposure apparatus, at least a portion of a space between a projection optical system and a substrate is filled with a liquid, and the image of the pattern is projected on the substrate via the projection optical system and the liquid to expose the substrate.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁

To provide an aligner capable of correctly exposing a pattern, which is formed on a mask on a substrate, even when the attitude of an optical projection system is changed when the optical projection system is moved.例文帳に追加

投影光学系１を移動する際に投影光学系１の姿勢が変化してもマスク９に形成されたパターンを正しく基板８上に露光することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

To restrain lowering of fidelity of a transferred pattern, lowering of contrast of a projection image, etc., when a projection optical system which is constituted with a part of imaging luminous flux being actually screened is used.例文帳に追加

結像光束の一部が事実上遮蔽されるような構成の投影光学系を使用する場合に、転写されるパターンの忠実度の低下、又は投影像のコントラストの低下等を抑制する。 - 特許庁

A template for searching the projection image of the comparative image is formed from the projection image of the diagnosis image (S5), and pattern matching is performed (S6).例文帳に追加

そのため各画像列に対し例えばＹ軸方向を加算してＺ軸方向の画像列を作成し、線形補間法や3次元補間法等でほぼ連続的なＸＺ平面上の射影像を作成する。 - 特許庁

Alternatively, a pattern structure 13 is arranged on the outer face of the stylus pen 1, and a projection 5 is included on the inner face of the storage device 10.例文帳に追加

あるいはスタイラスペン１の外面にパターン構造１３が設けられ、収納装置１０の内面が１つの突起５を有する。 - 特許庁