「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The resist pattern 50 is exposed by an exposure apparatus equipped with an illumination optics and a projection optics.例文帳に追加

レジストパターン５０は、照明光学系と投影光学系を有する露光装置により露光される。 - 特許庁

The projection lens system 2 forms the image of a pattern formed on the reticle R on the wafer W.例文帳に追加

投影レンズ系２は、レチクルＲに形成されたパターンの像を、ウエハＷ上に結像する。 - 特許庁

DEVICE (PATTERN-LOCKING SYSTEM) USED IN PARTICLE PROJECTION LITHOGRAPHIC PRINTING SYSTEM IN ALIGNMENT SYSTEM例文帳に追加

位置合わせシステムにおいて粒子投影平版印刷システムに使用する装置（パターンのロックシステム） - 特許庁

A projection optical system 150 of a projector 100 projects a pattern image MI for measurement which includes a measurement line LM1 onto a projection screen SC.例文帳に追加

プロジェクタ１００の投写光学系１５０は、測定線ＬＭ１を有する測定用パターン画像ＭＩを、投写スクリーンＳＣに投写する。 - 特許庁

A projection device 2 generates a projection pattern where point group data having a three-dimensional coordinate value stored in a storage device 1 are projected on a plane.例文帳に追加

射影装置２は、記憶装置１に記憶されている３次元の座標値をもつ点群データを平面に射影した射影パターンを生成する。 - 特許庁

To provide a coated building plate not largely impairing a coating appearance even if a coating position of a colored pattern is slightly deviated relative to a recession/projection pattern in the coated building plate in which the colored pattern is formed by an ink jet system while synchronizing it to the recession/projection pattern of a building plate.例文帳に追加

建築板の凹凸模様に同調させて色柄模様をインクジェット方式で塗装した塗装建築板において、凹凸模様に対して色柄模様の塗装位置が多少ずれていても、塗装外観が大きく損なわれることがない塗装建築板を提供する。 - 特許庁

A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light.例文帳に追加

プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面４３０の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン４００を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。 - 特許庁

The fine pattern 27 is suitably formed on a base 21 by forming a pattern transferred body 20 having a wall-shaped projection 26 (fine projection) using the mold 16 for imprint having a microtrench 18 at a corner part of a pattern 17, and etching the base 21 using the pattern transferred body 20 having the wall-shaped projection 26 as an etching mask.例文帳に追加

パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

The recess/projection pattern 22A is formed on the outer periphery surface of the base layer 22 by pressing a transfer film 82 formed with a recess/projection pattern 82A on the outer periphery surface of the base layer 22 of the decorative member 10.例文帳に追加

ここで、凹凸柄８２Ａが形成された転写フィルム８２を加飾部材１０のベース層２２の外周面に圧着して、ベース層２２の外周面に凹凸柄２２Ａを形成する。 - 特許庁

Projection images which are formed by repeatedly using a pixel group on a horizontal line for every individually different horizontal line in the pattern image, are input to a projection part 207 in the transmission period of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像の送信周期内に、パターン画像におけるそれぞれ異なる水平ラインごとに、該水平ライン上の画素群を繰り返し用いて形成される投影画像を投影部２０７に入力する。 - 特許庁

To enable a first pattern formed on a resist film through a first EB projection exposure to register more precisely with a second pattern formed on the resist film through a second EB projection exposure.例文帳に追加

第１回目のＥＢプロジェクション露光によりレジスト膜に形成される第１のパターンと、第２回目のＥＢプロジェクション露光によりレジスト膜に形成される第２のパターンとの間の位置ずれを低減する。 - 特許庁

A reticle pattern RP is projected on a sensor pattern SP through a projection optical system 1 by illumination light IL from an optical source 2 to form a projection image.例文帳に追加

光源２からの照明光ＩＬによってレチクルパターンＲＰが投影光学系１を介してセンサパターンＳＰ上に投影された投影像の光量を、照明条件毎の焦点位置を計測する。 - 特許庁

If an optical axis of a photographing part 20 is inclined even when a projection correction pattern image 220 is rectangularly displayed on a projection screen SC, trapezoidal distortion occurs in a photography correction pattern image 230.例文帳に追加

投写補正パターン画像２２０が投写面ＳＣに矩形に表示されていても、撮影部２０の光軸が傾いていると、撮影補正パターン画像２３０には、台形状の歪みが生じる。 - 特許庁

A pattern projection device for measurement 6 projects a pattern for measurement 15 on the surface of the work to be machined 20 held on the stage 7.例文帳に追加

計量用パターン投影装置６が、ステージ７上に保持された加工対象物２０の表面上に計量用パターン１５を映し出す。 - 特許庁

A step height (d) of the uneven pattern 16 is set to 0.5 to 1.5 mm, and the area ratio of a projection part 16b occupied in the whole uneven pattern 16 is set to 40 to 70%.例文帳に追加

凹凸パターン16の段差ｄは０．５〜１．５ｍｍであり、凹凸パターン16全体に占める凸部16bの面積比は４０〜７０％である。 - 特許庁

The test pattern image to be projected to the projection surface 400 has a distortion in a direction opposite to that of the lens used for imaging the test pattern image.例文帳に追加

投写面４００上に投写されるテストパターン画像は、テストパターン画像の撮像に用いるレンズとは逆方向の歪みを有する。 - 特許庁

To provide an inexpensive and simple projection aligner which can form a pattern by exactly aligning the pattern to a substrate to be projected.例文帳に追加

パターンを被投影基板に的確に位置合わせをしてパターンを形成することができる安価で簡素な構成な投影露光装置を提供する。 - 特許庁

A projection pattern is projected to an object 13 to be inspected by a projection pattern 24, and the reflected or diffused light on the object 13 is transmitted by image surface patterns 32a-32c, according to the image surface pattern and incident to CCD sensors 34a-34c.例文帳に追加

投影パタン２４により、投影パタンが被検物１３に投影され、像面パタン３２ａ乃至３２ｃにより、被検物１３において反射または拡散した光が、像面パタンに応じて透過されて、CCDセンサ３４ａ乃至３４ｃに入射させる。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS ARRAY, ILLUMINATOR FOR PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNER AND ABERRATION MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

パターン形成方法、光学素子の製造方法、マイクロレンズアレイの製造方法、投影露光装置の照明装置、投影露光装置、及び収差測定装置 - 特許庁

To provide a device for projection and image pickup having a compact projector capable of performing pattern projection and illumination by substantially white light to an object.例文帳に追加

被写体に対してパターンの投影とほぼ白色光による照明とを行なえる小型な構成の投影装置を備えた投影撮影装置を提供する。 - 特許庁

A focus detection part (123) images the projected test pattern and detects a focus at a position on a multi-projection screen depending on the configuration of multi-projection.例文帳に追加

焦点検出部（１２３）は、投影されたテストパターンを撮像し、マルチ投影の構成に応じた、マルチ投影画面上での位置でフォーカスを検出する。 - 特許庁

In addition, a plurality of forward and backward projections 51 of a plate attachment block 50 are adjusted to projection/storage positions to form a projection pattern 52 of a plate attachment part 53.例文帳に追加

また、プレート装着ブロック５０の複数の進退突起５１を突出／収納位置に調整してプレート装着部５３の突出パターン５２を形成する。 - 特許庁

To provide a projection aligner having a simple constitution which exactly aligns a substrate under projection to form a pattern on the substrate.例文帳に追加

被投影基板を的確に位置合わせをして被投影基板上にパターンを形成することができる簡素な構成な投影露光装置を提供する。 - 特許庁

A user can reconfigure a projection range by deforming a pattern image so that the sub-image in the projection image is of a desired size, shape, and position.例文帳に追加

利用者は、投射画像におけるサブイメージが所望の位置、大きさ、形状となるようにパターン画像を変形して投影範囲を再設定することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photoresist master disk by which omission of a projection pattern is prevented even if pitch of an irregular pattern is narrowed, while a surface shape of a recessed pattern is excellent.例文帳に追加

凹凸パターンのピッチが狭められても、凸パターンの欠落が防止されるともに、凹パターンの表面形状に優れるフォトレジスト原盤の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The projection video display apparatus 100 computes a positional relationship between the projection image display apparatus 100 and a projection plane 400, based upon the three or more crossing points included in a captured test pattern image.例文帳に追加

投写型映像表示装置１００は、撮像テストパターン画像に含まれる３つ以上の交点に基づいて、投写型映像表示装置１００と投写面４００との位置関係を算出する。 - 特許庁

The projection type video display device 100 calculates a positional relationship between the projection type video display device 100 and a projection plane 400 on the basis of the three or more intersections included in the test pattern image.例文帳に追加

投写型映像表示装置１００は、テストパターン画像に含まれる３つ以上の交点に基づいて、投写型映像表示装置１００と投写面４００との位置関係を算出する。 - 特許庁

The projection image display device 100 calculates a positional relationship between the projection image display device 100 and the projection surface 400 based on the three or more cross points contained in the imaging test pattern image.例文帳に追加

投写型映像表示装置１００は、撮像テストパターン画像に含まれる３つ以上の交点に基づいて、投写型映像表示装置１００と投写面４００との位置関係を算出する。 - 特許庁

A projection area estimation unit 50 calculates an outer periphery shape of a projection area from the image imaged by the imaging unit when a predetermined pattern for estimating projection areas is projected.例文帳に追加

投写領域推定部５０は、投写領域を推定するための所定のパターンが投写されているとき、撮像部により撮像された画像から投写領域の外周形状を算出する。 - 特許庁

In this aligner, the image of a pattern formed on a mask 1 is exposed to a substrate 8 by a projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、マスク１に形成されたパターンの像を投影光学系により基板８に露光する。 - 特許庁

In the outer wall panel for the reentrant angle, the recess-projection pattern of the surface parts is switched with a sticking surface as a boundary by making the recess-projection pattern shaped in the surface part 21 of one extrusion molding outer wall material 2 different from the recess-projection pattern shaped in the surface part 31 of the other extrusion molding outer wall material 3.例文帳に追加

一方の押出成形外壁材２の表面部２１に賦形された凹凸模様と、他方の押出成形外壁材３の表面部３１に賦形された凹凸模様とを異ならせることにより、貼り合わせ面を境にして表面部の凹凸模様が切り換えられた入隅用外壁パネル１。 - 特許庁

To enable to reduce an effect given to a light distribution pattern even in case of deforming of a projection lens.例文帳に追加

投影レンズが変形した場合でも、配光パターンに与える影響を低減できるようにする。 - 特許庁

The pattern is projected onto the sewing object based on the created projection image that was created at Step S40 (Step S50).例文帳に追加

Ｓ４０で作成された投影画像に基づき、模様が縫製対象物に投影される（Ｓ５０）。 - 特許庁

The stylus pen 1 includes a projection and a pattern structure is arranged on the inner face of the storage device 10.例文帳に追加

スタイラスペン１は１つの突起を有し、収納装置１０の内面にはパターン構造が設けられる。 - 特許庁

An aligner exposes the pattern of a mask (M) to a photosensitive substrate (W) via a projection optical system (PL).例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板（Ｗ）上に露光する露光装置。 - 特許庁

The projection aligner which projects a specified pattern on a photosensitive substrate is provided with a lighting optical system to supply a light to a specified pattern, and a projection optical system wherein an image of the specified pattern is formed on the photosensitive substrate by means of an immersion liquid between the photosensitive substrate and the projection optical system.例文帳に追加

感光性基板上に所定のパターンを投影する投影露光装置は、照明光を所定のパターンに供給する照明光学系と、感光性基板と投影光学系との間の浸液を介して所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備える。 - 特許庁

The first projection pattern is projected from a projector (S10), and the situation is photographed by two cameras (S11).例文帳に追加

プロジェクタから第１の投影パターンを投影し（Ｓ１０）、２台のカメラでその様子を撮影する（Ｓ１１）。 - 特許庁

To simply and tightly fix a projection part for forming the tread pattern of a tire to a mold for vulcanizing the tire.例文帳に追加

タイヤのトレッドパターンを形成する突起部品を、タイヤ加硫用金型に簡易かつ強固に固定する。 - 特許庁

A unit 22 is a projection optical system for reducing and projecting a circuit pattern on the reticule 21 on a wafer 23.例文帳に追加

２２はレチクル２１面上の回路パターンをウエハ２３に縮小投影する投影光学系である。 - 特許庁

To easily and readily eliminate a striped pattern formed at a border part by multi-screen projection at low cost.例文帳に追加

マルチスクリーン投写で境界部に発生する縞模様を低価格で、簡単に容易に解消する。 - 特許庁

A projector body comprises a projection lens and a photographing lens and superimposes a test pattern by button operation.例文帳に追加

プロジェクタ本体は、投射用レンズと撮影用レンズを備え、釦操作により、テストパターンを重畳する。 - 特許庁

To accurately correspond to a projection pattern on a measuring object even with scattering in camera characteristics.例文帳に追加

カメラの特性にバラツキがあっても計測物体上の投影パターンの対応づけを精度よく行う。 - 特許庁

An image of a pattern is exposed to a substrate W on a projection optical system PL by use of a moving stage 40.例文帳に追加

移動ステージ４０を用いてパターンの像を投影光学系ＰＬにより基板Ｗに露光する。 - 特許庁

The background object and the pattern object are set on a projection plane, based on the visual point (T6).例文帳に追加

視点に基づいて設定された投影平面に、背景オブジェクトおよび図柄オブジェクトを設定する（Ｔ６）。 - 特許庁