「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The projector type head light 1 is provided with a light source 2 and a reflecting mirror 3, and forms a predetermined light distribution pattern by using a projection lens 4.例文帳に追加

プロジェクタ型前照灯１は、光源２、反射鏡３を備え、投影レンズ４を用いて所定の配光パターンを形成する。 - 特許庁

A display element 13 projects a projection image on a screen 2 and projects a pattern image for detecting position deviation in a screen frame 5.例文帳に追加

表示素子１３はスクリーン２に投射画像を投射すると共にスクリーン枠５に位置ずれ検出用のパターン画像を投射する。 - 特許庁

To properly correct a spherical aberration of a projection optical system, and to transfer the pattern of a mask correctly onto a photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系の球面収差を良好に補正することができ、ひいてはマスクのパターンを感光性基板上に正確に転写する。 - 特許庁

The image of the chart pattern and an image of the reticle on the reticle plate 16 are magnified by a projection lens 17 to be imaged on a screen 18.例文帳に追加

レチクルプレート１６上のチャートパターンの像及びレチクルの像は、投影レンズ１７により拡大されてスクリーン１８に写し出される。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an array MLA of individually controllable elements to impart a projection beam PB with a pattern in its cross-section.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームＰＢを付与する個別に制御可能な要素のアレイＭＬＡを有する。 - 特許庁

The obserbation light OL transmitted the mask 22 illuminates a reference pattern formed on the surface WS of a work W via a projection lens 23.例文帳に追加

マスク２２を透過した観察光ＯＬは、投影レンズ２３を経てワークの表面ＷＳ上に形成した参照パターンを照明する。 - 特許庁

The pattern is formed by using an unmagnified projection aligner at the same time when forming an aluminum wiring or a protection film (passivation film).例文帳に追加

このパターンは、等倍投影露光装置を用いて、アルミ配線形成時あるいは保護膜（パッシベーション膜）形成時に同時に形成する。 - 特許庁

ArF excimer laser is cast on a reticle 16 to transfer a pattern on the reticle 16 onto a wafer 25 through the projection optical system 23.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザをレチクル１６に照射して、レチクル１６上のパターンを投影光学系２３を介してウェハ２５上に転写する。 - 特許庁

To uniformly apply contamination prevention onto a plate material such as a construction plate having projection/recessed part pattern on the surface.例文帳に追加

本発明の課題は、表面に凹凸模様を有する建築板等の板材の表面に均一に防汚処理を施すことにある。 - 特許庁

A projection objective 10 for microlighography for imaging a pattern arranged in an object plane on a substrate arranged in an image plane is disclosed.例文帳に追加

物体平面に配置されるパターンを、画像平面に配置される基板上に撮像するためのマイクロリソグラフィ用投影対物レンズ１０。 - 特許庁

The image of a pattern in the illuminated region is generated on a resist formed on a wafer 6 via a projection optical system 5.例文帳に追加

照明された領域にあるパターンの像が、投影光学系５を介して、ウエハ６上に形成されたレジスト上に形成される。 - 特許庁

The position on the substrate where the transfer pattern is formed varies depending on the defocus quantity of the projection exposure apparatus on the substrate.例文帳に追加

基板上における投影露光装置のデフォーカス量によって、基板上における転写パターンが形成される位置が変動する。 - 特許庁

A misregistration calculation unit 15 detects misregistration among projection images projected from the respective display elements on the basis of the pattern image.例文帳に追加

位置ずれ演算装置１５は、パターン画像に基づいて各表示素子から投射される投射画像間の位置ずれ量を検出する。 - 特許庁

To improve adhesive strength of a tile and a sheet in a tile unit using the tile by applying roughened surface by a recess-projection pattern to a surface.例文帳に追加

表面に凹凸模様による粗面を施したタイルを使用したタイルユニットにおいてタイルとシートとの接着力を向上させる。 - 特許庁

To provide a projection type display device and a control method thereof which facilitate precise focus adjustment without the use of a specific pattern.例文帳に追加

専用のパターンを使用することなく正確にフォーカス調整し易くした投射型表示装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projector for photographing a pattern of a mask on a substrate, which includes a radiation-sensitive layer, using a projection charged particle beam.例文帳に追加

投影荷電粒子ビームによって、放射線感応層を含む基板上にマスクのパターンを撮像する投影装置を提案する。 - 特許庁

The system comprises a projection system (14), operable to project a fringe pattern (18) having a reference mark onto the object (12).例文帳に追加

このシステムは、基準マークを有する干渉縞パターン（１８）を物体（１２）上に投影するように動作可能な投影システム（１４）を備える。 - 特許庁

To provide a needle selector for a flat knitting machine, which can increase the variety and flexibility of knitting without fixing the projection/retraction pattern of selector raising cams.例文帳に追加

セレクタレイジングカムの出没パターンが固定されずに、多様化や自由度を高めることが可能な、横編機の選針装置を提供する。 - 特許庁

Further, by using a pattern for setting a projection location, for example, it becomes comparatively easy to form one large projection image obtained by binding a plurality of projection images without distortion respectively formed by using a plurality of projectors 50.例文帳に追加

また、例えば投影位置を設定するための型紙を用いることで、プロジェクター５０を複数台用いて、各プロジェクター５０において歪みの抑制された投影画像を形成し、これらを繋ぎ合わせた１つの大きな投影画像を形成することが比較的容易である。 - 特許庁

Further, since the tire has the scale-like pattern 10 formed of the plurality of inclination surfaces at a part visually recognizable in the use of the tire 1, a complex recess/projection is positively formed on the tire outer surface 3a corresponding to an unnecessary recess/projection to make the unnecessary recess/projection not conspicuous.例文帳に追加

タイヤ１の使用時に視認できる部分に、複数の傾斜面により形成される鱗状模様１０を有することで、不要な凹凸に対応するタイヤ外表面３ａに積極的に複雑な凹凸を形成し、この不要な凹凸を目立たなくさせる。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

The projection optical system forms a first projection image of the pattern on the first portion so that the third heading on the mask and the first heading on the first portion may optically correspond, and forms a second projection image of the pattern on the second portion so that the third heading on the mask and the second heading on the second portion may optically correspond.例文帳に追加

投影光学系は、マスク上の第３の向きと第１部分上の第１の向きとが光学的に対応するようにパターンの第１投影像を第１部分上に形成し、マスク上の第３の向きと第２部分上の第２の向きとが光学的に対応するようにパターンの第２投影像を第２部分上に形成する。 - 特許庁

The projection optical system for projecting a pattern formed on a first object onto a second object has a field diaphragm provided on the nearest optical element to the second object in the projection optical system, for shielding the outside of a region of the second object, where the pattern is projected during projection.例文帳に追加

第一の物体に形成されたパターンを第二の物体に投影する投影光学系において、当該投影光学系の前記第二の物体に最も近い光学素子に設けられ、前記投影時に前記第二の物体の前記パターンが投影される領域の外部を遮蔽するための視野絞りを有することを特徴とする投影光学系を提供する。 - 特許庁

A projector 10 of this invention is provided with a screen projection part 120 which projects projection images, a screen photographing part 150 which photographs projection images, a position detection part 160 which detects position data of pointing light PL, and a command selection part 170 which extracts track pattern of the pointer light PL based on a plurality of position data and selects command data based on the extracted pattern.例文帳に追加

プロジェクタ１０は、投影画像を投影するスクリーン投影部１２０と、投影画像を撮影するスクリーン撮影部１５０と、ポインタ光ＰＬの位置データを検出する位置検出部１６０と、複数の位置データに基づいてポインタ光ＰＬの軌跡パターンを抽出し、該抽出パターンに基づいてコマンドデータを選定するコマンド選定部１７０とを備える。 - 特許庁

The system includes a projection device 12 for projecting concentric striped pattern light 11, imaging apparatus 13, 14 for imaging the striped pattern light projected from the projection device 12, and an operation device 15 for determining the position and the indication direction of the projection device 12 based on a stripe image acquired from the imaging apparatus 13, 14.例文帳に追加

本位置および指示方向計測システムは、同心円状の縞模様光１１を投射する投射装置１２と、投射装置１２から投射された縞模様光を撮像する撮像装置１３，１４と、撮像装置１３，１４から得られた縞画像に基づいて投射装置１２の位置および指示方向を求める演算装置１５とを備える。 - 特許庁

A mold 31 for making the needle-like body has a base plate and a projection formed on the first surface of the base plate wherein the mold has a recess-projection inversed transfer pattern of the first surface of the needle-like body, and further has grooves 34a and 34b in at least the areas corresponding to the projection of the transfer pattern.例文帳に追加

基板と、前記基板の第一の面に形成された突起部を具備する針状体を作製するための金型３１であって、前記針状体の第一の面を凹凸反転した転写パターンを有し、更に当該転写パターンの少なくとも突起部に対応する領域に溝３４ａ，３４ｂを具備することを特徴とする針状体作製用金型。 - 特許庁

The fine structure has base materials (10, 12) with recess and projection, an extremely thin film pattern (18) consisting of organic compound with amino group or thiol group on a recessed part of the base material, and a layer pattern (20) based on the extremely thin film pattern.例文帳に追加

凹凸を有する基材（１０、１２）と、該基材の凹部上にアミノ基又はチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターン（１８）と、該極薄膜パターンに基づいた層パターン（２０）を有することを特徴とする微細構造体。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination lamp with a first and a second light source units arranged in a back side of a projection lens, in which luminance at a boundary part between a low beam light distribution pattern and an additional light distribution pattern in a high beam light distribution pattern is sufficiently secured.例文帳に追加

投影レンズの後方に第１および第２光源ユニットが配置された車両用照明灯具において、ハイビーム用配光パターンにおけるロービーム用配光パターンと付加用配光パターンとの境界部分の明るさを十分に確保する。 - 特許庁

After coating the lower clad layer 1, a mold forming a recess and projection pattern to the coated lower clad layer 1 is pressed to form a groove on the lower clad layer 1 by transferring the recess and projection pattern on the surface of the lower clad layer 1 so as to coat the core layer 2 in the groove.例文帳に追加

下部クラッド層１の塗工後に、塗工された該下部クラッド層１に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層１表面に転写することにより下部クラッド層１に溝部を形成し、溝部内にコア層２を塗工する。 - 特許庁

After coating the lower clad layer 1, a mold forming a recess and projection pattern to the coated lower clad layer 1 is pressed to form a groove on the lower clad layer 1 by transferring the recess and projection pattern on the surface of the lower clad layer 1 so as to form the core layer 2 in the groove.例文帳に追加

下部クラッド層１の塗工後に、塗工された下部クラッド層１に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層１表面に転写することにより下部クラッド層１に溝部を形成し、溝部内にコア層２を塗工する。 - 特許庁

A pattern drawn on the surface of a master disk 4 in a vacuum environment is projected to a wafer by a projection optical system, and at least a substrate of the master disk and the substrate is relatively moved to the projection optical system by a stage device, thereby repeatedly exposing the pattern of the master disk 4 to the substrate.例文帳に追加

真空環境下で原盤４の面に描かれたパターンを投影光学系を介してウエハに投影し、該投影光学系に対し該原盤と基板のうちの少なくとも基板をステージ装置により相対的に移動させることにより、原盤４のパターンを基板に繰り返し露光する。 - 特許庁

The aligner has the projection optical system which projects a pattern formed on a mask on a workpiece and has a ≥0.7 numerical aperture on the side of the workpiece and a shading plate which shades an area outside an area where the pattern is projected on the workpiece during the projection.例文帳に追加

マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する該被処理体側の開口数が０．７以上である投影光学系と、前期投影時に前記被処理体上の前記パターンが投影される領域の外部の領域を遮蔽する遮蔽板とを有する露光装置を提供する。 - 特許庁

On a thin film pattern forming section of the substrate 1, a bank shape projection section 2 extending along a thin film pattern to be formed with a width of W having an edge at a side edge, is provided and thin film forming material ink 3 is dropped and coated from a nozzle 4 of an ink jet device on the bank shape projection section 2.例文帳に追加

基板１の薄膜パターン形成部に、幅がＷで側縁にエッジを有して形成すべき薄膜パターンに沿って延在する堤状突部２を設け、この堤状突部２の上にインクジェット装置のノズル４から薄膜形成材料インク３を滴下して塗布する。 - 特許庁

By inserting and engaging the projection parts 51 and 52 into/with the recessed parts 53 and 54, the resistor 30 is positioned perpendicularly to the wiring pattern 29 and the wiring pattern 31.例文帳に追加

係合凸部５１，５２を係合凹部５３，５４に嵌挿して係合させることにより、電流検出用抵抗３０はローサイド側コモン配線２９及びグランド配線３１に対して直角に位置決めされる。 - 特許庁

PATTERN-FORMING METHOD, PHOTOSENSITIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN ON LENS SHEET, METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING TRANSMISSION-TYPE SCREEN, TRANSMISSION TYPE SCREEN AND PROJECTION-TYPE IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感光性粘着シート、レンズシートへの遮光パターンの形成方法、透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンの製造装置、透過型スクリーンおよび投射型画像表示装置 - 特許庁

The aligner is provided with an illumination optical system (1-7) for illuminating the reticle (R), in which a pattern to be transferred is formed, and a projection optical system (PL) for forming an image of the pattern of the reticle on a substrate (W).例文帳に追加

転写すべきパターンの形成されたレチクル（Ｒ）を照明する照明光学系（１〜７）と、レチクルのパターンの像を基板（Ｗ）上に形成する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

The visual inspection device 10 projects a second stripe pattern whose brightness changes at a cycle different from the first stripe pattern onto the inspection object in multiple different phases and images multiple second projection images.例文帳に追加

外観検査装置１０は、第１縞パターンとは異なる周期で明るさが変化する第２縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第２投影画像を撮像する。 - 特許庁

A mask pattern formed in a photo mask is processed in a simulation of measuring the depth of focus of a pattern imprinted to a sensitization material by varying coma aberration and spherical aberration of a projection system of an exposing device.例文帳に追加

フォトマスクに形成されたマスクパターンについて、露光装置の投影系のコマ収差と球面収差とを変化させて、感光材に転写されたパターンの焦点深度を測定するシミュレーション行う。 - 特許庁

The core pattern at the cladding base part uses the molding die for emboss having the core pattern consisting of a fine projection and is pressed against the surface of the cladding base part for molding.例文帳に追加

このクラッド基部のコアパターンは、微細な凸部よりなるコアパターンを有するエンボス用成形型を使用し、同エンボス用成形型をクラッド基部の表面に押し付けることによって成形されている。 - 特許庁

To provide a method of correcting the distortion of a pattern image projected in an imaging process and decreasing an overlay error, when the pattern is overlaid on a substrate by a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置によって基板上にパターン形成を重ねる場合に、投影するパターン像の歪みを結像プロセス中に修正してオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

An ABS resist pattern is formed on the projection and the surface of the exposed third carbon film, and a surface exposed from this ABS resist pattern is processed to add an ABS concave/convex shape.例文帳に追加

そして、突起と第３カーボン膜が露出している表面上にＡＢＳレジストパターンを形成し、このＡＢＳレジストパターンから露出している表面を加工してＡＢＳ凹凸形状を付与する。 - 特許庁

The torque of the driving pulley 72 is transmitted to the pattern belt 12 by the abrasion of the driving pulley 72 and the pattern belt 12, and the projection 72a engaged with the engagement hole 12b to rotate the design belt 12.例文帳に追加

駆動プーリ７２の回転力は、駆動プーリ７２と図柄ベルト１２との摩擦及び係合穴１２ｂに係合している突起７２ａによって図柄ベルト１２に伝達されて、これを回転させる。 - 特許庁

To transfer a circuit pattern having a size finer than a half of a wavelength of an exposure beam on a semiconductor wafer plane with excellent accuracy by means of a mask whereupon an integrated circuit pattern is formed and a reduction projection aligner.例文帳に追加

集積回路パターンを形成したマスクと縮小投影露光装置により、露光光の波長の半分より微細な寸法の回路パターンを精度よく半導体ウエハ面に転写する。 - 特許庁

An electron-beam passing through a pattern provided on a reticle 7 images the pattern on the reticle 7 on a surface of a wafer 9 with a transferring optical system mainly comprising a collimator lens 1 and a projection lens 4.例文帳に追加

レチクル７上に設けられたパターンを通過した電子線は、コリメータレンズ１、プロジェクションレンズ４を主体とする転写光学系により、レチクル７上のパターンの像をウェハ９表面に結像する。 - 特許庁

On the basis of detected results of photographing condition concerning the camera subject or the illumination light by the photographing condition detecting means, the projection means 1 selects the kinds of pattern lights and projects a pattern light.例文帳に追加

投影手段１は、撮影条件検出手段による被写体または照明光についての撮影条件検出結果に基づいて、投影するパターン光の種類を選択して投影する。 - 特許庁