「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Hereby, a projection area of a main surface conductor pattern is extended without restricting by the wiring pattern, and a heat flow from the semiconductor chip is widely dispersed in a surface direction of the surface direction for intending lowering of heat resistance of the insulating substrate.例文帳に追加

これにより、配線用パターンに規制されることなく主面導体パターンの投影面積を拡張し、半導体チップからの熱流束を基板の面方向に広く分散させて絶縁基板の熱抵抗低化が図れる。 - 特許庁

An inspecting optical system 7 contains a grid projection optical system 2 for projecting a grid pattern 3 on a cylindrical object 4, and a line sensor camera 5 for photographing the pattern 3 deformed by the shape of the object 4.例文帳に追加

検査光学系７内には、格子パターン３を円筒状被検物４に投影する格子投影光学系２と、この円筒状被検物４の形状により変形した格子パターン３を撮像するラインセンサカメラ５が設けられている。 - 特許庁

The out-of-focusing of the projection optical system is set as the function of a deflecting amount and the position of the pattern in a one-shot exposed area and the energy profiles DR(x) and E(x) formed on the sensitive substrate, when exposure is made by using a primary reticle pattern are calculated.例文帳に追加

投影光学系のボケを偏向量と一括露光領域内におけるパターン位置の関数として設定し、一次レチクルパターンにより露光した場合の感応基板上でのエネルギープロファイルDR(x)、E(x)を計算する。 - 特許庁

Then, a second EB projection exposure 12B is carried out under the condition that a beam blur and a focus position are set at 20 nm and 21 μm, respectively, through the intermediary of a second mask 14 where a second mask pattern continuously joined to the first mask pattern is formed.例文帳に追加

次に、第１のマスクパターンと連続する第２のマスクパターンが形成された第２のマスク１４を介して、ビームブラー：２０ｎｍで且つ焦点位置：２１μｍの条件で第２回目のＥＢプロジェクション露光１２Ｂを行なう。 - 特許庁

At the time of exposing a substrate to a pattern by projecting the image of the pattern upon the substrate through a projection optical system and a liquid, the condition of the liquid immersion performed on the substrate is decided in accordance with a film member formed on the liquid-contacted surface of the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。 - 特許庁

At the time of an exposure of the pattern of a reticle R, the reticle R is illuminated with exposure light IL1 consisting of pulsed light of a wavelength of 193 nm from an ArF excimer laser beam source 1 and the pattern of the reticle R is transferred on a wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光時にはＡｒＦエキシマレーザ光源１からの波長１９３ｎｍのパルス光よりなる露光光ＩＬ１でレチクルＲを照明し、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁

The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁

A pattern to be transferred is formed on a reticle 1, and a charged particle beam 2 having passed through the reticle 1 forms an image of the reticle 1 on an exposed matter 8 such as a resist on a wafer by using a first projection lens 3 and a second projection lens 7.例文帳に追加

レチクル１上には転写すべきパターンが形成されており、レチクル１を通過した荷電粒子線２は第１投影レンズ３及び第２投影レンズ７によってウエハ上のレジストなどの被露光物８上にレチクル１の像を結像する。 - 特許庁

In an antiskid body fitted in a tread pattern groove of a snow tire, a projection 5 (15, 32) projecting out in a side surface crossing with a width direction at right angles is provided in a manner of freely moving forward and backward in the width direction by a projection forward and backward movement means A.例文帳に追加

雪道走行用タイヤのトレッドパターンの溝８に嵌着される滑り止め体において、幅方向に直交する側面に突出する突起５（１５、３２）が、突起進退手段Ａにより該幅方向に進退自在に配設される。 - 特許庁

A functional layer having a recess-projection pattern 70 is formed by respectively arranging a plurality of projection part 71 extending in one direction in substantially parallel, by injecting fluid from a nozzle 5a of a fluid injection head 5 into one surface 50a side of a belt body 50.例文帳に追加

ベルト本体５０の一方面５０ａ側に流体噴射ヘッド５のノズル５ａから流体を噴射して、一方向に延在する複数の凸部７１の各々が略平行に配置されてなる凹凸パターン７０を有する機能層を形成する。 - 特許庁

Projection parts (grounding part 21a and extension part 21b) are provided along the longitudinal direction of the coaxial cable 1, in the vicinity of the both ends of the ground bar 20, and the grounding part 21a of the projection part is soldered to the grounding pattern of the substrate 3 by a solder S4.例文帳に追加

グランドバー２０の両端付近に、同軸電線１の長手方向に沿って突起部（接地部２１ａ及び延長部２１ｂ）を設け、その突起部の接地部２１ａが基板３の接地パターンに半田Ｓ４で半田付けされている。 - 特許庁

To correct non-uniformity of exposure illuminance in a non-scanning direction in a scan exposure apparatus which scans an original and a substrate with respect to a projection optical system for transfer and expose a pattern image formed on the original through the projection optical system onto the substrate.例文帳に追加

原版と基板とを投影光学系に対して走査することにより、原版に形成されたパターン像を、投影光学系を介して基板上に転写露光する走査露光装置において、非走査方向の露光照度ムラを修整する。 - 特許庁

In this lithographic projection apparatus, especially one using a spatial light modulator (5), a projection system (PL) includes a means (10) for splitting a pattern beam (4) into patterned beam fractions (12 and 15) and projecting the fractions (12 and 15) onto separate target positions (25 and 26) on a substrate (27).例文帳に追加

投影システム（ＰＬ）が、パターン付きビーム（４）をパターン付きビーム成分（１２、１５）に分割し、それらを基板（２７）上の個別目標部分（２５、２６）に投影するための手段（１０）を含む、特に空間光変調器（５）を使用するリソグラフィ装置。 - 特許庁

In the member 1 where a plate-like projection protruded to the rear face of the printed board is soldered with a conductor pattern of the printed board by inserting the part through a hole of the printed board, an edge inclined so that it becomes narrow toward a tip is formed in the plate-like projection.例文帳に追加

プリント基板の穴を挿通させてプリント基板の裏面に突出させた板状突出部をプリント基板の導体パターンと半田付する部材１において、板状突出部に先端に向けて狭くなるように傾斜した縁を形成した。 - 特許庁

In an inner face of the groove 2, minute linear recess parts and linear projection parts are alternately formed to be in a repeated striped pattern by the irradiation of short pulse laser, and the minute linear recess parts and linear projection parts are extended in a direction orthogonal to the rolling slide direction.例文帳に追加

溝２の内面には、短パルスレーザーの照射により、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されており、線状凹部及び線状凸部は転がり摺動方向に対して直交する方向に延びている。 - 特許庁

The exposure system comprises 6 mirrors and has the projection optical system for projecting and exposing images of a reticle pattern on a wafer, and also has a detection system for detecting a positional offset amount of the images during the projection and exposure.例文帳に追加

６枚のミラーから成り、レチクルのパターンの像をウエハ上に投影露光する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影露光中に、前記像の位置ずれ量を検出する検出系を有することを特徴とする露光装置。 - 特許庁

An optical imaging device especially used for microlithography comprises a mask device for housing a mask having a projection pattern, a projection device having an optical element group, a substrate device for housing the substrate, and a liquid immersion zone 110.例文帳に追加

投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置と、液浸ゾーン１１０とを備える、特にマイクロリソグラフィで使用するための光学結像装置である。 - 特許庁

The projection means irradiates the subject with a projection pattern indicating at least the outline of the imaging region on the basis of the drawing data generated by the drawing data generation means when positioning the imaging object part of the subject.例文帳に追加

投光手段は、被検体の撮像対象部位を位置決めする際に、前記描画データ生成手段により生成された描画データに基づいて、前記被検体上に前記撮像領域の少なくとも外郭を表す投光パターンを照射する。 - 特許庁

The present invention relates to the electromagnetic wave-shielding materials 10 including a transparent substrate 1 and a projection pattern layer 2 composed of a conductive composition formed in a prescribed pattern on the transparent substrate 1, wherein the conductive composition contains conductive particles and a binder resin, and in observation of a transverse cross section of the projection pattern layer 2 by electron microscopic photography, at least a part of the conductive particles has a fused continuation.例文帳に追加

透明基材１と、透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、凸状パターン層２の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有する。 - 特許庁

Thus, on the surface of the light reflection film 8a, the recessed and projected pattern 8g for the light scattering corresponding to the recessed and projected shape of the recess and projection forming layer 13a is imparted.例文帳に追加

このため、光反射膜８ａの表面には、凹凸形成層１３ａの凹凸形状に対応した光散乱用の凹凸パターン８ｇを付与することができる。 - 特許庁

In a layout where a bend is arranged and a plurality of wirings (103) are disposed in parallel, a wiring pattern where a projection part (104) is installed at an apex of the bend is given.例文帳に追加

屈曲部を有し多数の配線（１０３）が並行して配列されているレイアウトにおいて、屈曲部の頂点に突出部（１０４）を設けた配線パターンとする。 - 特許庁

To provide a method capable of improving the reliability of biometrics for evaluating a projection line stripe pattern for authentication in an entrance area against a false trial.例文帳に追加

欺瞞の試みに対抗して、入口領域での認知チェックのために突起線スジパターンを評価する生物測定の信頼度を向上させることができる方法を提供する。 - 特許庁

A conductive projection 14 is provided to the second circuit pattern 13 to come into contact with the electrode 5 formed on the front of the capacitor 1, penetrating through the insulating layer 12.例文帳に追加

第２の回路パターン１３に、絶縁層１２を突き抜けてチップコンデンサ１の表面の電極５と接触する形状の導電性突起部１４を形成する。 - 特許庁

This exposure apparatus EX exposes a substrate 14 by projecting, by a projection optical system 13, a pattern of an original plate 11 illuminated by an illumination system IL on the substrate 14.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによって照明される原版１１のパターンを投影光学系１３によって基板１４に投影して基板１４を露光する。 - 特許庁

A base layer 22 is formed on the outer periphery surface of a substrate 20 in a decorative member 10, and a recess/projection pattern 22A is formed on the outer periphery surface of the base layer 22.例文帳に追加

加飾部材１０では、基材２０の外周面にベース層２２が形成されており、ベース層２２の外周面には、凹凸柄２２Ａが形成されている。 - 特許庁

An imaging element bear chip 5 is placed by facing an end of the projection 6c and the wiring pattern of the lower side of the flexible board 7 and the imaging element bear chip 5 are flip-chip-mounted.例文帳に追加

突出部６ｄの端部に対面させて撮像素子ベアチップ５を配置し、撮像素子ベアチップ５とフレキシブル基板７下面の配線パターンをフリップチップ実装する。 - 特許庁

A method is provided for manufacturing the optical component to be used in the exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a pattern of a reticle on the substrate via a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系を介してレチクルのパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置において使用される光学部品を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Perspective transformation of each computed three-dimensional coordinate is performed to produce a projection image in which the transformed coordinate is expressed by a predetermined pattern, and which is displayed on a monitor device.例文帳に追加

そして、算出された各３次元座標を透視変換して、変換後の座標を所定のパターンで表した投影画像を生成し、これをモニタ装置に表示する。 - 特許庁

To provide a mask that can transfer an angled pattern without forming an angle at the opening section of the mask, and a manufacturing method of the mask, and to provide a projection aligner and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

マスクの開口部に角を形成せずに、角を有するパターンを転写できるマスク、その製造方法、露光装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner which can print a pattern with uniform resolution over the entire surface of a light exposure region.例文帳に追加

露光領域全面にわたり均一な解像力でパターンを焼き付けることができる投影露光装置、特に走査型の投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the manufacturing method for the circuit arrangement, a projection 25 which projects up partially to an electric conduction pattern 18 is formed in the surface of a circuit board 16.例文帳に追加

本発明の回路装置の製造方法では、回路基板１６の表面に形成される導電パターン１８に部分的に上方に突出する突出部２５を形成する。 - 特許庁

As the projection 72a is engaged with and disengaged from the engagement hole 12b, the slipping of the driving pulley 72 and the pattern belt 12 can be prevented, which allows the high-speed rotation and the quick acceleration and deceleration.例文帳に追加

突起７２ａが係合穴１２ｂに係脱するので、駆動プーリ７２と図柄ベルト１２とがスリップすることはなく、高速回転や急激な加減速が可能になる。 - 特許庁

An imaging optical system 6 is made to be such a telecentric optical system that the image of an object 7 lit with a pattern projection mechanism 17 is imaged on an imaging sensor 8.例文帳に追加

結像光学系６はパターン投影機構１７により照明された物体７の像を撮像センサ８上に結像させるテレセントリック光学系となっている。 - 特許庁

The substrate (substrate holding member) is fixed and the pattern projection unit 14 moves, so the need for a large and heavy surface plate supporting a stage etc., holding the substrate is eliminated.例文帳に追加

基板（基板保持部材）を固定とし、パターン投影ユニット１４が移動するので、基板を保持するステージ等を支持する大型、大重量の定盤が不要となる。 - 特許庁

A first shade 38 forms a partial shape of a low-beam light distribution pattern in an oncoming lane area with the backward focal position of a projection lens 36 as an advance position.例文帳に追加

第１シェード３８は投影レンズ３６の後方焦点位置を進出位置として対向車線領域にロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring device capable of projecting a pattern to a sample from an optional direction around an imaging optical axis by one projection optical system.例文帳に追加

１つの投影光学系により撮像光軸周りの任意の方向からパターンを標本に投影することができる３次元形状計測装置を提供する。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

The projection part 3 can be formed into a molding or a character, or a pattern printed layer 5 or lining paper 6 can be stacked on the rear surface of a transparent film 4.例文帳に追加

該隆起部３を造型物またはキャラクターに形成することができ、また、透明フィルム４の裏面に絵柄印刷層５、裏打ち紙６を積層することができる。 - 特許庁

The image of a pattern formed in a mask (working reticle 34) as a measuring object is enlarged by a projection optical system 3 and observed (measured) with a spatial image measuring device 209.例文帳に追加

測定対象としてのマスク（ワーキングレチクル３４）に形成されたパターンの像を投影光学系３で拡大して空間像計測装置２０９で観察（計測）する。 - 特許庁

A projection exposure device has a switching means for polarization states and a switching means for effective light sources so as to generate illumination light corresponding to the pattern of a reticle.例文帳に追加

本発明の投影露光装置では、レチクルのパターンに応じた照明光を形成するため、偏光状態の切り替え手段と有効光源の切り替え手段を有する。 - 特許庁

A lamp is lighted from the rear surface of the reel to display a pattern, and an image is projected by a projection part on a mirror surface of the reel to display the reflection image for the presentation.例文帳に追加

リールの裏面側からランプを点灯して図柄を表示させ、また投影部がリールの鏡面に映像を投影することで反射映像を演出表示する。 - 特許庁

When an object is placed on the light receiving surface R, a linear pattern is projected by hologram reconstructing light to image a projection image to measure a three-dimensional shape of the object.例文帳に追加

受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 - 特許庁

An erect image of the wiring pattern of the mask is projected by a projection optical system 9 onto the wiring board 20 synchronously moving with the mask on a wiring board stage 10.例文帳に追加

そして、マスクの配線パターンの正立像が、投影光学系９によって配線基板ステージ１０上でマスクと同期して移動している配線基板２０に投影される。 - 特許庁

To provide a lithography projection equipment capable of obtaining an optimal image quality by preferentially compensating the most important aberration related to an individual usage (individual pattern and illumination mode, etc).例文帳に追加

個々の使い方（個々のパターン、照明モード他）に関わる最も重要な収差を優先して補償して最適なイメージ品質をえられるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

The image projected by the image projection device 40 is displayed by using an area of the liquid crystal display screen 60, which is made into a light scattering state by the pattern display.例文帳に追加

パターン表示によって液晶スクリーン６０の光散乱状態とされた領域を用いて画像投影装置４０で投影された画像を表示できる。 - 特許庁