「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The the condenser lens 7 irradiates a part of a mask held by a mask holder 8 so as to generate the infinite image of the wiring pattern of the mask at the position of an aperture diaphragm 9 in a projection optical system 9, that is, the position of the aperture diaphragm 91 of the projection optical system 9 functions as a Fourier transformation plane of the mask.例文帳に追加

コンデンサレンズ７は、投影光学系９の開口絞９１の位置に、マスクの配線パターンの無限遠像が生じるように、すなわち、投影光学系９の開口絞９１の位置がマスクのフーリエ変換面となるように、マスクホルダ８によって保持されたマスクの一部を照射する。 - 特許庁

To provide a flexible forming die capable of easily and inexpensively manufacturing a fine structure including a fine mesh projection pattern or its similar projection pattern formed on the surface with high dimension accuracy and good yield, and simultaneously satisfying high dimension accuracy and good dimension stability, in particular good dimension stability with respect to humidity change.例文帳に追加

微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。 - 特許庁

In the probe substrate for inspection that is provided with a substrate having insulation properties, a specific wiring pattern that is formed on the substrate, and a metal-plated projection that is formed, so that it is electrically connected onto the wiring pattern and comes into contact with the external terminal of a semiconductor device an electronic device, the metal- plated projection is formed through electroless plating method.例文帳に追加

絶縁性がある基板と、前記基板上に形成された所定の配線パターンと、前記配線パターン上に電気的に接続されるように形成され、半導体装置もしくは電子装置の外部端子と接触する金属めっき突起とを備えた検査用プローブ基板であって、前記金属めっき突起は、無電解めっき法で形成された金属めっき突起である。 - 特許庁

In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping.例文帳に追加

位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。 - 特許庁

To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

Further, the conductor pattern layer is a conductive composition layer formed of conductive particles and a resin via a primer layer, it being preferred that the primer layer is thicker at a formation part of the conductor pattern layer than at a non-formation part and the conductive particles are dense nearby the top of a projection as the formation part of the conductor pattern layer and coarse nearby the primer layer.例文帳に追加

更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a library preparing method used in cross-section shape measurement for measuring, with high throughput and high accuracy, the cross-section shape of a pattern of a structure having a cyclic recess-and-projection shape (such as lines and spaces) without destroying the pattern or without being affected by changes in optical constants of a substance constituting the pattern.例文帳に追加

周期的な凹凸形状（例えば、ライン＆スペース等）を有する構造のパターンの断面形状を、そのパターンを破壊することなくかつパターンを構成する物質の光学定数の変化に影響されることなく、高スループットかつ高精度に測定する断面形状測定に用いられるライブラリ作成方法を提供すること。 - 特許庁

A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.例文帳に追加

放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁

The projection exposure device 11 has a mercury lamp 13 generating an illuminating light 31 required for an exposure to form a pattern on a wafer 12 by photolithography technology, and a reticle 22 having a pattern image for forming a pattern on a wafer 12.例文帳に追加

投影露光装置１１は、フォトリソグラフィ技術を用いてウエハ１２上にパターンを形成するべく、露光に必要な照明光３１を発生させる水銀ランプ１３と、ウエハ１２にパターンを形成するためのパターン像を有するレチクル２２と、レチクル２２に照射する１ショットの露光領域を制御する液晶ブラインド１９と、ウエハ１２を載置固定するステージ２５とを有する。 - 特許庁

This three-dimensional measuring instrument of the present invention is constituted of a pattern projector 1 as a projection means for projecting a pattern light onto a measuring object A, a camera 2 as an imaging means for imaging the measuring object A projected with the pattern light to pick up an image, and a computer 3 for processing a data of the image picked up by the camera 2.例文帳に追加

本発明の三次元計測装置は、計測対象物Ａにパターン光を投影する投影手段としてのパターン投影機１と、パターン光が投影された計測対象物Ａを撮像して画像を撮像する撮像手段としてのカメラ２と、このカメラ２により撮像した画像のデータを処理するコンピュータ３とから構成される。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

A confocal optical system projecting a grating pattern 34 via a projection lens 32 from the direction with no view disturbance in the measuring object region of the measured object 36, and focusing the grating pattern image on the light receiving surface 46 of a CCD 50 by a focusing lens 44 via a half mirror 42 is formed.例文帳に追加

被測定物３６の測定対象領域に視野の遮りがない方向から格子パターン３４を投影レンズ３２を介して投影し、格子パターン像をハーフミラー４２を介して結像レンズ４４によりＣＣＤ５０の受光面４６に結像させる共焦点光学系を形成する。 - 特許庁

The exposure apparatus that transcribes a pattern of a reticle 2 to a substrate 6 via a projection optical system 3, has a controller 14 that corrects an image of the pattern imaged on the substrate 6 according to a shape of the reticle 2 in a waiting state until start of an exposure operation.例文帳に追加

本発明は、投影光学系３を介してレチクル２のパターンを基板６に転写する露光装置であって、露光動作が開始されるまでの待機状態における前記レチクル２の形状に応じて、前記基板６の上に結像される前記パターンの像を補正する制御器１４を備える。 - 特許庁

The forepoling steel pipe 6 is manufactured, in an electric resistance welded tube manufacturing facility by a hot rolling for passing a roll with discontinuous lattice pattern grooves therethrough using, as a raw material, a checkered steel plate on the surface of which a large number of ridge-like projection parts which are regularly arranged so as to form an discontinuous lattice pattern are formed.例文帳に追加

先受け鋼管６は、不連続格子模様の溝を刻んだロールを通す熱間圧延により、表面に、規則的に配列されて不連続格子模様をなす多数の突条態様の突起部を形成した縞鋼板を素材として電縫管製造設備で製造された鋼管である。 - 特許庁

The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.例文帳に追加

ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16.例文帳に追加

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン８に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域１６に分割する補助パターン１０を合成する。 - 特許庁

The tire has a scale-like pattern 10 on the tire outer surface 3a of a side wall 3 and the scale-like pattern 10 is formed by superposing it with at least one of a plurality of inclination surfaces having a plurality of adjacent inclination surfaces in each of which a projection amount from the tire outer surface 3a is increased toward one direction.例文帳に追加

サイドウォール部３のタイヤ外表面３ａに鱗状模様１０を有し、鱗状模様１０をタイヤ外表面３ａからの突出量が一方向に向かって増加する複数の傾斜面が隣り合う複数の傾斜面のうち少なくとも１つと重なり合うことで形成する。 - 特許庁

The projection optical system for exposing a photosensitive surface by projecting the image of the pattern surface on an original plate M to the photosensitive surface on a substrate P satisfies the conditions L/Ei<7 where L: the distance on the optical axis from the pattern surface and Ei: the diameter of the exposure region where the photosensitive surface is exposed.例文帳に追加

原版Ｍ上のパターン面の像を、基板Ｐ上の感光面に投影して感光面を露光する投影光学系において、Ｌ：パターン面から感光面までの光軸上の距離、Ｅｉ：感光面を露光する露光領域の直径、とするとき、Ｌ／Ｅｉ＜７なる条件を満足する。 - 特許庁

The method forms a relief embossing pattern and a contact hole on a surface of an organic protective film by pressuring a mold having an intaglio embossing pattern and a projection on the surface of the organic protective film to expose a drain electrode through the contact hole.例文帳に追加

本発明による液晶表示装置の製造方法は、陰刻エンボシングパターンと突出部とを含むモールドを有機保護膜の表面に加圧することで、有機保護膜の表面に陽刻エンボシングパターンと接触孔とを形成し、その接触孔からドレイン電極を露出させる。 - 特許庁

Welding is applied by bringing a welding electrode trunk part into contact from both axial sides of the engaged projection parts 51 and 52 and the recessed parts 53 and 54, and the resistor 30 is electrically and mechanically connected to the wiring pattern 29 and the wiring pattern 31.例文帳に追加

係合された係合凸部５１，５２及び係合凹部５３，５４の軸方向両側から溶接電極幹部が当接して溶接が施され、ローサイド側コモン配線２９及びグランド配線３１と電流検出用抵抗３０とが電気的機械的に接続される。 - 特許庁

An ideal image of a projection pattern is decided, a distorted image of the pattern which is simulated on the basis of the imaging quality parameter is decided, the deflection between the simulated image and the ideal image is decided, the image tuning parameter is corrected and changed in the imaging process in order to minimize deflection, and the distortion of the image is decreased.例文帳に追加

投影パターンの理想像を決め、結像品質パラメータに基づいてこのパターンのシミュレートした歪んだ像を決め、このシミュレートした像と理想像の間の偏差を決め、この偏差を最小化するために結像プロセス中に像調整パラメータを修正変更して、像の歪みを減少する。 - 特許庁

Then, a circuit wiring pattern 5 is formed on the first conductive layer 3 by etching, an adhesive insulating resin is adhered to the side of the circuit wiring pattern, the second conductive layer 1 is etched to form a projection 7, and then the layer of different kinds of metal that becomes the etching stopper is removed.例文帳に追加

そして、第一の導電層３にエッチングにより回路配線パターン５を形成し、接着性絶縁樹脂をその回路配線パターン側に接着し、前記第二の導電層１をエッチングすることにより突起７を形成し、その後前記エッチングストッパーとなる異種金属層を除去する。 - 特許庁

In a step 417, an optimum dosage for exposure for a measurement pattern for optical characteristic measurement of the projection optical system is temporarily determined on the basis of the detection result of a formation state of an image of the measurement pattern formed in a plurality of regions on a wafer through exposure processing in a step 406.例文帳に追加

ステップ４１７において、ステップ４０６の露光処理によってウエハ上の複数の領域に形成された計測用パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性計測のための前記パターンの露光の最適ドーズ量が仮に決定される。 - 特許庁

Plural projection electrodes (solder bumps) 13 for external connection on an IC chip 12 are connected electrically with a circuit board 11 via a conduction pattern 141, terminal electrode 142, conduction pattern 151 and terminal electrode 152 of flexible first and second intermediate connecting layers 14 and 15.例文帳に追加

ＩＣチップ１２における外部接続用の複数の突起電極（はんだバンプ）１３は、フレキシブルな第１、第２中間接続層１４，１５の導電パターン１４１、端子電極１４２、導電パターン１５１、端子電極１５２を介して回路基板１１と電気的に接続される。 - 特許庁

The continuous recording layer is worked to the irregular pattern shape and after a recording element 32A is formed as the projecting part of the irregular pattern, the body 10 to be worked is irradiated with an ion beam from a direction inclined with a direction perpendicular to its surface to remove the projection 38 near the top surface end of the element 32.例文帳に追加

連続記録層を凹凸パターン形状に加工し、該凹凸パターンの凸部として記録要素３２Ａを形成してから、被加工体１０の表面に垂直な方向に対し、傾斜した方向からイオンビームを照射し、記録要素３２Ａの上面端部近傍の突起３８を除去する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

The reticle cover has a mounting part disposed on an upper face of a lower cover member to mount a reticle with its pattern face opposing to the upper face at a given distance, wherein a proximity projection part opposing and close to the pattern face of the reticle is formed on the upper face of the lower cover member.例文帳に追加

下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

To make a high-beam light distribution pattern formed by a projector type lamp unit excellent in distant visibility, and to enhance distant visibility for a low-beam light distribution pattern as required as well, in a projector type lamp unit composed by arranging first and second light source units behind a projection lens.例文帳に追加

投影レンズの後方に第１および第２光源ユニットが配置されてなるプロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、これにより形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとするとともに、ロービーム用配光パターンに関しても必要に応じて遠方視認性を高める。 - 特許庁

Optimization is based on an estimated device structure and/or an estimated dose pattern that utilize one or more of the following factors: the low-pass characteristics of a projection system, the configuration of an illumination system, and the process window characteristics.例文帳に追加

最適化は、投影系のローパス特性、照明系の構成、及びプロセスウィンドウ特性のうちの１つまたは複数を利用するデバイス構造及び／またはドーズ量パターンの推定値に基づく。 - 特許庁

A missing spot ratio of the arced image is calculated by conducting polar coordinate transformation on the arced image and determining a number of missing spots from a pattern of a maximum projection value (linearity) determined from a plurality of candidates.例文帳に追加

この発明は、円弧画像を極座標変換し、複数候補から求めた最大射影値（直線性）のパターンから欠け数を求め、円弧画像の欠け率を算出するようにしたものである。 - 特許庁

To provide a measuring device capable of performing accurate three-dimensional shape measurement by creating a projection pattern so as to prevent influence of the surface shape of a specimen.例文帳に追加

被検物の表面形状の影響を受けることがないように投影パターンを生成して正確な三次元形状測定を行うことができるような測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner which prevents blurs from occurring on a lens, by organic gas components being produced by applying light to an organic film which is used for formation of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパタンの形成に使われる有機膜に光を照射することによって生じる有機気体成分により、投影レンズに曇りが生じることを防止した投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To improve manufacturing yield of disk media by eliminating the formation of a servo pattern which can uniformize a projection-to-depression ratio on a disk surface and requires a detailed physical process in particular.例文帳に追加

ディスク面上の凹凸比の均一化を図ることが可能で、かつ特に微細な物理的加工を要するサーボパターンの形成を省略することでディスク媒体の製造歩留まりを向上する。 - 特許庁

The control unit 85 forms an image pattern applied with trapezoidal correction on a liquid crystal display panel 32b by a ratio of reversing up-and-down projection scale factor in order to project an undistorted image on the screen SC.例文帳に追加

制御部８５は、上下の投射倍率を反転した比率で台形補正した画像パターンを液晶表示パネル３２ｂに形成することによって、スクリーンＳＣ上に歪のない画像を投射する。 - 特許庁

A connection pattern 4 fixed to the through-hole electrode 1a part with conductive adhesive 5 is derived and formed to be extended to the upper and lower surfaces and reaches a top face of each of the projection parts 2a.例文帳に追加

スルーホール電極１ａ部に導電性接着剤５により固着された接続パターン４が上下面に延びて導出形成されており、それぞれ突起部２ａの頂面に達している。 - 特許庁

In exposing a substrate P by projecting an image of a pattern on a substrate P through a projection optical system PL and fluid 1, liquid repellent is applied to a side face PB and a rear face PC of the substrate P.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光する際、基板Ｐの側面ＰＢ、裏面ＰＣを撥液処理する。 - 特許庁

Also a projecting and recessing pattern 8g for light scattering is formed on a surface of the light transmission film 8a by forming a lower layer side projection and recession forming film 13a on the lower layer side of the light transmission film 8a.例文帳に追加

また、光反射膜８ａの下層側に下層側凹凸形成膜１３ａを形成することにより、光反射膜８ａの表面に光散乱用の凹凸パターン８ｇを形成する。 - 特許庁

Areas R301, R309 where a density of pattern on a floor surface is comaratively high correspond to projection areas R110A-1 to R110A-9, and R110D-10 to R110D-18.例文帳に追加

床面上の模様の濃淡が比較的濃い領域Ｒ３０１、Ｒ３０９に対応するのは、投光領域Ｒ１１０Ａ−１〜Ｒ１１０Ａ−９、Ｒ１１０Ｄ−１０〜Ｒ１１０Ｄ−１８である。 - 特許庁

Areas R303, R307 where a density of pattern on a floor surface is comparatively pale correspond to projection areas R110A-10 to R110A-18, and R110D-1 to R110D-9.例文帳に追加

また、床面上の模様の濃淡が比較的淡い領域Ｒ３０３、Ｒ３０７に対応するのは、投光領域Ｒ１１０Ａ−１０〜Ｒ１１０Ａ−１８、Ｒ１１０Ｄ−１〜Ｒ１１０Ｄ−９である。 - 特許庁

In addition, through projection and depression by employing present-day aesthetic design and geometrical pattern on a surface layer, the artificial stone full of the power of impression on the present-day culture, civilization and science is created.例文帳に追加

そして表層部を出張りとへっこみによって、現代の美的デザイン模様や幾何学的模様をもちいることにより、現代の文化文明科学の印象力に満ちた人工石にします。 - 特許庁

Concerning the electrolyte film 1 having protection films, since the pitch of protrusion 4 of the projection pattern 5 can be controlled in small distance, surface area can be increased compared with conventional electrolyte film.例文帳に追加

この保護フィルム付き電解質膜１によれば、凸パターン５の突起４のピッチを小さく制御することができるので、従来の電解質膜と比較して表面積を増大させることができる。 - 特許庁

At the time of projection operation, a lighting pattern corresponding to the level of the brightness of the surrounding is read out, and the lighting patterns of the LEDs of each color are switched accordingly, thereby optimizing the brightness of the projected image.例文帳に追加

投影動作時には周囲の明るさのレベルに応じた点灯パターンを読み出し、それに応じて各色のＬＥＤの点灯パターンを自動的に切り替え、投影画像の明度を最適化する。 - 特許庁

The projection image display device 100 is configured to display a test pattern image constituting at least a part of each of three or more line segments composing three or more cross points.例文帳に追加

投写型映像表示装置１００は、３つ以上の交点を構成する３つ以上の線分のそれぞれの少なくとも一部分を構成するテストパターン画像を表示するように構成される。 - 特許庁

To provide a lithography system using a programmable patterning means, in order to turn into pattern a projection beam in which throughput is enhanced, without significantly increasing the update speed of the patterning means.例文帳に追加

投影ビームをパターン化するためにプログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置に於いて、パターニング手段の更新速度をあまり上げることなくスループットを改善した装置を提供すること。 - 特許庁