「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

The problem is solved by combining a safety button (3) of a shift lever grip (1) provided in an upper and lower projection part (2) of a side surface of the shift lever grip with a shift pattern (4) opposite to a conventional one.例文帳に追加

シフトレバーグリップ（１）の安全ボタン（３）をシフトレバーグリップ側面の上下の張り出し状（２）の中に設けたものと、従来と逆のシフトパターン（４）を組み合わせて、この課題を解決する。 - 特許庁

To improve the dimensional accuracy of a pattern formed on a board by suppressing the reflection of a dimensional error on the board being an object to be exposed during the production of a projection mask.例文帳に追加

投影マスク製造時の寸法誤差が被露光対象である基板上に反映されてしまうことを抑止して、基板上に形成するパターンの寸法精度を向上させる。 - 特許庁

Joint bars 4 and 4 composed of an elastic raw material such as a foaming body are loaded in a joint part 6 for aligning the tiles 2 and 2 by applying the roughened surface 3 of the recess-projection 3a, 3b pattern to the surface.例文帳に追加

表面に凹凸３ａ，３ｂ模様の粗面３を施したタイル２，２を整列させた目地部６に、発泡体など弾性ある素材から成る目地棒材４，４を装填する。 - 特許庁

A pattern projection unit 14 supported by support members 24 and 26 over a substrate P across a clearance in the gravitational direction is driven by a driving system in a specified direction.例文帳に追加

支持部材２４，２６によって基板Ｐに対して重力方向に関して所定のクリアランスを介して支持されたパターン投影ユニット１４が駆動系により所定方向に駆動される。 - 特許庁

The pattern belt 12 is rotated along a correct track by the tension roller 82, the engagement of the engagement hole 12b and the projection 72a, and flanges 76a, 77a of the driven pulleys 76, 77.例文帳に追加

図柄ベルト１２はテンションローラ８２、係合穴１２ｂと突起７２ａとの係合及び従動プーリ７６、７７のフランジ７６ａ、７７ａによって正確な軌道に沿って回転する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure system which exposes a substrate with proper pattern transfer accuracy, when exposure treatment is conducted between a projection lens system and the substrate with a liquid filled up.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で露光処理を行う際、良好なパターン転写精度で基板を露光できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a recess is formed on the ceramic green sheet 21 by pushing a stamper 27, on which a projection corresponding to the electronic pattern is formed, against the ceramic green sheet 21 in a recess forming process.例文帳に追加

続いて、凹部形成工程において、電極パターンに対応する突部が形成されたスタンパー２７をセラミックグリーンシート２１に押し当ててセラミックグリーンシート２１に凹部を形成する。 - 特許庁

To provide a blasting method of a surface of a plastic film whereby the generation of an electrostatic pattern is prevented, adhesion of an abrasive material on a non-projection surface is restrained, and a mat surface is evenly blasted.例文帳に追加

静電気模様の発生がなく、非投射面に研掃材の付着が少なく、マット面の面状が均一にブラスト加工されるプラスチックフイルム表面のブラスト加工方法を提供する。 - 特許庁

The camera includes a display part 32 transmitting light emitted from a light source 28, and a display control part 66 displaying a focus detecting pattern and a projection image switchingly on a display part.例文帳に追加

光源２８から射出される光を透過する表示部３２と、前記表示部に焦点検出用パターンと投影画像とを切替可能に表示する表示制御部６６とを備える。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of exactly aligning a reticle and a photosensitive substrate through simple constitution or procedure to form a conductive pattern on the optimum position of the photosensitive substrate.例文帳に追加

簡素な構成や手順で、レチクルと感光基板との位置合わせを的確に行うことができ、導体パターンを感光基板の適切な位置に形成できる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection part region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

When the person stands nearer to a projector 100 side than a screen S, a projector control part 103 controls a projection part 101 to project a pattern image where target mark images are arrayed.例文帳に追加

プロジェクタ制御部１０３は、スクリーンＳよりもプロジェクタ１００側に人物が立っている場合に、投影部１０１にターゲットマーク画像が整列したパターン画像を投影させる。 - 特許庁

Reflected light from a projection pattern 31, extended in one direction, which is different from that image data and projected while being shifted in position is received by a light-receiving sensor 21.例文帳に追加

そして、上記画像データとは異なり、且つ位置がシフトされながら投影された、一方向に延出された投影パターン３１の反射光が、受光センサ２１によって受光される。 - 特許庁

The resulting pattern may be used in a projection lithography apparatus having a programmable patterning means that is adapted to generate three or more intensity levels.例文帳に追加

その結果得られるパターンは、３つ以上の強度レベルを生成するように適合されたプログラム可能なパターン形成手段を備える投影リソグラフィ装置内で使用することができる。 - 特許庁

The storage rack 10 has an accommodation section 11 that is partitioned in a reticular pattern and a projection portion 12 is provided to fix and hold the storage tube 20 on the side wall of the accommodation section.例文帳に追加

保管ラック１０は、格子状に仕切られた収容部１１を有しており、収容部の側壁には、試料チューブ２０を固定して保持するための突起部１２が設けられている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel capable of suppressing deterioration of image quality due to diffraction and scattering in a corner part of a light shielding pattern on a TFT substrate and to provide a projection type display apparatus.例文帳に追加

ＴＦＴ基板上の遮光パターンのコーナー部分における回折及び散乱による画質の劣化を抑制できる液晶パネル及び投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

For an insulating board 13, a projection 21 for preventing the blot of the said hardened adhesive part 16 is made around the mounting position of the bare chip IC11 by, for example, a printed pattern.例文帳に追加

絶縁基板１３は、ベアチップＩＣ１１取付位置の周囲に前記硬化接着剤部１６のにじみを防止するための突起部２１を例えば印刷パターンによって形成している。 - 特許庁

When the grip member 16 at the distal end of the operation rod 13 is rotated in a circular pattern with the projection group applied to the abdomen, the projections 12 sequentially push the abdomen to give a comfortable massage effect.例文帳に追加

突起群を腹部に当てて操作棒１３の先端の握り部材１６を円を描くように回すことにより、突起１２が順に腹部を押圧し、快適なマッサージ効果が得られる。 - 特許庁

Since refractive index of the liquid 203 is increased and resolution is enhanced without imposing any burden on the projection lens 205, a resist pattern having a good profile can be attained.例文帳に追加

これにより、液体２０３の屈折率の値が大きくなって、投影レンズ２０５に負担を掛けることなく解像度が向上するので、良好な形状を有するレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁

The lithography system includes an illumination system for providing a radiation beam, a support for supporting a pattern forming device, a substrate table, and a projection system.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系、パターン形成装置を支持するように構成された支持体、基板テーブル及び投影システムを含む。 - 特許庁

Relative positional shifts of the projection images SPI with respect to a frame pattern on the testing substrate 91 are also measured based on the images acquired by the photographing, and the shifts are corrected.例文帳に追加

また、撮影により取得された画像に基づいて、試験用基板９１上の枠パターンに対する投影像ＳＰＩの相対位置のずれを計測し、そのずれを補正する。 - 特許庁

To provide a headlamp for a vehicle capable of increasing light intensity emitted ahead from a projection lens, and selectively increasing an illuminance of a specific portion in a distribution light pattern.例文帳に追加

投影レンズから前方に出射する光量を増大させるとともに、配光パターンにおける特定部位の照度を選択的に高めることが可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

To provide a method of easily sticking three-dimensional pattern formed members which are capable of freely expressing colors and patterns, are smooth to the touch, have distinct projection and are usable for braille, etc.例文帳に追加

色や模様を自在に表現でき、触れても滑らかで凹凸のはっきりした点字等に使用可能な立体色模様形成部材を、簡便に貼り付け施工する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing element preventing over-etching of a grid pattern and having a high aspect ratio, and to provide a method for manufacturing the polarizing element, a liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加

グリッドパターンのオーバーエッチが防止されるとともに高いアスペクト比を有する偏光素子、偏光素子の製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

In the vehicle lamp, a shade-cum-additional reflector 5 has a projection part 15 to form a lower horizontal cut-off line CL1 and a slanted cut-off line CL2 of a low beam light distribution pattern LP.例文帳に追加

シェード兼付加リフレクタ５には、すれ違い用配光パターンＬＰの下水平カットオフラインＣＬ１および斜めカットオフラインＣＬ２を形成する突起部１５が設けられている。 - 特許庁

The discharge pattern shielding unit 31 is provided near the metal wiring shielding unit 30c, and has a crest-shape projection part 31a projecting toward the metal wiring shielding unit 30c.例文帳に追加

放電パターン遮光部３１は、金属配線遮光部３０ｃの近傍に備えられており、金属配線遮光部３０ｃに向かって突出する山型の凸部３１ａを有している。 - 特許庁

To solve the following problems; in the case of automatic-focusing for a projection type image display apparatus, a dedicated pattern is projected, and also, a focus control is performed during an image projecting operation, consequently, an observer has sense of incongruity.例文帳に追加

投射型画像表示装置においてオートフォーカスを行うには、専用のパターンを投射したり、画像の投射中にフォーカス制御を行うので、観察者に違和感を与える。 - 特許庁

In a reflective lithographic projection apparatus, shifts of a mask pattern image in the scanning direction, which are caused by changes in the position of the mask pattern surface along the optical axis, are corrected by shifting the relative position(s) of the mask and/or a substrate in the scanning direction.例文帳に追加

反射型リソグラフィ投影機器において、光軸に沿ってマスクのパターン表面の位置が変動することによって生じるマスクのパターン像の走査方向のシフトを、マスクおよび／または基板の相対位置を走査方向にシフトすることによって補正する。 - 特許庁

Based on the coordinates information on the center calibration pattern A1 and known information on the shape in a photographed image for calibration, an initial parameter is obtained once by plane projection conversion so that the shape of the calibration pattern becomes a known square on a conversion image.例文帳に追加

校正用撮影画像における中央の校正パターン（Ａ１）の座標情報と形状に関する既知情報に基づき、変換画像上において該校正パターンの形状が既知の正方形になるように平面射影変換にて一旦初期パラメータを求める。 - 特許庁

Before forming a data pattern, a projection of a semiconductor, and an amorphous silicon pattern, a gate insulating film 140 that exists on the straight portion of the gate line end portion, a sustain electrode line 131 near a sustain electrode fixed end, and the free end of the sustain electrode is removed partially.例文帳に追加

データパターン、半導体の突出部及び非晶質シリコンパターンを形成する前に、ゲート線端部、維持電極固定端付近の維持電極線１３１、維持電極の自由端の直線部分上に存在するゲート絶縁膜１４０を部分的に除去する。 - 特許庁

A projection part 31 having a linear pattern is provided in an inner surface of an upper side metal mold 3 in a pair of upper/lower metal molds 2 and 3 and a styrene foam molding 1 having a groove part 11 corresponding to the linear pattern is molded using the molds 2 and 3.例文帳に追加

上下一対の金型２,３のうち、上側の金型３の内表面に線状模様を有する突出部３１を設け、この成形型２,３を用いて線状模様に対応した溝部１１を有する発泡スチロール成型品１を成形する。 - 特許庁

When the light source M is lighted and light is projected to an internal part through the lateral end face, since projection light L is scattered due to the unevenness 3a formed in the light guiding plate 1, a pattern formed at the pattern region 3 clearly rises to a surface.例文帳に追加

光源Ｍを点灯させて導光板１の測端面から内部へ光を投射すると、投射光Ｌが導光板１に形成した凹凸３ａによって散乱されるため、絵柄領域３に形成した絵柄が光によって鮮明に浮き上がる。 - 特許庁

To provide an aligning method and an aligner that the dimension of a pattern formed on a substrate is uniformized in each projecting area at the time of transferring the image of the pattern formed on a mask through plural projection optical systems to the substrate.例文帳に追加

複数の投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板上に転写するに際し、基板上に形成されるパターンの寸法が各投影領域において均一化できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

At this time, an image irradiated with a fixed light projection pattern 22 from a light projection part 10 and an image, which is not irradiated, are photographed, and an external personal computer or a correction processing part which is arranged inside performs distortion correction processing according to pieces of image information of those images.例文帳に追加

その際、投光部１０から被写体２１に対して一定の投光パターン２２が照射された画像と照射されていない画像とを撮影し、それらの画像情報に基づいて外部のパーソナルコンピュータ、あるいは、内部に配置された補正処理部で歪補正処理が行われる。 - 特許庁

The receiving pattern 60 includes a first projection part 61 provided between the peripheral edge parts of a pair of sides facing each other of the array substrate 10 and the counter substrate 20, and a second projection part 62 provided between the peripheral edge parts of the other pair of sides facing each other of the array substrate and the counter substrate.例文帳に追加

受止めパターン６０は、アレイ基板１０及び対向基板２０の対向する一対の辺の周縁部間に設けられた第１突起部６１と、アレイ基板及び対向基板の対向する他の一対の辺の周縁部間に設けられた第２突起部６２とを有している。 - 特許庁

An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターン像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間へ液体１を供給する液体供給機構１０を備えている。 - 特許庁

This building material is formed by fixing the tile unit for arranging a plurality of tiles at a predetermined joint interval and connected by the connecting resin, to the base material via the adhesive layer; and is characterized by forming a pattern composed of an irregular projection part of a plurality of projection shapes in the adhesive layer.例文帳に追加

複数枚のタイルが所定の目地間隔で配列され、連結用樹脂によって連結されたタイルユニットを、接着剤層を介して基材に固定した建材であって、前記接着剤層には、複数の突起状の不規則な凸部からなる模様が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide Makyoh configured to confirm a sharp design pattern with projected reflected light even in the absence of a parallel light beam such as a sunbeam, immediately confirm properties of the reflected light used for projection, and immediately determine a condition of a color used for colored projection.例文帳に追加

太陽光線などの平行光線が得られないときであっても、投影した反射光で鮮明な意匠文様を確認でき、加えて、投影に用いる反射光の性質もすぐに確認可能であり、色彩を有する投影の際にその色具合がすぐに判明するような魔鏡を提供する。 - 特許庁

The contraction rate for a semiconductor water is calculated before forming an alignment mark on the semiconductor wafer by irradiated it with beams and the projection magnification formed on a reticle is corrected, based on the calculated degree of reduction of the semiconductor wafer, thereby executing reduced projection of the pattern.例文帳に追加

ビームを照射することによって半導体ウェハにアライメントマークを形成する前に、前記半導体ウェハの伸縮率を算出し、算出された前記半導体ウェハの伸縮率に基づいてレチクルに形成されているパターンの投影倍率を補正することにより前記パターンを縮小投影する。 - 特許庁

To provide a letterpress for pattern formation, which has at least resin-made projection portions and a base for supporting the projection portions, such that water-insoluble solvent ink and water ink can be printed with the same resin plate material and impurity leakage from the resin plate material to an organic layer is prevented.例文帳に追加

少なくとも樹脂製凸部及び該凸部を支持する基材を有するパターン形成用凸版において、これを有機ＥＬ素子に適用する場合、非水溶系溶剤インキと水性インキを同一の樹脂版材で印刷可能とし、樹脂版材から有機層への不純物漏出を防止する。 - 特許庁

To provide a headlight which is a compact vehicular headlight, in which a plurality of projection-type light source units are housed inside a lamp room, and dark zones Dza, b, c that appear in a light distribution pattern for a high beam of respective projection-type light source units are inconspicuous at the high-beam made of the headlights.例文帳に追加

複数の投射型光源ユニットを灯室内に収容したコンパクトな自動車用前照灯で、各投射型光源ユニットの走行ビーム用配光パターンに顕れるダークゾーンＤｚa,b,cが前照灯の走行ビームでは目立たない前照灯を提供する。 - 特許庁

When the pattern projection region 28 is a peripheral projection region 28E, whose part is disposed outside the edge of the substrate 2, the exposed region is moved from one end of the region 28E, having a longer part overlapping the substrate 2 to the other end in the X-direction in that region.例文帳に追加

パターン投影領域２８が、その一部が基板２の縁の外側に配置される周辺投影領域２８Ｅである場合には、その領域におけるＸ方向の両端部のうち、基板２と重なる部分が長い端部から他方の端部に向かって露光領域を移動させる。 - 特許庁

To provide an aligner capable of carrying out exposure at high accuracy, by carrying out a relative alignment between a projection position of an exposure pattern of a projection optical system and a detection position of a position detection optical system, without having to move the position detection optical system on a rear surface side.例文帳に追加

、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The cylindrical shield member 57 has a projection 572 protruding beyond a cylindrical portion 571, the projection also protrudes beyond an opposite substrate face portion 55b through a hole 55g of the sensor substrate 55, and such a protruding portion is fixed on a land-shaped conductive pattern 55e with a conductive member 54 of solder.例文帳に追加

筒状シールド部材５７は、筒状部５７１から突出した突部５７２がセンサ基板５５の穴５５ｇを貫通して反対側の基板面５５ｂで突出しており、かかる突出部分がランド状の導電パターン５５ｅにハンダからなる導通部材５４によって固定されている。 - 特許庁