「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

An exposure apparatus exposes a substrate by projecting a pattern of the original onto the substrate by a projection optical system after illuminating the original by an illumination optical system.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系によって原版を照明し該原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する。 - 特許庁

A toy such as a teething ring is retained at the front of an apron by forcing the pattern or the ring-shaped part of the toy into the constricted part of the elastic projection 2a.例文帳に追加

おしゃぶりなどの遊具は、その柄やリング状になった部分を弾性突起の括れ部に押し込むことによってエプロンの前面に保持される。 - 特許庁

To provide lithography equipment in which a patterned radiation beam is projected on a substrate from a pattern-forming device by using a projection system.例文帳に追加

投影系を用いてパターン形成装置から基板上にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

This optical characteristic measuring jig is used for imaging, by using a digital camera 19, a pattern projection image 17 of an optical characteristic measuring pattern 13 illuminated based on illumination light and projected through the framed spectacle lens 12, and has locking screens 4, 5 having a screen 10 for locking the framed spectacle lens 12, and projecting thereon the pattern projection image 17.例文帳に追加

本発明の光学特性測定具は、照明光に基づき照明されかつフレーム付き眼鏡レンズ１２を介して投影された光学特性測定用パターン１３のパターン投影像１７をデジタルカメラ１９を用いて撮像するために使用され、フレーム付き眼鏡レンズ１２を係止しかつパターン投影像１７が投影されるスクリーン１０が設けられた係止衝立て４、５を有する。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which structure is so constructed that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam onto target portions on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The exposure system EX fills a space between the projection lens system PL and the substrate P up with the liquid 50, and the substrate P is exposed by the projection lens system PL, by projecting an image of the pattern on the substrate P via the liquid 50.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。 - 特許庁

To provide a stencil mask that protects a circuit pattern against the adhesion of dust/dirt and impacts in storage and conveyance prior to use in projection exposure, and to facilitate easy removal of a fitted protective in projection exposure.例文帳に追加

投射露光に使用する前の保管や運搬に際しては、塵埃の付着や衝撃から回路パターンを保護し、投射露光に際しては、装着されている保護シートを容易に除去できるようにしたステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

A work 5 such as a substrate mounted on a work stage 4 is irradiated with light from a light irradiating unit 1 through a mask 2, a projection magnification varying mechanism 10 and a projection lens 3 to project a pattern image on the mask onto the work 5 for exposure.例文帳に追加

光照射部１からの光が、マスク２、投影倍率変更機構１０、投影レンズ３を介してワークステージ４に載置された基板等のワーク５上に照射され、マスクのパターン像がワーク５上に投影され露光される。 - 特許庁

Fine exposure by small σ oblique illumination and rough exposure by large σ vertical illumination are conducted on a wafer by changing the spatial frequency transmission spectrum band of a projection optical system, without developing the wafer in the medium with the gate pattern of a mask set at a projection aligner, so that multiple exposure can be attained.例文帳に追加

投影露光装置に設置したマスクのゲートパターンで、ウエハに対して、途中で現像することなく、小σの斜め照明によるファイン露光と大σの垂直照明によるラフ露光の多重露光を行なう。 - 特許庁

In the exposure apparatus, an exposure of a substrate P is carried out by filling at least a portion of the space between a projection optical system PL and the substrate P with a liquid 50 and projecting the image of a pattern onto the substrate P via the projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

A feature vector extraction processing part 12 calculates a projection feature vector based on projection features to a peculiar space, which is formed in accordance with the distribution of picture elements in the picture of a recognition object pattern, to extract quantitative features.例文帳に追加

特徴ベクトル抽出処理部１２は、認識対象パターンの画像における画素の分布に即して形成される固有空間への射影特徴に基づいた射影特徴ベクトルを算出して定量的な特徴を抽出する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

A part of an OVD is destroyed by heating and pressurizing with using a plate 12, which has a rugged pattern consisting of a recess and a projection with a rough surface and represents another image, such as figures and characters by the recess and the projection with the rough surface.例文帳に追加

ＯＶＤの一部分を、その表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版１２を用いた加熱・加圧によって破壊したこと。 - 特許庁

Here, the test pattern is defined to "comprise a plurality of partial graphics each of which is shaped closer to a standard graphic when it is distorted by an inclination in the direction of projection by an image forming optical system 2 in accordance with the inclination in the projection direction".例文帳に追加

ここで、テストパターンは、「結像光学系２による投射方向の傾きによって歪んだときに標準図形に近い形状となる部分図形を、投射方向の傾きに対応して複数備えている」ものとなっている。 - 特許庁

After a preparatory resist pattern 63 having a projection part 63T at a position P3 corresponding to a flare point is formed by selectively exposing and developing a resist film, the preparatory resist pattern 63 is heated to form a resist pattern for forming a main magnetic pole layer.例文帳に追加

レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置Ｐ３に突起部６３Ｔを有する前準備レジストパターン６３を形成したのち、その前準備レジストパターン６３を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The lithographic device includes the radiation source that generates the radiation, an illuminating system that adjusts the radiation, a pattern giving device that gives a pattern to the adjusted radiation, and a projection system that projects the pattern given radiation onto the targeted section of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

To provide a wiring board provided with metal foils, a metal foil and a pattern conductor layer, or pattern conductor layers which are provided adjacent to each other through the intermediary of an insulating layer and electrically connected together with a bump (projection) that is formed by the plastic deformation of the metal foil or the pattern conductor layer itself.例文帳に追加

配線基板において、絶縁層を介して隣接する金属箔同士が、又は金属箔とパターン導体層とが、あるいはパターン導体層同士が、金属箔又はパターン導体層自体の塑性変形で形成されたバンプ（突起）にて電気的に導通可能な配線基板の提供。 - 特許庁

To prevent a position of a pattern formed on a work by projection exposure from being deviated from a position of a pattern formed by previous exposure processing and a position of a mask pattern for screen printing or the like to be executed in the next step, even in the case of the occurrence of telescopic deformation on the work.例文帳に追加

ワークに伸縮変形が生じても、投影露光によりワークに形成するパターンの位置を、それ以前の露光処理により形成されているパターンの位置と、次の工程で行うスクリーン印刷等のマスクパターンの位置との間に大きなずれを生じさせないようにすること。 - 特許庁

By the configuration, since the absorption part pattern has the forward tapered shape, the interruption of the exposure light by the absorption part pattern at the edge part of the absorption part pattern is suppressed, and the influence of the projection effect by the incident angle of the exposure light is suppressed.例文帳に追加

本発明の構成によれば、吸収部パターンが順テーパ形状を備えるため、吸収部パターンのエッジ部において露光光が吸収部パターンに遮られることを抑制することが出来、露光光の入射角度による射影効果の影響を抑制することができる。 - 特許庁

A pattern image projected onto an inspection aspheric surface 8a by a projection system 2 is constituted so that a deformed pattern image imaged when being projected onto a reference shape surface which is a shape reference of the inspection aspheric surface 8a becomes equal to a prescribed resolvable reference pattern.例文帳に追加

投影系２により被検非球面８ａに投影されるパターン像は、被検非球面８ａの形状基準となる基準形状面に投影された場合に撮像される変形パターン像が、解像可能な所定の基準パターンと等しくなるように構成される。 - 特許庁

The measuring projection light pattern PLa of the headlight 1 provided at the left side of an automobile is distributed rightward and obliquely upward from the parking light lens 7 and the measuring projection light pattern PLb of the headlight 1 which is provided at the right side is distributed leftward and obliquely upward from the parking light lens 7.例文帳に追加

自動車の左側に設けられたヘッドライト１の測定用投光パターンＰＬａは、駐車光用レンズ７から右方向の斜め上に配光され、右側に設けられたヘッドライト１の測定用投光パターンＰＬｂでは、駐車光用レンズ７から左方向の斜め上に配光される。 - 特許庁

When one of the projection surface pattern stored in the memory is chosen or it detects the moving user's viewing points, it drives the actuator 3 with the actuator controller 5 to deform the elastic screen 1 following the moving viewing points and the projection surface pattern.例文帳に追加

メモリ部に記憶された投影面形状パターンが選択された場合や、ユーザの視点位置の変化を検知した場合には、当該投影面形状パターンまたはユーザの視点位置の変化に応じて伸縮性スクリーン１の形状を変化させるために、アクチュエータ制御装置５によりアクチュエータ３を駆動制御する。 - 特許庁

This pattern forming method comprises a process of forming a block copolymer layer on a substrate and a process of forming a pattern in the block copolymer layer by regularly arranging a plurality of segments for constituting the block copolymer by pressing a projection part of a mold having the projection part against a surface of the heated block copolymer layer.例文帳に追加

基板上にブロックコポリマー層を形成する工程と、加熱した前記ブロックコポリマー層の表面に凸部を有するモールドの前記凸部を押し当て、前記ブロックポリマーを構成する複数のセグメントを規則的に配列させて前記ブロックコポリマー層にパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a projection optical system which has the focus position less varied and allows a deep focal depth to be secured and to provide an exposure device and a method of forming a circuit pattern which allow a minute pattern to be faithfully and efficiently formed by providing the projection optical system.例文帳に追加

合焦位置変動が少なく実質的に深い焦点深度を確保することができる投影光学系を提供するとともに、当該投影光学系を備えることで微細なパターンを忠実に且つ効率的に形成することができる露光装置及び回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

After coating the lower clad layer 2, a mold forming a recess and projection pattern to the coated lower clad layer 2 is pressed to form a groove on the lower clad layer 2 by transferring the recess and projection pattern on the surface of the lower clad layer 2, and successively the plurality of the cores 1a and 1b are coated at prescribed height to form the core layer in the groove.例文帳に追加

下部クラッド層２の塗工後に、塗工された下部クラッド層２に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層２表面に転写することにより下部クラッド層２に溝部を形成し、溝部内に順次、所定高さで複数のコア部１ａ、１ｂを塗工して、コア層を形成する。 - 特許庁

In the device and method for adjusting the stereoscopic image display device, a test pattern image is projected on a screen 26 via an aperture member 36 attached to a center projector 24e via the projection lens 28e, and the position of the projection lens 28e is adjusted so that an appropriate test pattern image is obtained.例文帳に追加

本発明は、立体画像表示装置の調整装置及び調整方法に関するものであり、中央のプロジェクタ２４ｅに投影レンズ２８ｅを介して装着したアパーチャ部材３６を介してスクリーン２６にテストパターン画像を投影し、適切なテストパターン画像が得られるように、投影レンズ２８ｅの位置を調整する。 - 特許庁

In the pattern projection aligner or a method therefor, a first exposure mechanism for creating a pattern with thin width, and a second exposure mechanism for creating a pattern with a line width thicker than that of the first exposure mechanism are provided, the relative positional relation between the first and second exposure mechanisms is detected, and pattern exposure is made, based on the detected positional relation.例文帳に追加

パターン露光装置または方法において、線幅の細いパターンの作製が可能な第１の露光機構と、該第１の露光機構よりも線幅の太いパターンの作製を行う第２の露光機構とを備え、該第１の露光機構と該第２の露光機構との相対位置関係を検出し、該検出した位置関係に基づいてパターン露光するように構成する。 - 特許庁

More specifically, the process sets a limit region pattern 262 for specifying a limit region 40 (a), the process sets a dummy pattern 310 for specifying a dummy projection region 32 (b), and the process synthesizes the limit region and dummy patterns 262 and 310 and completely eliminates the dummy pattern 310 that at least partially overlaps with the limit region pattern 262 (c).例文帳に追加

（ａ）制限領域４０を規定する制限領域パターン２６２を設定する工程、（ｂ）ダミー凸部領域３２を規定するダミーパターン３１０を設定する工程、（ｃ）制限領域パターン２６２とダミーパターン３１０とを合成する工程であって、制限領域パターン２６２に少なくとも部分的に重なる、ダミーパターン３１０は、完全に排除される。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

A moving mechanism integrally moves the first reflector 28 and the fourth reflector 34 so as to avoid formation of the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4, and avoids projection of glare to a target object such as a front-traveling vehicle existing in the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4.例文帳に追加

移動機構は、第１リフレクタ２８および第４リフレクタ３４を、第１個別配光パターンＰＨ１および第４個別配光パターンＰＨ４の形成を回避させるよう一体的に移動させ、第１個別配光パターンＰＨ１または第４個別配光パターンＰＨ４に存在する前走車などの対象物へのグレアの付与を回避する。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

In the case of fixing the dielectric feeder 5 to the waveguide 1, the projection 7 is inserted to one of the slits 6 and butted to the end of the slit to decide a projection amount of a radiation section 5b projected from the opening of the waveguide 1 and an optional radiation pattern is selected depending on the projection amount.例文帳に追加

そして、誘電体フィーダ５を導波管１に固定する際、凸部７を各スリット６の１つに挿入して端部に突き当てることにより、導波管１の開口端から突出する放射部５ｂの突出量を決定し、その突出量に応じて放射パターンを最適なものに合わせる。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

When exposing a substrate to a pattern by projecting the image of the pattern upon the substrate through a projection optical system and a liquid, the condition of the liquid immersion performed on the substrate is decided in accordance with a film member formed on the liquid contact surface of the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。 - 特許庁

Then, the drawing pattern multiplexing apparatus 1 projects the vector relating to normal information onto a normal projection plane having the specific azimuthal angle for each drawing pattern by a normal information converting means 27.例文帳に追加

次に、図柄多重化装置１は、法線情報変換手段２７によって、法線情報に係るベクトルを、図柄ごとに特定の方位角を持つ法線投影面に投影し、投影されたベクトルに係る仰角を変換法線情報とする。 - 特許庁

An area division part 28 judges whether the quantity of displacement of the photographed pattern by the camera 3 to the projection pattern is at least a specific value or not and a re-coding part 29 assigns a new code in a region where the specific value is at least a specific value.例文帳に追加

投影パターンに対するカメラ３による撮影パターンの変化量が所定値以上かどうかを領域分割部２８で判断し、所定値以上の領域には再コード化部２９で新たなコードを割り付ける。 - 特許庁

A shape of an X-direction projection histogram for making a standard pattern of a character 'Large' (a Chinese character) by counting the number of black dots existing in the X direction in accordance with a position in Y direction becomes a unique shape proper to the standard pattern.例文帳に追加

文字「大」の標準パターンを、Ｙ方向上の位置別に、Ｘ方向上に存在する黒ドットの数を計数することで作成したＸ方向の投影ヒストグラムの形状は、その標準パターンに固有のユニークなものとなる。 - 特許庁

The coil substrate 20 includes a hole to be fitted with a stator pin 12 which is a projection of the stator core 11, a coil pattern 21 formed around the hole, and a lead wire 27 connected to the coil pattern formed on the coil substrate 20.例文帳に追加

コイル基板２０は、ステータコア１１の突起部であるステータピン１２に嵌り合う穴と、その穴を中心にして形成されたコイルパターン２１と、コイル基板２０に形成されたコイルパターンに接続されたリード線２７と、を備える。 - 特許庁

An image forming apparatus includes projecting means that projects a predetermined pattern to an original document conveyed in an original document reading apparatus, and a reading unit of the original document reading apparatus also reads a projection image of the predetermined pattern at the time of reading the original document.例文帳に追加

原稿読取装置において搬送される原稿に所定のパターンを投影する投影手段を備えており、原稿読取装置の読取部では原稿を読み取る際に所定のパターンの投影画像も併せて読み取る。 - 特許庁

Each light distribution pattern formed of each optical unit 4a to 4c is set up by changing materials of projection lenses 7a to 7c and their curvatures, and the low-beam light distribution pattern is formed by synthesizing the light distribution patterns.例文帳に追加

各光学ユニット４ａ〜４ｃで形成される夫々の配光パターンは投影レンズ７ａ〜７ｃの材質及びその曲率を変えることで設定され、それら配光パターンの合成によってすれ違いビーム用配光パターンが形成される。 - 特許庁

This lithography device is provided with a projection system for forming the image of a pattern on a negative resist layer configured so that the pattern-formed beam can be projected to the target section of the substrate to which the negative resist layer is attached.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、さらに、パターン形成されたビームをネガ型レジスト層が付着している基板の目標部分に投影するように構成された、ネガ型レジスト層上にパターンのイメージを形成するための投影システムを備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fine optical pattern with good yield on a sheet where the optical pattern is formed of light absorbing material and light reflecting material or the like used for a back projection type television and a liquid crystal display device or the like.例文帳に追加

背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等に使用される光吸収材、光反射材等により光学パターンが形成されたシートにおいて、微細な光学パターンを歩留まりよく製造する方法を提供する。 - 特許庁