| 例文 |
projection patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1256件
In the heating process, an influence of thermal contraction is reduced because the projection part 63T is formed on the preparatory resist pattern 63, so the preparatory resist pattern 63 is not apt to become round at the position P3.例文帳に追加
加熱工程において、前準備レジストパターン63に突起部63Tが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置P3において前準備レジストパターン63が丸みを帯びにくくなる。 - 特許庁
To eliminate the effect caused by that positions of a pattern at odd number and even number fields are deviated from each other in an image signal representing an adjustment pattern in the case of adjusting convergence of a projection display device using a CRT.例文帳に追加
CRTを用いた投写型表示装置のコンバーゼンス調整に当たり、調整用パターンを表わす画像信号において奇数フィールドと偶数フィールドとでパターンの位置がずれていることによる影響をなくす。 - 特許庁
The projector 1 projects, onto a screen 3, a white or gray test pattern (color adjustment image) formed on a projection device 14 by an image processing unit 15, and the test pattern projected on the screen 3 is imaged by a camera 12.例文帳に追加
プロジェクタ1は画像処理部15が投射デバイス14上に形成させた白又は灰色系のテストパターン(色調整用画像)をスクリーン3へ投射し、スクリーン3に投射されたテストパターンをカメラ12で撮像する。 - 特許庁
Correction pattern image data is used to process image data input to a projector and the distortion of the projection image due to the curved surface distortion of a screen is corrected.例文帳に追加
補正パターン画像データを用いて、プロジェクタに入力された画像データを処理して、スクリーンの曲面歪みに起因する投写画像の歪みを補正する。 - 特許庁
To provide a reflection type projection optical system which can project an image of a desired pattern at a desired magnification with the high accuracy, and an exposure system using the same.例文帳に追加
所望のパターンの像を所望の倍率で高精度に投影することが可能な反射型投影光学系、及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁
The immersion exposure apparatus 100 includes a projection optical system 2 configured to project a pattern of an original 10 onto the substrate 44 via a liquid 42 to expose the substrate 44 to light.例文帳に追加
液浸露光装置100は、原版10のパターンを投影光学系2および液体42を介して基板44に投影して基板44を露光する。 - 特許庁
This projection aligner exposes a pattern drawn on an original onto a substrate, and the linear motor having a coil that is wound by laminating a foil-like conductor is provided.例文帳に追加
原版面に描かれたパターンを基板に露光するための露光装置において、箔状導体が積層して巻かれたコイルを具備するリニアモータを設ける。 - 特許庁
A position deviation arithmetic unit 15 detects a position deviation amount between the projection image projected from the display element 13 and the screen 2 on the basis of the pattern image.例文帳に追加
位置ずれ演算装置15は、パターン画像に基づいて、表示素子13から投射される投射画像とスクリーン2との間の位置ずれ量を検出する。 - 特許庁
To provide method and device for easily and accurately adjusting the position for irradiation with charged particles, which is appropriate for forming a pattern using the self projection method.例文帳に追加
セルプロジェクション法を用いたパターン形成において好適な、荷電粒子照射位置調整を容易かつ正確に行なう方法および装置を提供する。 - 特許庁
To provide a projection exposure apparatus transferring by exposure a circuit pattern of a mask onto an exposure object with high accuracy while preventing production of foreign matter or dust.例文帳に追加
ゴミ又はホコリを発生させることなく高精度にマスクの回路パターンを被露光体に露光できるようにすることが可能な投影露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a projector unit and an illuminator device projecting an inspection pattern on the light reception surface of an imaging device without using a projection lens.例文帳に追加
投影レンズを用いず検査用パターンを撮像素子の受光面に投影することができる投影ユニット及び撮像素子検査用照明装置を提供する。 - 特許庁
To provide projection optical equipment which can align an image plane of a pattern and an exposed surface of a photosensitive substrate with each other without increasing the size of a substrate stage.例文帳に追加
基板ステージを大型化することなくパターンの像面と感光基板の被露光面とを合致させることができる投影光学装置を提供する。 - 特許庁
To solve the problem wherein the risk of a part of an irradiated image from a projection lens of a luminous chip from popping out of the cut-off line of the basic light distribution pattern and turning into glare.例文帳に追加
発光チップの投影レンズからの出射像の一部が基本配光パターンのカットオフラインから飛び出してグレアとなる虞がある点にある。 - 特許庁
To easily obtain higher resolution of an exposure pattern with an inexpensive proximity exposure type aligner without using an expensive projection exposure type aligner.例文帳に追加
高価な投影露光方式の露光機を使用せずに安価な近接露光方式の露光機を使用して露光パターンの高解像度化を容易に実現する。 - 特許庁
To provide a shape measurement apparatus for measuring a three-dimensional shape of a target by a simple method using one type of a projection pattern.例文帳に追加
1種類の投影パターンを用いた簡便な方法で被検物の三次元形状を測定することができる形状測定装置を提供する。 - 特許庁
A cross section setter 4 determines the cross section of the tunnel based on a projection pattern of the point group projected in parallel with the axis 10 to the surface orthogonal to the axis 10.例文帳に追加
断面設定部4は、軸10に直交する面に対して軸10に平行に射影した点群の射影パターンによりトンネルの断面を求める。 - 特許庁
Either of a pattern 50 and a waste land 52 is arranged in projection regions R1 and R2 on printed wiring surfaces 20 and 22 of an inner layer 12.例文帳に追加
内層12におけるプリント配線面20,22における投影領域R1,R2には、パターン部50及び捨てランド52の一方が配置されている。 - 特許庁
A projection optical unit PL1 forms an image on a first surface (where a pattern DP formed on a mask is arranged) on a second surface (the upper face of a plate P).例文帳に追加
投影光学ユニットPL1は、第1面(マスクに形成されたパターンDPが配置され面)の像を第2面(プレートPの上面)上に結合させる。 - 特許庁
To reduce the influence of noise by multiple reflection by detecting a multiplex reflection light area by pattern projection and simple image processing.例文帳に追加
パターン投影と簡便な画像処理で多重反射光領域の検出を行うことにより、多重反射によるノイズの影響を低減することを目的とする。 - 特許庁
Meanwhile, the pattern variation on a moving body surface may be sharply and surely detected by illuminating the field of photograph with a specific projection patten.例文帳に追加
またこのとき、所定の投影パターンで被写界を照明することにより、動体表面のパターン変化を鋭敏かつ確実に検出するようにしてもよい。 - 特許庁
A test pattern formed on a test reticle Rt is projected onto a light reception surface 42 of an image pickup mechanism 41 via a projection optical system PLe to be inspected.例文帳に追加
テストレチクルRt上に形成されたテストパターンを、被検投影光学系PLeを介して撮像機構41の受光面42上に投影する。 - 特許庁
The second wiring pattern 22 is formed so that an orthographic projection 122 onto the first surface 11 may be prevented from both overlapping on and contacting the alignment mark 14.例文帳に追加
第2の配線パターン22は、第1の面11への正射影122が、アライメントマーク14とオーバーラップ及び接触のいずれもしないように形成されてなる。 - 特許庁
The projection original plate 2 is has a light transmission point at the position showing the celestial body such as a fixed star, and the pattern of the celestial body to be projected is recorded thereon.例文帳に追加
投映原板2は,恒星等の天体を表す位置に透光点が設けられおり,投映される天体のパターンが記録されているものである。 - 特許庁
Even if repairing of a profile shape and repairing of color variation are applied to the pattern 6b of the projection part 5, the portion can be made unclear and inconspicuous.例文帳に追加
凸部5の絵柄6bに輪郭形状の補修や色変化の補修を施してもその部分を不鮮明にして目立たないようにすることができる。 - 特許庁
In the process of printing, the antenna pattern (30) to be formed in a projection shape including at least the top surface (42a) is simultaneously printed by pressing the pad.例文帳に追加
この印刷工程は、上記タンポ押し付けによって、すくなくとも天面(42a)を含む凸形状に形成させるアンテナパターン(30)を同時に印刷する。 - 特許庁
The selected projection pattern is projected (S15), the situation is photographed by the two cameras (S16), and the distance image is calculated from the acquired image (S17).例文帳に追加
選択された投影パターンを投影して(S15)、2台のカメラでその様子を撮影し(S16)、得られた画像から距離画像を算出する(S17)。 - 特許庁
When a projection unit projects light of a predetermined pattern on the base surface from a position higher than the base surface, a camera unit performs photographing on the base surface.例文帳に追加
投影部がこの台面よりも高い位置から同台面上に所定の絵柄の光を投影すると、カメラ部は上記台面上の撮影を行なう。 - 特許庁
The substrate formed with the resist film is transferred to an exposure device which is provided with a reticle formed with a pattern and a projection optical system (step ST105).例文帳に追加
前記レジスト膜が形成された基板を、パターンが形成されたレチクルおよび投影光学系を具備する露光装置に搬送する(ステップST105)。 - 特許庁
A pattern is projected onto a target through a projection system by a beam of highly energetic charged particles of largely a species of a nominal mass having a nominal kinetic energy.例文帳に追加
パターンが、主に、名目運動エネルギーを有する名目質量の種の高エネルギー荷電粒子のビームを用いて、投射システムを介して対象に投射される。 - 特許庁
In the decorative construction plate, the pattern 6 is formed by performing ink jet printing on a surface of a base material 1 formed with a recession part 4 and a projection part 5.例文帳に追加
凹部4と凸部5を形成した基材1の表面にインクジェット印刷することによって絵柄6を形成するようにした化粧建築板に関する。 - 特許庁
The three-dimensional information input camera is provided with a photographing means that photographs a photographing area and with a projection means that projects a pattern light to the photographing area.例文帳に追加
3次元情報入力カメラは、撮影領域を撮影する撮影手段と、撮影領域にパターン光を投影する投影手段とを備える。 - 特許庁
After installing the mask in the lithographic projection apparatus, changes in the position of the mask pattern surface along the optical axis can be determined by using an interferometer.例文帳に追加
リソグラフィ投影機器にマスクを設置した後で、干渉計によって光軸に沿ったマスクのパターン表面の位置の変動を求めることができる。 - 特許庁
To provide a projection lens for imaging a pattern arranged in an object plane onto an image plane by employing electromagnetic radiation from an extreme-ultraviolet (EUV) region.例文帳に追加
極遠紫外線(EUV)領域の電磁放射を用いて物体平面上に配置されたパターンを像平面上に結像する投影レンズを提供する。 - 特許庁
An additional pattern 18 is formed by solder resist on a commutator surface side of the projection portion 14 of a printed wiring commutator 10 comprising the compact printed wiring board.例文帳に追加
小型プリント配線板からなるプリント配線整流子10の突起部14の整流子面側には、ソルダーレジストにより付加パターン18が形成される。 - 特許庁
To solve the problem of the conventional stereogram in which: planar projection drawing cannot be a stereoscopic vision when producing a utensil having a pattern of single image random dot stereogram.例文帳に追加
シングルイメージ・ランダムドット・ステレオグラムの模様を持った器物を作成する場合、従来の平面投影を描画したステレオグラムでは立体視できない。 - 特許庁
The first elastic piece 103 includes a first contact section 113 in contact with a conductor pattern on the surface of an inserted projection section inserted into an insertion recessed section 45.例文帳に追加
第1の弾性片部103は、挿入凹部45に挿入された挿入凸部の表面の導体パターンと接触する第1の接触部113を含む。 - 特許庁
The polishing surface supports a second type of second substrate, and the projection system is so constituted as to project the radiation beam, provided with the pattern, to the second substrate.例文帳に追加
研磨面は第2のタイプの第2の基板を支持し、投影系は、パターン付与された放射ビームを第2の基板に投影するように構成される。 - 特許庁
The intermediate coat layer 4 is formed by applying intermediate coat paint to a surface of the priming coat layer 3, and forms a recess-projection surface along the uneven pattern 211.例文帳に追加
中塗り層4は、下塗り層3の表面に中塗り塗料を塗布してなり、凹凸模様211に沿った凹凸表面を形成してなる。 - 特許庁
To provide a projection exposing machine which can suppress deviation of a superposed pattern of a sample having size variation with processes within a permissible range.例文帳に追加
工程によって寸法変化を示す試料について、重ね合わせたパターンのずれを許容範囲内に収めることが可能な投影露光機を提供する。 - 特許庁
Here, for the reduction process, a projection vertical to the gate electrode is arranged in the partial region by using a mask pattern.例文帳に追加
ここで、上記低減工程は、上記一部領域に、マスクパターンを用いて上記ゲート電極に垂直な突出部を設ける工程とすることなどができる。 - 特許庁
This aligner is equipped with illumination systems 1 to 15 which illuminates a mask 16, and a projection optical system 18 which projects an image of the pattern of the mask on a substrate 19.例文帳に追加
マスク(16)を照明する照明系(1〜15)と、マスクのパターンの像を基板(19)上に投影する投影光学系(18)とを備えた露光装置。 - 特許庁
To reduce unnecessary vibration bringing fading of a pattern projected on a target part of a substrate in continuously vibrational movement in a projection system.例文帳に追加
本投影システムは、常時振動的に動いており、基板の目標部に投影されたパターンのフェージングをもたらす不要な振動を減少させることを意図する。 - 特許庁
At exposing, an exposure process is carried out to restore the originally designed pattern by subjecting the projection optical system and/or the stage operation to a correction reverse to the above correction.例文帳に追加
露光時には、投影光学系及び/又はステージ動作に前記補正の逆の補正を行って本来の設計パターンを復元するように露光する。 - 特許庁
To enlarge the projection range of a pattern image while maintaining an excellent image forming state in response to need for enlargement of a focus detection area.例文帳に追加
焦点検出領域の拡大化の要求に伴い、良好な結像状態を維持しつつパターン像の投影範囲を拡大しなくてはならない。 - 特許庁
A large number of dotted projection portions forming ivory wood grain pattern 14 is formed by texturing on the surface of the base section 11a of the white key cover 11.例文帳に追加
また、白鍵カバー11の基部11aの表面には、象牙の板目模様14を形成する多数のドット状の凸部がシボ加工によって形成されている。 - 特許庁
The projection device projects on a screen, etc., an image of characters, a pattern, etc., drawn on a translucent sheet such as an OHP sheet placed on a stage.例文帳に追加
ステージ上に乗せられたOHPシートなどの透光性シートに描かれた文字や図柄等の画像をスクリーン等に投影する投影装置である。 - 特許庁
Slit light is projected from the projection device 1 onto an object Ob, and a pattern formed on the object Ob surface is imaged by an imaging device 2.例文帳に追加
投影装置1からスリット光が物体Obに投影され、物体Obの表面に形成されるパターンが投影装置2により撮像される。 - 特許庁
The exposure apparatus EX exposes a substrate P by projecting an image of a pattern on the substrate P through a projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加
露光装置EXは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上にパターンの像を投影することによって、基板Pを露光する。 - 特許庁
The stripe pattern 2 in the form of the concentric circles can be formed by using a projector or an optical interference projection device having a semiconductor laser, for example.例文帳に追加
同心円状の縞模様2は、例えばプロジェクタあるいは半導体レーザを用いた光干渉投射装置を用いて形成することができる。 - 特許庁
A system comprising an illumination system for supplying a radiation beam, an array of individually controllable elements for forming a pattern to the beam, and a projection system are disclosed.例文帳に追加
放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|