「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an image feature of a measurement object and a distance image at the same time using a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により、測定対象物の画像特徴と距離画像とを同時に取得することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the exposure device which transfers a pattern formed on an original plate through a projection optical system to a substrate.例文帳に追加

本発明は、投影光学系を介して原版に形成されたパターンを基板に転写する露光装置である。 - 特許庁

To provide a pattern exposing method and an aligner device capable of exposing a fine pattern using a mask original plate on which a relatively large pattern is formed in a reduced projection exposing method utilizing holography.例文帳に追加

ホログラフィを利用した縮小投影露光方法において、比較的大きなパターンが形成されたマスク原盤を用いて微細パターンを露光することのできるパターン露光方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

An iterative process (S15) of simulating an aerial image that would be produced by the pattern (S12), comparing the simulation to the desired pattern (S14), and adjusting the OPC features may be used to generate an optimum pattern for projection.例文帳に追加

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートS12し、シミュレーションを所望のパターンと比較しS14、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程S15を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁

To provide a projection aligner that can set the size of a pattern that is formed on a light-sensitive substrate and at the same time the division position of the pattern on a mask can be arbitrarily set when allowing the division pattern to be subjected to joint exposure.例文帳に追加

分割パターンを継ぎ露光する際、感光基板に形成されるパターンの大きさを任意に設定できるとともに、マスク上におけるパターンの分割位置を任意に設定できる露光装置を提供する。 - 特許庁

A program generates data on the original pattern used in an exposure apparatus forming a latent image of a target pattern on a substrate by projecting the original pattern on the substrate through a projection optical system in an original data generation program.例文帳に追加

原版データ生成プログラムは、投影光学系を介して原版パターンを基板に投影することによって該基板に目標パターンの潜像を形成する露光装置で使用される前記原版パターンのデータを生成する。 - 特許庁

The best pattern for projection can be generated by simulating a space to be output by the pattern, comparing the simulation with an expected pattern and using a repetitive processing process adjusting the OPC features.例文帳に追加

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートし、シミュレーションを所望のパターンと比較し、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁

The system includes a pattern generator 104 with multiple pattern generating devices, a projection system 108 for directing light from the pattern generator 104, and an aperture located at or near an object window 210.例文帳に追加

複数のパターン生成装置を備えたパターンジェネレータ１０４と、パターンジェネレータ１０４からの光を配向する投影システム１０８と、対象物ウィンドウ２１０のところにまたはその近くに配置されたアパーチャが設けられている。 - 特許庁

This instrument has a grid pattern projection device 6 formed as a unit and equipped with a grid pattern 609 arranged on the optical path of light from a light source device 14 and having slit-shaped light transmission parts formed at fixed-interval pitches, and with a projection optical system 611 for projecting a grid pattern image formed by the grid pattern 609 to a specimen 3 at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置１４からの光の光路に配置される、スリット状の光透過部を一定間隔のピッチで形成した格子パターン６０９、この格子パターン６０９より形成される格子パターン像を標本３に対し所定角度傾けて投影する投影光学系６１１を具備したユニット化された格子パターン投影装置６を有する。 - 特許庁

The image of a 1st master pattern serving as a check standard is contracted to produce a 2nd master pattern that is used for detecting the deficiency or disconnection and then the 1st master pattern is expanded to produce a 3rd master pattern that is used for detecting a projection or short circuit (103).例文帳に追加

検査の基準となる第１のマスタパターンの画像を収縮処理して欠損又は断線検出用の第２のマスタパターンを作成し、第１のマスタパターンを膨張処理して突起又は短絡検出用の第３のマスタパターンを作成する（ステップ１０３）。 - 特許庁

By moving a pointing device 200 on the projection plane 430, the image pattern 400 is read, and a moving track of the pointing device is synthesized with the projection plane 430 and displayed.例文帳に追加

ポインティング装置２００を投影面４３０で移動することで、画像パターン４００が読取られ、ポインティング装置の移動軌跡が投影面４３０に合成されて表示される。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate by filling a liquid between a projection optical system and the substrate, and projects the image of a pattern onto the substrate through the projection optical system and the liquid.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。 - 特許庁

The exposure apparatus fills a space between a projection optical system and a substrate with liquid and exposes the substrate by projecting an image of a pattern onto the substrate via the projection optical system and the liquid.例文帳に追加

この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。 - 特許庁

An exposure apparatus comprises a stage 4 for holding a substrate to which a pattern is projected by a projection optical system PL, and the nozzle 70 for treating liquid between the projection optical system PL and the substrate.例文帳に追加

投影光学系ＰＬによりパターンが投影される基板を保持するステージ４と、投影光学系ＰＬと基板との間で液体を処理するノズル部７０とを有する。 - 特許庁

Therefore, limitation of a recess/projection shape of the recess/projection pattern 22A which can be formed on the outer periphery surface of the base layer 22 can be suppressed even when the outer periphery surface of the base layer 22 is curved.例文帳に追加

このため、ベース層２２の外周面が湾曲されている場合でも、ベース層２２の外周面に形成できる凹凸柄２２Ａの凹凸形状が制限されることを抑制できる。 - 特許庁

Similarly, from a taken image of the projection pattern projected by the projector 6 on the reference plate 1 and the specimen, a projection phase image and a specimen phase image are obtained respectively.例文帳に追加

同様に、基準平板１及び試料にプロジェクタ６から投影された投影パターンが撮像された画像をもとに、それぞれ投影位相画像及び試料位相画像が求められる。 - 特許庁

A projection 53 is provided to the upper edge of the FPC board 50, and an outer terminal 54 electrically connected to the extension wiring pattern 52 is provided to the tip of the projection 53.例文帳に追加

ＦＰＣ基板５０の上端部には突出部５３が設けられ、この突出部５３の先端に、延長配線パターン５２に導電接続された外部端子部５４が形成されている。 - 特許庁

Phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts is acquired by successively irradiating the substrate with pattern illumination (S110).例文帳に追加

複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

To effectively enhance illumination efficiency by providing a projection system in which the projection pattern of a light beam projected to an optical path switching device is fully enclosed by the light receiving area of the optical path switching device.例文帳に追加

光路スイッチング装置へ投影された光線の投影パターンが、光路スイッチング装置の受光域に完全に入れる投影システムを提供し、照明効率を効果的に高める。 - 特許庁

For example, about the image including the line string pattern, the projection waveform projected in the linear direction is acquired, an edge is obtained by the differential processing of the projection waveform, and the middle point of the pair of the edges of both sides in the outermost position is defined to be the position of the line string pattern.例文帳に追加

例えば、線列パターンを含む画像について、線方向に投影した投影波形を取得し、投影波形の微分処理によりエッジを求め、最外位置にある両側のエッジのペアの中点を線列パターンの位置とする。 - 特許庁

The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁

The pattern reflection projection article 1 is formed with a thick pattern 2a, 2b in the back side and a recessed distortion pattern 4a, 4b in the front side in a portion corresponding to the above pattern, and has a fine rugged surface in the distortion pattern to induce a diffraction phenomenon.例文帳に追加

パターン反射投影物品１は、背面側に厚肉のパターン２ａ，２ｂが形成されていると共に、表面側の上記パターンに対応する部分に凹状の歪パターン４ａ，４ｂが形成されており、かつ、少なくとも上記歪パターンの表面が回折現象を呈する微細な凹凸状に形成されている。 - 特許庁

The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.例文帳に追加

本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁

In the image projection device equipped with a spatial light modulator for forming an image pattern, an illumination optical system for illuminating the spatial light modulator, and a projection optical system for projecting the image pattern, the image projection device further includes a driving mechanism that moves some or all of the projection optical system in an optical axis direction by making a shape memory alloy to elongate and contract, subjected to temperature change.例文帳に追加

画像パターンを形成する空間光変調素子と、前記空間光変調素子を照明する照明光学系と、前記画像パターンを投影する投影光学系と、を備えた画像投影装置において、 形状記憶合金を温度変化させて伸縮させることにより前記投影光学系の一部若しくは全てを光軸方向に移動させる駆動機構を有すること。 - 特許庁

Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate.例文帳に追加

即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 - 特許庁

Then, a flare value of a projection optical system included in an exposure device is calculated using pattern mean density of the mask patterns after correcting.例文帳に追加

そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 - 特許庁

This projection optical system projects the image of a pattern formed on a 1st surface (M) to a 2nd surface (P) at substantially unmagnified power.例文帳に追加

第１面（Ｍ）に形成されたパターンの像を第２面（Ｐ）上へ実質的に等倍の倍率で投影する投影光学系。 - 特許庁

The width and length of each of the projection parts 2a are substantially equal to those of the connection pattern 4 from the viewpoint of a thickness direction of the insulation sheet body 1.例文帳に追加

絶縁シート体１の厚み方向から見て突起部２ａの幅と長さとは接続パターン４のそれらと略等しい。 - 特許庁

The pattern of the block copolymer layer is formed between a recessed part of the block copolymer layer formed by pressing the projection part of the mold.例文帳に追加

前記モールドの凸部を押し当てて形成されたブロックコポリマー層の凹部の間に、ブロックコポリマー層のパターンを形成される。 - 特許庁

In the present projection system, the pattern surface on the reticle is lightened so that a projected image that focuses on an image-forming surface can be obtained.例文帳に追加

本発明の投影システムでは、結像面に集束した投影像が得られるようにレチクル上のパターン面を照明する。 - 特許庁

To detect the three-dimensional shape of an object to be measured with a desired accuracy by making changeable the interval of a projection pattern.例文帳に追加

投影パタ−ンの縞等の間隔を変更可能にし、被計測物体の３次元形状を所望の精度で検出する。 - 特許庁

To provide a polishing device capable of surely conducting polishing work and preventing excess cutting when a projection exists on a pattern surface.例文帳に追加

パターン面に突起が存在する場合において、削り過ぎることなく確実に研磨することができる研磨装置を提供する。 - 特許庁

A pattern image on the reticle 5 is focused on the surface of wafer 7 with a projection optical system 6.例文帳に追加

レチクル５上のパターンを透過した光は、投影光学系６によって、レチクル５上のパターンの像をウエハ７面に結像する。 - 特許庁

A projection pattern 15a is formed so as to project to a colored film 4 to which a part of the colored film 4 on the array substrate is adjacent.例文帳に追加

アレイ基板上の着色膜４の一部が隣接する着色膜４に突出して突出パターン25aを形成する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional input camera with a rational configuration where a mask for pattern projection is retreated in the case of usual photographing.例文帳に追加

通常撮影時にパターン投影用のマスクを退避させる合理的な構成の３次元情報入力カメラを提供する。 - 特許庁

The distance between the pattern face of the reticle and the proximity projection part is in a range of 10 to 200 μm.例文帳に追加

また、前記レチクルのパターン面と前記接近突部との間隔が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a reticle to be used for reduction projection exposure of a wafer, wherein a pattern excellent in dimensional uniformity can be formed.例文帳に追加

縮小投影のウエハ露光に用いるレチクルに関し、寸法均一性の良いパターンを形成できるレチクルを提供する。 - 特許庁

Since a flow pattern of the dispersion medium around the rotor flanges is changed by the dispersion projection (16), the uneven distribution of the dispersion medium can be removed.例文帳に追加

この拡散突起（１６）により、ローターフランジの周囲の流動が変形され、分散媒体の偏在をなくすことができる。 - 特許庁

The apparatus for projecting a pattern on a substrate 30 from a mask 10 has a radiation source 2 and a projection optical system 12.例文帳に追加

マスク１０からパターンを基板３０上に投影するための装置は、放射線源２と、投影光学系１２と有する。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate by projecting an image of a pattern on the substrate through a projection optical system and liquid.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。 - 特許庁

The pattern of the central projection (80) of the semiconductor substrate (1) is determined so as to surround a first electrode 3 as seen in a plan view.例文帳に追加

平面的に見て第１の電極３を囲むように半導体基板（１）の中央凸部（８０）のパターンを決定する。 - 特許庁

The exposure pattern 1 for the lens aberration measuring exposure mask is projected to a photoresist via a projection lens for exposing the photoresist.例文帳に追加

このようなレンズ収差測定用露光マスクの露光パターン１を、投影レンズを介してホトレジストに投影し、ホトレジストを露光する。 - 特許庁

A lithography equipment comprises an array MLA of elements, capable of being individually controlled, which provides a projection beam having a pattern in its crosssection.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームを付与する個別に制御可能な要素のアレイＭＬＡを有する。 - 特許庁

To improve a positioning accuracy by suppressing a vibration in a projection optical system and to contribute to the improvement in a pattern projecting accuracy.例文帳に追加

投影光学系に発生する振動を抑制して位置決め精度の向上、およびパターン投影精度の向上に寄与する。 - 特許庁

A projection part 35 to be inserted into the inserting part 39 and an auxiliary circuit pattern 37 are arranged on a small auxiliary substrate 31.例文帳に追加

小さな補助基板３１には挿入部３９に挿入される突出部３５および補助回路パターン３７を設ける。 - 特許庁