「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection exposure apparatus which can form a pattern on an accurate position of a projection-object substrate even when the object substrate is deformed or distorted.例文帳に追加

被投影基板が変形したり歪んだりした場合であっても、被投影基板の的確な位置にパターンを形成することができる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

Further, on a standing up surface 8 between the projection 6 and the recessed groove 7, the linear pattern 9 along a longitudinal direction of the projection 6 is coloring-coated by the ink jet type coating machine.例文帳に追加

そしてこの凸条６と凹溝７の間の立上り面８に、凸条６の長手方向に沿った線状模様９をインクジェット式塗装機で着色塗装する。 - 特許庁

To provide a reticle for projection exposure capable of significantly suppressing an isolated pattern from thinning and to provide a method for manufacturing the reticle for projection exposure and a semiconductor device using the reticle.例文帳に追加

孤立パターンの細りを大幅に抑制できる投影露光用のレチクル、該投影露光用のレチクルの製造方法及び該レチクルを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

The pattern is transferred by controlling the imaging properties of the projection optical system, considering the environmental correction coefficient, and using the projection optical system after the correction (step 421).例文帳に追加

そして、この環境補正係数を考慮して投影光学系の結像特性を調整し、その調整後の投影光学系を用いてパターンの転写を行なう（ステップ４２１）。 - 特許庁

The device for projection and image pickup has a projector 2 and an image pickup apparatus 3, and the projector 2 has a projection optical system 10, an illumination optical system 11 and a pattern filter 12.例文帳に追加

投影撮影装置は投影装置２と撮影装置３を有し、投影装置２は投影光学系１０と照明光学系１１とパターンフィルタ１２を有している。 - 特許庁

To suppress limitation of a recess/projection shape of a recess/projection pattern which can be formed on the surface of the front side layer even when the surface of the front side layer is curved.例文帳に追加

表側層の表面が湾曲されている場合でも表側層の表面に形成できる凹凸柄の凹凸形状が制限されることを抑制する。 - 特許庁

On the other hand, in the case of displaying a background image for a performance based on a view point different from the specified view point, parallel projection is used as the projection pattern.例文帳に追加

これに対して、特定視点とは異なる視点に基づく演出用背景画像を表示させる場合には、投影パターンとして平行投影が用いられる。 - 特許庁

To provide a projection mechanism having high contrast, capable of improving contrast and illumination efficiency of a light pattern projected from the projection mechanism.例文帳に追加

投射構造から投射された光形状のコントラストと照明効率を向上することができる高いコントラストの光形状を有する投射構造を提供する。 - 特許庁

To provide plate material having the rigidity improved by providing a recess-projection part and having a pattern of the recess-projection part with rigidity improvement effect higher than before.例文帳に追加

凹凸部を設けることによって剛性を向上させた板材であって、従来よりも剛性向上効果の高い凹凸部のパターンを有する板材を提供すること。 - 特許庁

The ratio L/S of width L of the projection-shaped magnetic layer pattern in the circumferential direction thereof to an interval S between the projection-shaped magnetic layer patterns in the circumferential direction thereof is defined as L/S <1.例文帳に追加

突起状磁性層パターンの円周方向の幅Ｌと、突起状磁性層パターン同士の円周方向の間隔Ｓとの比Ｌ／ＳをＬ／Ｓ＜１とする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device for drawing a pattern on a substrate which is continuously moved relative to a projection optical system while increasing the moving speed of the substrate to improve the drawing speed of the pattern on the substrate, resulting in the improved pattern drawing efficiency of the pattern drawing device.例文帳に追加

投影光学系に対して相対的に連続移動する基板に対してパターンを描画するパターン描画装置において、基板の移動速度を増大させて基板に対するパターンの描画速度を向上し、パターン描画装置におけるパターンの描画効率を向上する。 - 特許庁

The ceramic building plate 1 is formed with the designed pattern 301 in the design projection 21 even at an end 211 close to the continuous joint part 22, and the designed pattern part 301 has a non-continuous design pattern 302 which is not continuously formed even in an adjacent design projection 210 formed adjacent to the described design projection 21 through the continuous joint part 22.例文帳に追加

窯業系建築板１は，意匠凸部２１に，連続目地部２２に近接する端部２１１まで意匠模様３０１が形成してあるが，意匠模様３０１は，当該意匠凸部２１と連続目地部２２を介して隣り合う隣接意匠凸部２１０までは連続して形成されていない不連続意匠模様３０２を有している。 - 特許庁

This projection apparatus receives an input of the pattern data representing the pattern to be formed on the projection plane, and comprises a spatial light modulator (micro-mirror array 3) for spatially modulating incident light according to the pattern data and a projecting optical system 5 for projecting the light reflected by the spatial light modulator onto the projection plane.例文帳に追加

本発明による投影装置は、投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器（マイクロミラーアレイ３）と、空間光変調器で反射された光を投影面上に縮小投影する投影光学系５とを備えた投影装置である。 - 特許庁

The device pattern PT12 is formed by forming a basic pattern PT having preset fixed width and length, and then forming a projection pattern PT13 to be coupled with the basic pattern PT at least partially.例文帳に追加

このデバイスパターンＰＴ１２の形成は、予め設定した一定の幅および長さを有する基本パターンＰＴを形成すると共に、基本パターンＰＴの少なくとも一部に連結されるように突出パターンＰＴ１３を形成することにより行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium which has a good pattern shape using a thin etching mask, and can efficiently deactivate the magnetism of a pattern recess while suppressing magnetic deterioration of a pattern projection with less pattern irregularity.例文帳に追加

薄いエッチングマスク厚での加工ながらも加工後のパターン形状がよく、少ないパターン凹凸でパターン凸部の磁性劣化を抑えつつ、効率的にパターン凹部の磁性を失活させることが可能なパターンド磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A shape of the focusing measuring precision is different between, when a projection pattern member 3 in the optical path is inserted and when the projection pattern 4 is inserted, and thus the sizes of the height detection accuracy and the height detection range are made to be different.例文帳に追加

光路中に投影パターン部材３が挿入されたときと投影パターン４が挿入されたときとでの合焦測度の形状が異なり、これにより、高さ検出精度と高さ検出範囲の大きさが異なる。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for a vehicle arranged so as to make beam projection to the road surface ahead of the vehicle with a specified light distribution pattern, capable of making the beam projection with different distribution pattern in accordance with the vehicle running situation.例文帳に追加

所定の配光パターンで車両前方路面へ向けてビーム照射を行うように構成された車両用灯具において、車両走行状況に応じて異なる配光パターンでビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁

When the two masks 4, 7 are illuminated, the aberration of the projection optical system 15 is measured on the basis of the positional relationship between individual pattern images projected from the lattice pattern groups 8, which are formed below the image surface 18 through the projection optical system 15.例文帳に追加

２枚のマスク４，７を照明したときに、投影光学系１５によって像面１８よりも下方に形成される２次元格子パターン群８の投影像の各パターン像の位置関係から、投影光学系１５の収差を求める。 - 特許庁

This device is equipped with a projector 4 which projects a coded pattern, a camera 3 which photographs the projection pattern from the optical-axis direction of the projector, and cameras 1 and 2 which photograph the projection patterns from directions different from the optical-axis direction of the projector 4.例文帳に追加

コード化されたパターンを投影する投光器４と、投光器の光軸方向から投影パターンを撮影するカメラ３と、投光器４の光軸方向と異なる方向から投影パターンを撮影するカメラ１、２とを備える。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

An image processing circuit 34a extracts the projection pattern within an image from the CCD 24a, computes the size of the projection pattern, and computes the distance from the infrared light emission end to the observed region and the irradiation angle to the observed region.例文帳に追加

画像処理回路３４ａは、ＣＣＤ２４ａからの画像内の投影パターンを抽出し、その大きさを算出して、赤外光の出射端から被観察部位までの距離、および被観察部位への照射角度を算出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reticle for easily aligning a light shielding pattern to a projection pattern of a transparent substrate while reducing the cost than a conventional method.例文帳に追加

従来よりもコストを削減しながら、遮光パターンと透明基板の凸パターンとの位置合わせを容易に行うことができるレチクルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the printed wiring board, a top surface-side circuit pattern 20 having a first protrusion 21 and a projection 22 is formed, and a reverse surface-side circuit pattern 40 having a second protrusion 41 is formed.例文帳に追加

第１突出部２１とプロジェクション２２とを有する表面側回路パターン２０を形成し、第２突出部４１を有する裏面側回路パターン４０を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The other optical path is not provided with the pattern generation element, and light passing through the other optical path is projected from the projection lens 56 as the uniform optical pattern of illumination distribution.例文帳に追加

他方の光路にはパターン生成素子は設けられておらず、当該光路を通過した光は照度分布の均一な光パターンとして投影レンズ５６から投影される。 - 特許庁

To provide a coating finishing method capable of enhancing a contamination-resistance property and a weather-resistance property of a multi-color pattern or a recession/projection pattern formed by a decorative coating material.例文帳に追加

装飾性塗材によって形成された多色模様または凹凸模様の耐汚染性、耐候性等を高めることができる塗装仕上げ方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The preamble region 50, servo-mark region 51, and servo-burst pattern region 53 are composed of projection-depression patterns (servo pattern A), comprising nonmagnetic parts 500 and magnetic parts 510.例文帳に追加

プリアンブル領域５０、サーボマーク領域５１、及びサーボバーストパターン領域５３は、非磁性部５００及び磁性部５１０からなる凹凸パターン（サーボパターンＡ）から構成されている。 - 特許庁

In the connection terminal for the electronic component of a projection type spiral conductor 1a arranging a plurality of projection type spiral contacts 2a in a grid pattern, a substrate 9 and the projection type spiral conductor 1a are connected by metal plating 5.例文帳に追加

凸型スパイラル状接触子２ａが碁盤の目状に複数配列された凸型スパイラルコンタクタ１ａの電子部品用接続端子であって、基板９と、前記凸型スパイラルコンタクタ１ａとは、金属メッキ５によって接続されている。 - 特許庁

In a projection exposure apparatus having a projection optical system projecting a pattern formed on an original plate on a substrate to be exposed, at least two oscillation measurement means are provided for measuring oscillation of the projection optical system.例文帳に追加

原版に形成されたパターンを被露光基板上に投影する投影光学系を有する投影露光装置において、前記投影光学系の振動を計測するための少なくとも２個の振動計測手段を設ける。 - 特許庁

When the infrared pulses are output during an infrared output period by one projection pattern selected from among the plurality of kinds of projection patterns, the projection output on an infrared signal from the projector 2 is made variable.例文帳に追加

これら複数種類の投光パターンのうちから選択された一つの投光パターンで赤外線出力期間中に赤外線パルスが出力されることにより、投光器２からの赤外線信号の投光出力が可変とされる。 - 特許庁

To provide a pattern material which can easily provide various colors, pictures, etc., according to projection light to be irradiated.例文帳に追加

照射される投影光に応じて、容易に様々な色、絵柄等を施すことができるパターン材を提供すること - 特許庁

To provide a technology for projecting a projection pattern used for three-dimensionally measuring a subject at high density.例文帳に追加

被写体の三次元計測時に用いる投影パターンをより高い密度で投影できるようにした技術を提供する。 - 特許庁

In the lamp unit 10, a projection lens 12 forms a light distribution pattern by irradiation light of a first light source element 20.例文帳に追加

灯具ユニット１０において、投影レンズ１２は、第１光源素子２０の照射光による配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a lithography device and a device manufacturing method for improving a critical size profile in a projection pattern.例文帳に追加

投影パターンにおける臨界寸法プロファイルを改善するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

Patterns for calibration which bring about the same pattern onto the underside by orthogonal projection are formed, respectively on the two inclined planes.例文帳に追加

２つの傾斜面には、底面に正射影したパタンが同じである校正用パタンがそれぞれ形成されている。 - 特許庁

When a projection lens 480 projects image light onto the screen 500, the image of the test pattern is displayed on the screen.例文帳に追加

投写レンズ４８０が画像光をスクリーン５００上に照射すると、テストパターンの画像がスクリーン上に表示される。 - 特許庁

The exposure apparatus transfers a pattern formed on an original plate 3 onto a substrate 4 by exposure through a projection optical system 5.例文帳に追加

投影光学系５を介して原版３に形成されたパターンを基板４に露光転写する露光装置である。 - 特許庁

A rugged structure formed as a hologram pattern according to data to be recorded has two or more kinds of projection heights.例文帳に追加

記録するデータに応じたホログラムパターンとして形成される凹凸構造の凸高さが２種類以上となるようにする。 - 特許庁

The projection system projects a pattern projecting a radiation beam onto a target part of a substrate, and the substrate is supported on a substrate table.例文帳に追加

投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板は基板テーブル上に支持される。 - 特許庁

The immersion exposure device projects a pattern of an original on the substrate through a projection optical system and a liquid and exposes the substrate.例文帳に追加

露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光する。 - 特許庁

The pattern filter 12 is supported by parallel leaf springs 17 movably along the optical axis of the projection optical system 10.例文帳に追加

パターンフィルタ１２は平行板ばね１７により投影光学系１０の光軸に沿って移動可能に支持されている。 - 特許庁

A substrate registration mark and a pattern formed on a mask R are projected onto a substrate P through a projection optical system 12 for exposure.例文帳に追加

マスクＲに形成された基板位置合わせマークとパターンとを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する。 - 特許庁

In the particle-optical projection device (32), a pattern (B) is depicted on a target tp by energy-property charged particles.例文帳に追加

粒子光学投影装置（３２）において、パターン（Ｂ）がエネルギー性荷電粒子によって標的（ｔｐ）上に描画される。 - 特許庁

The pattern is transferred to a photoresist 6 on a semiconductor wafer 5 by reduced projection exposure using the photomask M.例文帳に追加

このフォトマスクＭを用いた縮小投影露光処理によって半導体ウエハ５上のフォトレジスト６にパターンを転写する。 - 特許庁